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公开(公告)号：CN103364176A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201210519199.X
申请日：2012-12-06
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供一种激光损伤阈值测试系统，包括高能激光损伤装置、高分辨率彩色CCD图像损伤判别装置、CCD辅助光源装置和样品台运动控制装置。该测试系统对经高能激光辐照后的待测样品，先后交替采用分别配有低倍和高倍率物镜光学系统的CCD采集单元进行初步快速损伤预判断和精确测量。采用本发明，不仅可有效地克服现有相衬显微法测量主观性强、测量误差大、测量时间长等缺点，而且还可同时满足1-on-1和R-on-1两种测量模式，既兼顾测量误差和测试效率、适用性强，又便于工业化应用。
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公开(公告)号：CN216435831U
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202122914304.7
申请日：2021-11-25
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本实用新型涉及一种窄能谱离子束产生装置。该窄能谱离子束产生装置由支架、离子源以及选能器组成，所述离子源可调整竖直方向角度地架设于支架上，在支架上部固定设置有选能器，所述选能器由电磁屏蔽罩和内部固定设置的选能组件构成，所述选能组件由两块永磁铁阵列、矩形磁靴、一对永磁隔绝板和电极组件组成。本窄能谱离子束产生装置由离子源产生宽能谱离子，离子束经选能器进行离子能量选择并最终输出，达到本装置输出的离子能量为0‑500eV可调；最小能带宽在50eV以内。
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公开(公告)号：CN201653374U
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN201020169940.0
申请日：2010-04-23
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本实用新型涉及一种大口径单层薄膜厚度全场检测装置。本实用新型要克服现有技术中不能反映整个膜层的厚度分布情况和使用要求高的问题。提供一种大口径单层薄膜厚度全场检测装置，包括光源系统，干涉系统、CCD图像捕获系统和样品移动控制系统，干涉系统包括消模器、扩束器、准直镜、成像物镜、分光镜、补偿镜、参考反射镜、PZT调节器、PZT驱动和可控样品台，CCD图像捕获系统包括CCD摄像机、图像捕获器和计算机；光源系统、消模器和扩束器依次设置在第一光轴上，CCD摄像机、成像物镜、第二分光镜、补偿镜、参考反射镜和PZT调节器依次设置在与第一光轴平行的第二光轴上，反射镜、第二分光镜和样品台还依次位于垂直于第一光轴的第三光轴上。其测试灵敏度高，精度高。
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公开(公告)号：CN202705458U
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201220376962.3
申请日：2012-08-01
Applicant: 西安工业大学
IPC: C23C14/46
Abstract: 本实用新型涉及一种用在光学真空镀膜机（离子束辅助沉积设备）或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源，特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是：包括气体放电室，气体放电室的一端设置有绝缘端盖，绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本实用新型通过一组正交的磁场，对引入磁场中的离子束方向进行控制，通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律，可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小，就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比，本实用新型的优点是：1.离子源输出的离子束发散角可达180°；2.离子束发散角可以根据实际需要进行调节，可满足不同薄膜沉积过程的需要；3.离子束流密度的均匀性好。
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公开(公告)号：CN201982385U
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201120095615.9
申请日：2011-04-02
Applicant: 西安工业大学
IPC: F04F9/00
Abstract: 本实用新型涉及油扩散泵技术领域，具体涉及一种用于真空系统中的油扩散泵加热装置。现有的加热方式使用不方便：电阻丝很容易烧断，需要经常更换；影响产品的质量：加热方式不稳定，影响真空系统的正常工作；热效率低；生产效率低。为克服现有技术存在的问题，本实用新型提供的一种用于真空系统中的油扩散泵的加热装置，其特征在于：包括依次相接的励磁线圈、高频电源和控制器，励磁线圈的外侧设置有上部敞开的磁屏蔽外壳。本实用新型改变了原有的加热方式，利用电磁感应的方式，直接在底板内产生涡流，最终实现加热扩散泵油的目的。本实用新型的优点是：热效率高、升温迅速、易于温控、拆卸方便，加热装置的使用寿命长，使用更方便。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN201622245U
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200920245571.6
申请日：2009-12-02
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本实用新型涉及一种薄膜及光学元件激光损伤阈值组合测试装置。由于现有测试装置的测试结果存在较大的误差、存在误判可能并且对各种薄膜材料适应性差，因此实用性差的问题。本实用新型的一种薄膜及光学元件激光损伤阈值组合测试装置，包括测试组件和处理组件，其中测试组件包括设置于一条主光轴上的Nd:YAG激光器、开关挡板，衰减器，第一分束器、聚焦透镜、第二分束器和样片台，还包括光束分析仪和能量计、辅助激光器、光电二极管阵列、会聚透镜、光电探测器件和CCD照相机，其中辅助激光器偏离主光轴设置，其发射光束朝向样片台；处理组件包括计算机。本实用新型的此种结构误差极小且无误判发生、适应性和实用性强。
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公开(公告)号：CN203881709U
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201420243812.4
申请日：2014-05-13
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01N27/64
Abstract: 本实用新型公开了一种光学薄膜激光毁伤的识别装置，该装置由测试样品台、质荷比采集系统及计算机运算系统组成。采用质谱采集、分析的方法确定所毁伤材料中包含的元素种类，判别方法是采集质荷比的分布，通过计算机软件进行质谱分析与元素判别，从而准确、在线、快速判别出薄膜是否发生损伤。本实用新型能够实现在线、实时、快速、准确判别薄膜或光学元件在强激光下的毁伤状态。将该方法应用于激光损伤阈值测试中，可实现测试系统的集成化、自动化、智能化。该方法判别精度高，可有效排除外界干扰对测试结果的影响。
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公开(公告)号：CN201217686Y
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200820029301.7
申请日：2008-06-03
Applicant: 西安工业大学
IPC: C23C14/24 , H01L21/3065 , C23F4/00 , H01J37/08
Abstract: 本实用新型涉及一种能输出单一离子能量的离子束发射源，以克服现有技术存在的引出离子并非具有单一能量，对薄膜质量影响较大，难以实现离子束辅助的重复性的问题。其技术方案是：包括气体放电室、聚焦磁场产生单元、离子能量选择器和扩束磁场产生单元，气体放电室中包括阳极、阴极和引出栅极板，所述离子能量选择器包括相对设置的上磁极板、下磁极板以及相对设置的第一电极板和第二电极板构成的选择筒，上磁极板、第一电极板、下磁极板和第二电极板之间夹设有极板绝缘件，选择筒两端的入口盖板和出口盖板中部均设置有能带限制通孔。与现有技术相比，本实用新型的优点是：1.能够产生、引出单一能量的离子；2.离子能量可调；3.制造工艺简单。
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公开(公告)号：CN210519364U
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201921158856.6
申请日：2019-07-23
Applicant: 西安工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 本实用新型公开了一种红外透明的电磁屏蔽结构，为了解决现有红外透过率一定时，屏蔽效能低的问题。提出了该结构的红外透过率模型，推导出了理论公式。该结构是十字形结构和圆环形结构相结合，主要由多个相同拓扑单元结构阵列组成的频率选择表面，可提高传统十字形结构屏蔽效能。当电磁波垂直入射于本实用新型所提出的拓扑结构时，对于1GHz到18GHz频段的电磁波会有较高的屏蔽特性，同时红外透过率高于90％。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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