公开(公告)号：CN103492518A

公开(公告)日：2014-01-01

申请号：CN201180069653.X

申请日：2011-11-24

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 松山雅之 ,  堀内干正

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明提供一种能以高速对蓝宝石单晶基板等含有Al的高硬度的基材进行研磨处理、能实现具有高面精度的研磨面的研磨处理技术。本发明涉及一种研磨浆料，其是对含有铝的基材进行研磨的研磨浆料，其特征在于，含有磨粒、在20℃的水中的溶解度为0.1g/100g-H2O以上的无机硼化合物、水。本发明中的无机硼化合物的含量相对于研磨浆料，换算成硼原子较好为0.1质量％～20质量％。

公开(公告)号：CN110072956A

公开(公告)日：2019-07-30

申请号：CN201780069668.3

申请日：2017-08-15

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 松尾贤 ,  松山雅之 ,  堀内干正 ,  熊谷彰记

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306 ,  B24B37/00

Abstract: 本发明的研磨液包含氧化锰的磨粒、高锰酸根离子和纤维素系表面活性剂或阳离子表面活性剂，pH为5～11。上述纤维素系表面活性剂优选为羧甲基纤维素或其衍生物。所述阳离子表面活性剂还优选具有季铵离子部位。上述纤维素系表面活性剂或上述阳离子表面活性剂的浓度还优选相对于上述研磨液的总量为0.01质量％～1.0质量％。

公开(公告)号：CN101421363B

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200780012979.2

申请日：2007-03-23

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 上郡山洋一 ,  泽本裕树 ,  堀内干正

IPC: C09D11/00 ,  H01L21/288

CPC classification number: H01L21/288 ,  C09D11/322 ,  C09D11/52 ,  Y10T428/31

Abstract: 本发明提供一种含镍油墨，其是由将镍粒子分散在分散介质中而形成的，并含有甲基二甲氧基硅烷偶联剂。所述分散介质含有在常压下的沸点为300℃以下的二醇、碳原子数为3～10的烷氧基乙醇和碳原子数为2～8的醚。油墨优选其表面张力被调整为15～50mN/m、在25℃下的粘度被调整为0.6～60mPa·sec。该油墨优选在喷墨印刷方式中使用。

公开(公告)号：CN101421363A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780012979.2

申请日：2007-03-23

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 上郡山洋一 ,  泽本裕树 ,  堀内干正

IPC: C09D11/00 ,  H01L21/288

CPC classification number: H01L21/288 ,  C09D11/322 ,  C09D11/52 ,  Y10T428/31

Abstract: 本发明提供一种含镍油墨，其是由将镍粒子分散在分散介质中而形成的，并含有甲基二甲氧基硅烷偶联剂。所述分散介质含有在常温下的沸点为300℃以下的二醇、碳原子数为3～10的烷氧基乙醇和碳原子数为2～8的醚。油墨优选其表面张力被调整为15～50mN/m、在25℃下的粘度被调整为0.6～60mPa·sec。该油墨优选在喷墨印刷方式中使用。

公开(公告)号：CN110072956B

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN201780069668.3

申请日：2017-08-15

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 松尾贤 ,  松山雅之 ,  堀内干正 ,  熊谷彰记

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306 ,  B24B37/00

Abstract: 本发明的研磨液包含氧化锰的磨粒、高锰酸根离子和纤维素系表面活性剂或阳离子表面活性剂，pH为5～11。上述纤维素系表面活性剂优选为羧甲基纤维素或其衍生物。所述阳离子表面活性剂还优选具有季铵离子部位。上述纤维素系表面活性剂或上述阳离子表面活性剂的浓度还优选相对于上述研磨液的总量为0.01质量％～1.0质量％。

公开(公告)号：CN102858493A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201080066082.X

申请日：2010-11-22

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 山口靖英 ,  堀内干正

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/02024 ,  H01L29/1608

Abstract: 本发明提供能够高效且高表面精度地对难以研磨处理的碳化硅进行研磨处理的研磨技术。本发明涉及一种用于研磨基材的研磨浆料，其特征在于，研磨粒子以氧化锰为主成分，研磨粒子的含量相对于研磨浆料不足10重量%。本发明的研磨浆料优选pH为7以上，特别优选使用二氧化锰作为研磨粒子。此外，本发明的研磨浆料是适用于碳化硅基材的研磨浆料。

公开(公告)号：CN101316902A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200680040828.3

申请日：2006-10-27

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 上郡山洋一 ,  泽本裕树 ,  堀内干正

IPC: C09D11/00 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  H01B1/22 ,  H01B5/14

Abstract: 本发明提供将镍粒子分散在分散介质中而形成的镍油墨。上述分散介质是将选自在常压下的沸点在300℃以下的醇类、二醇类中的1种或2种以上组合而成的介质。上述镍粒子的构成粒子的平均一次粒径为50nm以下。用该镍油墨形成的导体膜具有平均表面粗糙度(Ra)在10nm以下、最大表面粗糙度(Rmax)在200nm以下的平滑表面。