集成电路装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111223834B

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN201910800057.2

    申请日:2019-08-28

    Abstract: 提供了集成电路装置。所述集成电路装置包括:鳍型有源区,从基底的顶表面突出,并在与基底的顶表面平行的第一方向上延伸;栅极结构,与鳍型有源区交叉,并在基底上沿与第一方向垂直的第二方向延伸;源区/漏区,在鳍型有源区中位于栅极结构的第一侧上;第一接触结构,位于源区/漏区上;以及接触盖层,位于第一接触结构上。第一接触结构的顶表面在第一方向上具有第一宽度,接触盖层的底表面在第一方向上具有比上述第一宽度大的第二宽度,并且接触盖层包括从第一接触结构的侧壁向外延伸的突出部分。

    集成电路装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111223834A

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201910800057.2

    申请日:2019-08-28

    Abstract: 提供了集成电路装置。所述集成电路装置包括:鳍型有源区,从基底的顶表面突出,并在与基底的顶表面平行的第一方向上延伸;栅极结构,与鳍型有源区交叉,并在基底上沿与第一方向垂直的第二方向延伸;源区/漏区,在鳍型有源区中位于栅极结构的第一侧上;第一接触结构,位于源区/漏区上;以及接触盖层,位于第一接触结构上。第一接触结构的顶表面在第一方向上具有第一宽度,接触盖层的底表面在第一方向上具有比上述第一宽度大的第二宽度,并且接触盖层包括从第一接触结构的侧壁向外延伸的突出部分。

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