一种基于砷化镓衬底的平面式LED外延结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN108550664A

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201810285397.1

    申请日:2018-04-02

    Inventor: 万金平 于天宝

    Abstract: 一种基于砷化镓衬底的平面式LED外延结构及其制作方法,所述外延结构从下向上依次为:N型GaAs衬底层、N型GaAs缓冲层、P型GaAs外延层、N型GaAs外延层、N型AlInP限制层、MQW量子阱发光层、P型AlInP限制层和P型GaP窗口层。其制作方法包括(1)提供GaAs衬底并清洗;(2)生长P-GaAs外延层;(3)生长N-GaAs外延层;(4)生长N-GaAs外延层;(5)生长N-AlInP外延层;(6)生长MQW发光层;(7)生长P-AlInP外延层;(8)生长P-GaP外延层。本发明通过利用反向NP结形成发光MQW量子阱发光层和衬底材料的电性隔离,同时设计了较薄的P型GaP扩展层,有利于实现LED微显示矩阵的寻址电路,并防止了对发光单元的进行切割隔离时的单元像素的损伤、脱落,保持LED微显示阵列的完整。

    一种光学透射式AR眼镜显示芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN108538876A

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201810374340.9

    申请日:2018-04-24

    Abstract: 一种光学透射式AR眼镜显示芯片及其制作方法,在蓝宝石基板上生长LED发光层的蓝光或绿光LED外延片上,按所设计的象素单元尺寸进行P外延层的刻蚀,形成PN结独立的LED像素;继续向下刻蚀外延结构N型外延层,实现LED显示芯片内的行与行之间电性隔离沟道;在行与行隔离沟道中进行隐型切割,形成激光束方向上的变质区。在LED外延片表面沉淀一层二氧化硅或氮化硅绝缘隔膜,再在绝缘隔膜的每一发光像素顶部位置处加工一通孔。蒸镀ITO层并形成ITO导电线条;提升ITO的透光率并实现ITO薄膜在通孔处与P型LED外延层形成欧姆接触;在芯片的每行及每列的两端制作Cr/Pt/Au/In复合金属接触端点,研磨、切割后与外部控制电路端点进行精密对准和倒装共晶焊接,形成应用的LED显示芯片。

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