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公开(公告)号：CN101750874A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910253239.9
申请日：2009-12-11
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/80 , H01J37/3174
Abstract: 本发明提供远紫外光掩模以及制造远紫外光掩模的方法和装置，其中制造光掩模的方法包括：在光掩模基板上形成上层，并且图案化该上层，以形成具有倾斜侧壁的上图案，其中图案化上层包括利用带电粒子各向异性蚀刻上层，该带电粒子平行于第一方向移动，该第一方向朝上层的顶表面倾斜。
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公开(公告)号：CN111176068B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201910988185.4
申请日：2019-10-17
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。
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公开(公告)号：CN111176068A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201910988185.4
申请日：2019-10-17
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供掩模检查装置和/或掩模检查方法，其能够快速且准确地检查掩模上的图案的配准，以及同时检查掩模的缺陷和图案的配准。掩模检查装置可包括：台，其被配置为接收用于检查的掩模；电子束阵列，其包括：被配置为将电子束照射到掩模的多个电子束照射器以及被配置为检测从掩模发射的电子的检测器；以及处理器，其被配置为处理来自检测器的信号。可以通过处理信号来检测掩模的缺陷，并且可以基于关于电子束照射器的位置信息来检查掩模上的图案的配准。
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公开(公告)号：CN101750874B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN200910253239.9
申请日：2009-12-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/68 , G03F1/78 , G03F1/80 , H01J37/317
CPC classification number: G03F1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/80 , H01J37/3174
Abstract: 本发明提供远紫外光掩模以及制造远紫外光掩模的方法和装置，其中制造光掩模的方法包括：在光掩模基板上形成上层，并且图案化该上层，以形成具有倾斜侧壁的上图案，其中图案化上层包括利用带电粒子各向异性蚀刻上层，该带电粒子平行于第一方向移动，该第一方向朝上层的顶表面倾斜。
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