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公开(公告)号：CN118625515A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202311324451.6
申请日：2023-10-13
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明公开了光学系统以及包括其的激光结晶化装置，光学系统包括：第一模组阵列，包括至少一个模组；以及第二模组阵列，与第一模组阵列相邻，并与第一模组阵列隔着间隙隔开，并且包括至少一个模组。激光结晶化装置包括：光源部，产生激光束形式的至少一个输入光；光学系统，将从光源部接收的输入光转换为至少一个输出光；以及腔室，容纳工作台，工作台支承被照射输出光的对象基板。
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公开(公告)号：CN108374146B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201810054447.5
申请日：2018-01-19
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明的实施例涉及一种有机物沉积装置及方法。本发明的有机物沉积装置包括：基板支撑部，用于支撑基板；掩膜支撑部，以与所述基板相面对的方式支撑掩膜；蒸发源，以与所述掩膜相面对的方式布置，且加热有机物而使该有机物蒸发；以及掩膜清洗部，布置于所述蒸发源的一侧，且向所述掩膜照射激光。
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公开(公告)号：CN114724938A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202111670008.5
申请日：2021-12-31
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/268 , H01L21/67
Abstract: 本公开涉及一种激光结晶化装置，根据实施例的激光结晶化装置可以包括：光源部；以及路径转换部，将从所述光源部入射的激光束转换成具有与第一方向平行的长轴和与第二方向平行的短轴的线形光束，所述路径转换部包括：入射窗，与所述第二方向平行地延伸；出射窗，与所述第一方向平行地延伸；第一反射部，位于所述入射窗的侧面；第二反射部，位于所述出射窗的侧面。
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公开(公告)号：CN103869631A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201310364831.2
申请日：2013-08-20
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: H01L51/0013 , G03F9/7019
Abstract: 公开了能够防止因例如老化效应或热效应引起其精确度降低的曝光装置。还公开了控制曝光装置的方法和用于曝光的对齐方法。在一个方面，该曝光装置包括：主台，被配置为调整基板的位置；光束照射单元，用于将光束照射到掩膜上；以及光束监视单元，具有相对于所述主台固定的位置，并且用于识别从所述光束照射单元发出且穿过所述掩膜中的开口以形成特定图案的光束。
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公开(公告)号：CN103811679A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201310545005.8
申请日：2013-11-06
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L51/56
CPC classification number: H01L51/56 , B41M5/38221 , H01L51/0013 , H05B33/10
Abstract: 一种激光热成像设备，包括：配置成接收基板的基板载台；位于基板载台上方的光束照射单元，该光束照射单元被配置成将对准激光束照射到基板的对准标记上；以及与光束照射单元相对的光束观察单元，基板载台被设置在光束观察单元与光束照射单元之间，该光束观察单元被配置成观察对准激光束与由对准标记形成的对准标记的阴影。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114520167A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202111374572.2
申请日：2021-11-17
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 公开了一种基板处理装置，该基板处理装置包括：第一腔室，在该第一腔室中执行对基板的蚀刻工艺；腔室窗，布置在第一腔室的一个表面上；激光模块，布置在第一腔室的外部，并通过腔室窗向基板照射激光束，以执行蚀刻工艺；第一保护窗，位于基板和腔室窗之间；第二腔室，布置在第一腔室的一侧；传送部，将第一保护窗从第一腔室传送到第二腔室；以及清洗模块，布置在第二腔室的内部，并对传送到第二腔室的第一保护窗执行清洗工艺。
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公开(公告)号：CN103868936B
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201310324343.9
申请日：2013-07-30
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G01J1/4257 , G01J1/0252 , G01J1/0414 , G01J1/0448 , G01J1/0477
Abstract: 一种激光图案检查装置，包括：固定板；被构造为相对于所述固定板竖向移动并被构造为旋转的旋转板；被连接到所述旋转板的壳体；在所述固定板上方并发出激光束的激光发射单元；在所述壳体上的棱镜单元，所述棱镜单元折射从所述激光发射单元接收的所述激光束的第一部分并透射所述激光束的第二部分；以及在所述壳体上的光束分析仪，所述光束分析仪分析由所述棱镜单元折射的所述第一部分的图案。
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公开(公告)号：CN103882381B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201310486450.1
申请日：2013-10-17
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: H01L51/001 , B05D1/60 , B05D3/06 , C23C14/04 , C23C14/042 , C23C14/046 , C23C14/048 , C23C14/24 , H01L51/0013 , H01L51/56
Abstract: 提供了一种沉积设备以及将沉积材料沉积在基板上的方法，该沉积设备包括：真空室；基板，设置在真空室中；沉积源，设置在真空室中并且面对基板，用于将沉积材料提供到基板上；激光振荡器，产生第一激光束；光学单元，连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束，以产生多束掩模激光束。掩模激光束照射到真空室中，以被设置在基板和沉积源之间。与掩模激光束接触的沉积材料被氧化，而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上。
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公开(公告)号：CN104874922A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510072802.8
申请日：2015-02-11
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: B23K26/382 , B23K26/064 , B23K26/067 , B23K26/082 , B23K26/402 , H01L51/56
CPC classification number: G02B26/10 , G02B13/0005 , G02B27/0927 , G02B27/0988 , G02B27/10 , G02B27/106 , G02B27/144 , G02F1/113 , H01L27/3244 , H01L27/3248 , H01L51/5228 , H01L51/56 , H01L2227/323 , B23K26/067
Abstract: 公开了一种激光束照射设备以及使用其的有机发光显示设备的制造方法。所述激光束照射设备包括激光源、用于控制通过激光源生成的光的能量的控制器、用于调节已通过控制器的光的形状的第一光学系统、用于调节已通过第一光学系统的光的方向的扫描器、和用于缩小已通过扫描器的光束的F-θ镜头。
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公开(公告)号：CN117995664A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202311429633.X
申请日：2023-10-31
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: H01L21/268 , H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/02
Abstract: 一种激光退火方法包括：从多个峰的多个强度中选择参考强度，其中，参考强度用于确定激光退火期间激光照射的脉冲形状；通过将多个峰当中的具有最小峰出现时间的第一峰的相对于参考强度的强度比设定为小于大约百分之100来设定脉冲形状；以及将具有脉冲形状的激光束照射到载物台。
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