公开(公告)号：CN106406021A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201610623699.6

申请日：2016-08-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑镛席 ,  全桓徹 ,  金炳局 ,  崔在爀 ,  权星元

IPC: G03F1/48 ,  G03F1/62 ,  B82Y40/00

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/62 ,  G03F1/48 ,  B82Y40/00

Abstract: 本公开提供了保护膜以及包括该保护膜的光掩模组件。一种保护膜包括保护膜隔膜，该保护膜隔膜包括多孔膜。该多孔膜包括多个纳米线，该多个纳米线彼此交叉地布置以形成网状结构。光掩模组件包括保护膜和光掩模，其中保护膜被固定到光掩模的表面。

公开(公告)号：CN106406021B

公开(公告)日：2021-09-14

申请号：CN201610623699.6

申请日：2016-08-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑镛席 ,  全桓徹 ,  金炳局 ,  崔在爀 ,  权星元

IPC: G03F1/48 ,  G03F1/62 ,  B82Y40/00

Abstract: 本公开提供了保护膜以及包括该保护膜的光掩模组件。一种保护膜包括保护膜隔膜，该保护膜隔膜包括多孔膜。该多孔膜包括多个纳米线，该多个纳米线彼此交叉地布置以形成网状结构。光掩模组件包括保护膜和光掩模，其中保护膜被固定到光掩模的表面。

公开(公告)号：CN108663898B

公开(公告)日：2022-07-26

申请号：CN201810264409.2

申请日：2018-03-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全桓徹 ,  金文子 ,  权星元 ,  金熙范 ,  丁昶荣

IPC: G03F1/48 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: 根据示例性实施例，提供一种用于暴露到极紫外光(extreme ultraviolet light，EUVL)的护膜以及一种光刻系统，所述护膜包括护膜膜片以及贴合到所述护膜膜片的框架，其中所述护膜膜片包括碳系主层以及硼系增强层，所述碳系主层具有彼此相对的第一表面与第二表面，所述硼系增强层覆盖选自所述第一表面与所述第二表面中的至少一个表面。根据示例性实施例的护膜可在极紫外光曝光环境中使用较长的时间段。

公开(公告)号：CN108663898A

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201810264409.2

申请日：2018-03-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 全桓徹 ,  金文子 ,  权星元 ,  金熙范 ,  丁昶荣

IPC: G03F1/48 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/2008 ,  G03F1/48 ,  G03F7/2004

Abstract: 根据示例性实施例，提供一种用于暴露到极紫外光(extreme ultraviolet light，EUVL)的护膜以及一种光刻系统，所述护膜包括护膜膜片以及贴合到所述护膜膜片的框架，其中所述护膜膜片包括碳系主层以及硼系增强层，所述碳系主层具有彼此相对的第一表面与第二表面，所述硼系增强层覆盖选自所述第一表面与所述第二表面中的至少一个表面。根据示例性实施例的护膜可在极紫外光曝光环境中使用较长的时间段。