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公开(公告)号:CN101256366B
公开(公告)日:2012-06-06
申请号:CN200810092008.X
申请日:2008-02-20
IPC分类号: G03F7/42
摘要: 本发明涉及一种光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法。提供一种光刻胶剥离组合物,其包括约80重量%-约98.5重量%的γ-丁内酯、约1重量%-约10重量%的氨基甲酸烷基酯、约0.1重量%-约5重量%的烷基磺酸和约0.1重量%-约5重量%的非离子型表面活性剂。可将该光刻胶剥离组合物再度用于从基板上剥离光刻胶膜而不降低剥离能力和损坏金属图案,使得可以降低光刻工艺的成本。
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公开(公告)号:CN1752852A
公开(公告)日:2006-03-29
申请号:CN200510105132.1
申请日:2005-09-22
申请人: 三星电子株式会社
IPC分类号: G03F7/42 , G02F1/1368
CPC分类号: G03F7/425 , H01L21/31133 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/458
摘要: 本发明提供了一种光刻胶剥离剂,包括:约5wt%至20wt%的醇胺、约40wt%至70wt%的乙二醇醚、约20wt%至40wt%的N-甲基吡咯烷酮、以及约0.2wt%至6wt%的螯合剂。
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公开(公告)号:CN1752852B
公开(公告)日:2012-02-01
申请号:CN200510105132.1
申请日:2005-09-22
申请人: 三星电子株式会社
IPC分类号: G03F7/42 , G02F1/1368
CPC分类号: G03F7/425 , H01L21/31133 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/458
摘要: 本发明提供了一种光刻胶剥离剂,包括:约5wt%至20wt%的醇胺、约40wt%至70wt%的乙二醇醚、约20wt%至40wt%的N-甲基吡咯烷酮、以及约0.2wt%至6wt%的螯合剂。
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公开(公告)号:CN101750916A
公开(公告)日:2010-06-23
申请号:CN200910253786.7
申请日:2009-12-17
CPC分类号: G03F7/425 , H01L27/124 , H01L27/1288
摘要: 根据一个或多个实施方法提供光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法。在一个或多个实施方式中,所述组合物包括约5-30重量%的链状胺化合物、约0.5-10重量%的环状胺化合物、约10-80重量%的二醇醚化合物、约5-30重量%的蒸馏水和约0.1-5重量%的腐蚀抑制剂。
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公开(公告)号:CN101398639A
公开(公告)日:2009-04-01
申请号:CN200810211419.6
申请日:2008-09-22
IPC分类号: G03F7/42
CPC分类号: G03F7/425
摘要: 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法,其能够容易地剥离在基板上形成的颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜以当在基板上形成滤色片或有机绝缘薄膜过程中发现缺陷时重新使用该基板。在一种具体实施方式中,剥离组合物包括约0.5至约45wt%的氢氧化合物、约10至约89wt%的烷撑二醇烷基醚化合物、约5至约45wt%的链烷醇胺化合物、以及约0.01至约5wt%的无机盐化合物。有利地,剥离过程可以在不损坏下基板的薄膜晶体管同时除去颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜的情况下实施。
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公开(公告)号:CN101256366A
公开(公告)日:2008-09-03
申请号:CN200810092008.X
申请日:2008-02-20
IPC分类号: G03F7/42
摘要: 本发明涉及一种光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法。提供一种光刻胶剥离组合物,其包括约80重量%-约98.5重量%的γ-丁内酯、约1重量%-约10重量%的氨基甲酸烷基酯、约0.1重量%-约5重量%的烷基磺酸和约0.1重量%-约5重量%的非离子型表面活性剂。可将该光刻胶剥离组合物再度用于从基板上剥离光刻胶膜而不降低剥离能力和损坏金属图案,使得可以降低光刻工艺的成本。
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