曝光物体的设备和方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1417644A

    公开(公告)日:2003-05-14

    申请号:CN02140172.1

    申请日:2002-07-04

    Inventor: 朴珍俊 具斗训

    CPC classification number: G03F7/701 G03F7/70108 G03F7/70183

    Abstract: 公开了一种曝光物体的方法和设备,用于提高光效率。产生具有均匀强度分布的光之后,光被折射成多个发散光束。然后,多个发散光束再次被折射成多个平行光束。利用多个平行光束的光曝光物体。因此,使原始光束和用于曝光物体的平行光束之间的光通量的差最小化,因而提高了该设备的光效率。

    曝光物体的设备和方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100507717C

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN02140172.1

    申请日:2002-07-04

    Inventor: 朴珍俊 具斗训

    CPC classification number: G03F7/701 G03F7/70108 G03F7/70183

    Abstract: 公开了一种曝光物体的方法和设备,用于提高光效率。产生具有均匀强度分布的光之后,光被折射成多个发散光束。然后,多个发散光束再次被折射成多个平行光束。利用多个平行光束的光曝光物体。因此,使原始光束和用于曝光物体的平行光束之间的光通量的差最小化,因而提高了该设备的光效率。

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