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公开(公告)号：CN113495314A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110239235.6
申请日：2021-03-04
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克 , 朴海利
Abstract: 提供了一种偏振装置，所述偏振装置包括提供片上同时全斯托克斯偏振参数(线偏振和圆偏振)和多/高光谱成像的偏振滤光器和光谱滤光器。偏振滤光器使入射光偏振到预定线性方向上。光偏振滤光器包括线栅和相位调制纳米结构的阵列。线栅包括至少一条线，所述至少一条线包括一系列的金属‑绝缘体‑金属线结构。相位调制纳米结构的阵列形成在线栅上，并且将入射光的相位改变预定量。相位调制纳米结构是基于相位调制纳米结构的第一宽度和第二宽度来改变入射光的高介电指数纳米结构，其中，第一宽度垂直于第二宽度。
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公开(公告)号：CN118169897A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202311660778.0
申请日：2023-12-06
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 朴海利 , 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克 , 玛莎·拖芬 , 王一兵
IPC: G02B27/42
Abstract: 提供了片上纳米级衍射光学元件及其制造方法。所述衍射光学元件(DOE)包括基底层；以及包括纳米结构的纳米结构层，纳米结构具有在目标波长λ的0.75λ至3λ的范围内的预定周期性。纳米结构是形成在基底层的表面上的柱状纳米结构、形成在基底层中的孔或它们的组合。至少一个纳米结构具有圆形、椭圆形、正方形或矩形的平面视图剖面形状。至少一个纳米结构的平面视图剖面形状包括倒圆拐角，倒圆拐角具有基于由DOE产生的衍射图案的期望光点强度非均匀性而选择的拐角半径。当纳米结构为柱状时，纳米结构的折射率大于基底层的折射率。当纳米结构为孔时，纳米结构的折射率小于基底层的折射率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117936350A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202311212162.7
申请日：2023-09-19
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 萨拉·库玛 , 朴海利 , 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克
Abstract: 提供了等离子体装置、光学诊断系统和执行单分子检测的方法。所述等离子体装置包括沿着第一方向和第二方向延伸的支撑层、在所述支撑层上的绝缘层、以及在所述绝缘层上并且限定沿着所述第一方向延伸的腔的等离子体层，所述腔具有三维(3D)锥形结构并且被配置为使电磁场沿着所述第一方向传播并将所述电磁场聚集在所述腔的尖端处，其中，所述支撑层、所述绝缘层和所述等离子体层在其中限定开口，所述开口位于所述腔的所述尖端处并且被配置为使存在于所述等离子体层上的溶液的靶分子穿过。
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公开(公告)号：CN115555556A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202210746528.8
申请日：2022-06-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种超材料结构、制造超材料表面的方法和确定压力变化的方法。本示例实施例通常涉及在基底上产生特定纳米结构，以改善表面等离子体共振模式的角度独立性。它可以包括超材料结构，超材料结构包括以图案定位在基底上或基底内的纳米结构。纳米结构可以是抛物面形状并且是周期性的。
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公开(公告)号：CN118169898A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202311666654.3
申请日：2023-12-06
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 朴海利 , 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克 , 王一兵
IPC: G02B27/42
Abstract: 提供了一种动态衍射光学图案生成器，该动态衍射光学图案生成器包括衍射光学元件层和纳米结构层，纳米结构层被构造为用于使向该衍射光学图案生成器施加的输入光光束转向至预定极光束转向角和预定方位光束转向角中的至少一者，预定极光束转向角在与输入光的方向基本上垂直的平面中测量，预定方位光束转向角相对于输入光的方向测量。该动态衍射光学图案生成器还可以包括动态透射层，动态透射层的至少一个区域选择性地可控制为使光透射通过或阻挡光穿过。纳米结构层可以包括纳米结构，纳米结构具有在目标波长λ的0.75λ至3λ的范围内的周期性。纳米结构层可以被构造为对向DOE层输入的光进行光束转向或者对从DOE层输出的光进行光束转向。
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公开(公告)号：CN117629900A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202310904761.9
申请日：2023-07-21
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克 , 朴海利
Abstract: 提供一种电子装置。所述电子装置包括光源和检测器。光源包括：电磁光谱发射源，被配置为输出电磁光谱发射物；偏振光学元件，被配置为使电磁光谱发射物偏振；准直光学元件，被配置为将电磁光谱发射物聚焦或准直为窄光束或紧密的光束以减少漫射；以及衍射光学元件，被配置为将电磁光谱发射物分离为预定布置。
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公开(公告)号：CN116449469A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310065114.3
申请日：2023-01-13
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02B3/02 , G02F1/13 , G02F1/1335 , H04N23/55
Abstract: 这里公开的薄膜光学器件包括能够调制入射光的相位的超透镜和光电器件。该超透镜包括具有第一折射率的薄膜层、在薄膜层内的嵌入层，该嵌入层具有大于或等于第一折射率的1.5倍且小于或等于第一折射率的3.0倍的第二折射率。嵌入层可以填充形成在薄膜层上的多个孔，孔的深度、宽度和间隔都有助于调制穿过超透镜的光的相位。
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