具有凹槽栅极电介质的射频碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管

    公开(公告)号:CN117981089A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202280064486.8

    申请日:2022-07-14

    Abstract: 一种场效应晶体管(FET)可包括具有第一导电类型的半导体衬底、在衬底上形成的第一导电类型的半导体层、以及在半导体层中形成的具有与第一导电类型相反的第二导电类型的一对掺杂体。在掺杂体之间的区域内形成填有沟槽电介质的沟槽。FET可为垂直金属氧化物半导体FET(VMOSFET),包括设置于掺杂体之间的区域以及沟槽上的栅极电介质,以及设置在栅极电介质上的栅极电极,其中所述沟槽用于避免栅极电介质击穿,或者FET可为结型FET。所述FET可设计为用于在射频频率或重离子轰击下工作。所述半导体衬底与半导体层可包括宽带隙半导体,如碳化硅。

    具有分割的有源区的功率器件
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117941067A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202280061247.7

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 半导体器件包括基底和设置在基底上方的多个有源区。所述多个有源区具有第一总面积。一个或更多个非有源区也设置在基底上方。所述一个或更多个非有源区具有第二总面积。第二总面积大于或等于第一总面积的1.5倍。有源区可以形成在形成于基底上方的外延层中。有源器件的多个单元可以设置在所述多个有源区中。非有源区可以仅包括当半导体器件按照其设计的功能运行时不消耗大量功率的结构。

    具有改进的温度均匀性的半导体器件

    公开(公告)号:CN118476019A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202280087009.3

    申请日:2022-10-21

    Abstract: 一种半导体器件的盆部,包括具有第一预计操作温度的冷区和具有大于第一预计操作温度的第二预计操作温度的热区。设计参数在冷区中具有第一值和在热区中具有不同于第一值的第二值。该差值配置为使得盆部在半导体器件的操作期间在热区中耗散的热量少于如果第一值和第二值相等所耗散的热量。设计参数可以是例如盆部宽度、源极结构宽度、JFET区域宽度、沟道长度、沟道宽度、栅极的长度、栅极的中心相对于JFET区域的中心的位移、掺杂剂浓度或它们的组合。

    瞬态降噪滤波系统
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114586247A

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202080072068.4

    申请日:2020-09-08

    Inventor: S·S·奥基

    Abstract: 瞬态降噪滤波器包括电缆,该电缆包括一个或多个双绞线导体和一个或多个共模扼流圈(CMC)。所述一个或多个CMC由相应的多匝电缆形成。每个CMC可以是磁性CMC,其中,多匝电缆缠绕在磁芯上;或者每个CMC可以是空芯CMC,其中,多匝电缆不缠绕在磁芯上,而是设置在非磁性材料(例如,空芯)周围。

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