公开(公告)号：CN111176068B

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN201910988185.4

申请日：2019-10-17

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋弦昔 ,  姜仁勇 ,  张日容

IPC: G03F1/84 ,  G03F1/86

Abstract: 本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。

公开(公告)号：CN109839391A

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201811383582.0

申请日：2018-11-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋弦昔 ,  姜仁勇 ,  朴钟主

IPC: G01N23/00

Abstract: 在检测缺陷的方法中，可以使用第一电子束来初步扫描衬底的区域以检测第一缺陷。可以使用第二电子束来二次扫描所述衬底的剩余区域以检测第二缺陷，所述衬底的所述剩余区域可以是通过从所述衬底的所述区域中排除所述第一缺陷可能位于的部分来定义的。因此，可以在随后的扫描过程中不扫描具有缺陷的部分，从而可以显着地减少扫描时间。

公开(公告)号：CN109839391B

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN201811383582.0

申请日：2018-11-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋弦昔 ,  姜仁勇 ,  朴钟主

IPC: G01N23/00

Abstract: 在检测缺陷的方法中，可以使用第一电子束来初步扫描衬底的区域以检测第一缺陷。可以使用第二电子束来二次扫描所述衬底的剩余区域以检测第二缺陷，所述衬底的所述剩余区域可以是通过从所述衬底的所述区域中排除所述第一缺陷可能位于的部分来定义的。因此，可以在随后的扫描过程中不扫描具有缺陷的部分，从而可以显着地减少扫描时间。

公开(公告)号：CN112305852A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010632541.1

申请日：2020-07-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金璱祺 ,  宋弦昔 ,  姜仁勇 ,  李刚源 ,  李周衡 ,  张恩植

IPC: G03F1/24 ,  G03F1/84 ,  G03F1/82

Abstract: 本公开提供了用于检查和制造光罩的方法以及制造半导体器件的方法。在一个方面中，提供一种用于检查光罩的方法，该光罩包括光罩基板和在光罩基板上的反射层。该方法可以包括：将光罩装载于平台上；将光罩基板冷却至低于室温的温度；将激光束照射到在光罩基板上的反射层；使用光电检测器接收从反射层反射的激光束以获得反射层的图像；以及基于反射层的图像，检测在反射层上的颗粒缺陷或在反射层中的空隙缺陷。

公开(公告)号：CN111176068A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201910988185.4

申请日：2019-10-17

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋弦昔 ,  姜仁勇 ,  张日容

IPC: G03F1/84 ,  G03F1/86

Abstract: 本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。