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公开(公告)号：CN116243553A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202211144862.2
申请日：2022-09-20
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/36
Abstract: 公开了一种生成曲线亚分辨率辅助特征(SRAF)的方法、一种用于对该曲线SRAF进行简单MRC验证的MRC验证方法以及一种包括生成该曲线SRAF的方法的掩模制造方法，该生成该曲线SRAF的方法能够容易地生成满足掩模规则检查(MRC)条件的曲线SRAF。该生成该曲线SRAF的方法包括：生成与主要特征相对应的用于生成该曲线SRAF的曲线轴；在该曲线轴的线上生成曲线点；以及基于该曲线点生成该曲线SRAF。
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公开(公告)号：CN116203789A
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202211512515.0
申请日：2022-11-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/36
Abstract: 提供了一种全芯片单元临界尺寸(CD)校正方法以及通过使用该方法制造掩模的方法。全芯片单元CD校正方法包括：接收关于全曝光的数据库(DB)；分析DB的层次；通过使用DB生成全芯片的密度图，并将该密度图转换为重定向规则表，该转换包括通过使用密度规则映射密度图；将全芯片的单元块重新配置为用于光学邻近校正(OPC)的OPC目标单元布局；基于重定向规则表将第一偏置应用于OPC目标单元布局；以及通过执行分层OPC生成用于全芯片的经光学邻近校正的(经OPC的)布局。
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公开(公告)号：CN109416734B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201780042068.8
申请日：2017-07-04
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 米哈伊·弗拉基米罗维奇·科罗布金 , 弗拉基米尔·阿列克谢耶维奇·叶列梅耶夫 , 阿列克谢·米哈伊洛维奇·法尔图科夫 , 格列布·安德烈耶维奇·奥丁诺基赫 , 维塔利·谢尔盖耶维奇·格纳秋克 , 阿列克谢·布罗尼斯拉沃维奇·丹尼列维奇 , 慎大揆 , 俞周完 , 李光现 , 李熙俊
Abstract: 提供了一种使用虹膜的用户识别方法。用户识别方法包括：产生用于阻挡虹膜图像的非虹膜对象区域的第一掩模；产生根据第一掩模阻挡了非虹膜对象区域的转换后的虹膜图像；通过根据转换后的虹膜图像的特征自适应地变换第一掩模，产生用于附加地阻挡其中转换后的虹膜图像的量化结果不一致的不一致区域的第二掩模；通过对虹膜图像中包括的像素进行量化来获得虹膜代码；通过将第二掩模应用于虹膜代码，来获得阻挡了与非虹膜对象区域和不一致区域相对应的部分的转换后的虹膜代码；以及通过将用户预先存储的参考虹膜代码与转换后的虹膜代码进行匹配来识别用户。
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公开(公告)号：CN108664783A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810261788.X
申请日：2018-03-27
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G06K9/00604 , A61B5/1176 , G06F21/32 , G06K9/00597 , G06K9/00617 , G06K9/00892 , G06K9/2018 , G06K9/2027 , G06K9/00221
Abstract: 提供了一种基于虹膜的认证方法。该方法包括：发射红外波段的光并基于红外波段的光获得图像；确定是否满足指定条件；如果满足指定条件，则基于生物特征传感器获得的图像中的脸部图像的至少一部分和虹膜图像来执行用户认证(例如，复认证)；或者如果不满足指定条件，则基于生物特征传感器获得的图像中的虹膜图像来执行用户认证(例如，仅虹膜认证)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118112881A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202310972633.8
申请日：2023-08-03
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了制造光掩模的方法和制造半导体器件的方法。一种光掩模制造方法包括：对设计图案执行光学邻近校正(OPC)以生成校正图案；以及制造具有所述校正图案的所述光掩模。执行所述OPC的步骤包括：将所述设计图案划分为多个区段；为所述多个区段中的每个区段产生哈希值；以及通过将第一校正偏移应用于所述多个区段中具有相同哈希值的区段来生成所述校正图案，其中，所述多个区段中的至少两个区段具有相同哈希值。产生所述哈希值的步骤包括：生成目标区段的关键区段；在所述关键区段周围创建查询区域；以及基于所述查询区域中的图案图像为所述目标区段产生所述哈希值。
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公开(公告)号：CN111344703B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN201880073875.0
申请日：2018-11-23
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 格列布·安德烈耶维奇·奥丁诺基赫 , 阿列克谢·米哈伊洛维奇·法尔图科夫 , 维塔利·谢尔盖耶维奇·格纳秋克 , 弗拉基米尔·阿列克谢耶维奇·叶列梅耶夫 , 俞周完 , 李光现 , 李熙俊 , 慎大揆
Abstract: 提供了基于虹膜识别的用户认证设备和方法。根据本公开的基于虹膜识别的用户认证方法可以包括以下步骤：获取用户的左眼和右眼的图像；从所述图像中提取瞳孔图像和虹膜图像；通过分析所述虹膜图像获得第一虹膜特征；通过分析所述虹膜图像和所述瞳孔图像获得第二虹膜特征；基于所述第一虹膜特征、所述第二虹膜特征以及预先存储的参考虹膜数据，获得相似度分数；以及基于所述相似度分数确定是否批准用户认证。
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公开(公告)号：CN109416734A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780042068.8
申请日：2017-07-04
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 米哈伊·弗拉基米罗维奇·科罗布金 , 弗拉基米尔·阿列克谢耶维奇·叶列梅耶夫 , 阿列克谢·米哈伊洛维奇·法尔图科夫 , 格列布·安德烈耶维奇·奥丁诺基赫 , 维塔利·谢尔盖耶维奇·格纳秋克 , 阿列克谢·布罗尼斯拉沃维奇·丹尼列维奇 , 慎大揆 , 俞周完 , 李光现 , 李熙俊
CPC classification number: G06K9/00617 , G06K9/00597 , G06K9/0061 , G06K9/3233 , G06K9/4619
Abstract: 提供了一种使用虹膜的用户识别方法。用户识别方法包括：产生用于阻挡虹膜图像的非虹膜对象区域的第一掩模；产生根据第一掩模阻挡了非虹膜对象区域的转换后的虹膜图像；通过根据转换后的虹膜图像的特征自适应地变换第一掩模，产生用于附加地阻挡其中转换后的虹膜图像的量化结果不一致的不一致区域的第二掩模；通过对虹膜图像中包括的像素进行量化来获得虹膜代码；通过将第二掩模应用于虹膜代码，来获得阻挡了与非虹膜对象区域和不一致区域相对应的部分的转换后的虹膜代码；以及通过将用户预先存储的参考虹膜代码与转换后的虹膜代码进行匹配来识别用户。
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公开(公告)号：CN108334809A
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201711372447.1
申请日：2017-12-19
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 俞周完 , 李光现 , 李熙俊 , 阿列克谢·福尔蒂卡瓦 , 格列布·欧蒂诺基赫 , 维塔利·纳特尤克 , 弗拉迪米尔·埃雷蒙瓦 , 慎大揆 , 朴正敏 , 朴智允
IPC: G06K9/00
CPC classification number: G06K9/00604 , G06K9/00597 , G06K9/0061 , G06K9/00617 , G06K9/00926 , G06K9/685
Abstract: 提供用于虹膜识别的电子装置及其操作方法，所述电子装置包括：外壳，包括第一表面；显示器，通过第一表面的第一区域被露出；发光单元，被布置在第一表面的第二区域中，包括发光电路；图像装置，被布置在第一表面的第三区域中，包括图像获取电路；至少一个处理器，被布置在外壳内，并与显示器、发光单元和图像装置电连接；存储器，被布置在外壳内，并与所述至少一个处理器电连接。存储器存储指令，当所述指令由处理器执行时，促使电子装置执行以下操作：基于已经使用发光单元和图像装置识别的第一虹膜图像存储参考模板，使用存储的参考模板对使用发光单元和图像装置识别后的第二虹膜图像进行认证，将成功认证的第二虹膜图像的模板存储为附加模板。
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公开(公告)号：CN119225111A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202410290458.9
申请日：2024-03-14
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了光学邻近校正方法和使用其的半导体制作方法。所述半导体制作方法包括：对布局的设计图案执行光学邻近校正以生成校正后的布局；以及通过使用用所述校正后的布局制造的光掩模来在衬底上形成光刻胶图案。执行所述光学邻近校正包括：在所述设计图案的轮廓上生成形状点；产生所述形状点的散列值；选择代表第一形状点的第一独特形状点；确定所述第一独特形状点的第一校正偏置；以及通过将所述第一校正偏置共同应用于所述第一形状点来创建校正图案。产生所述散列值包括：生成目标形状点周围的查询范围；以及基于所述查询范围内的几何分析，产生所述散列值。
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