公开(公告)号：CN103173128A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201210599019.3

申请日：2012-11-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松井晴信 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: C09G1/02 ,  B24B37/04

CPC classification number: C09K13/00 ,  B24B7/241 ,  C03C19/00 ,  C09G1/02 ,  C09K13/02

Abstract: 在合成石英玻璃基板的抛光中，采用一种抛光浆液，该抛光浆液包括(i)包括五肽的重复单元：-[缬氨酸-脯氨酸-甘氨酸-缬氨酸-甘氨酸]-、并且具有800-150,000分子量的低聚肽，或者该五肽与另-单体的共聚物，和(ii)胶体溶液。

公开(公告)号：CN103064247A

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN201210408103.2

申请日：2012-10-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 冈藤大雄 ,  山崎裕之 ,  竹内正树

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/60 ,  B24B9/14

CPC classification number: B24B37/042 ,  B24B1/00 ,  B24B5/50 ,  B24B7/228 ,  B24B9/065 ,  B24B9/08 ,  B24B37/02 ,  B24B37/04 ,  G03F1/60 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24479

Abstract: 本发明公开了一种电子等级玻璃基板，该电子等级玻璃基板提供有在一个表面中的凹口、槽道或台阶以及在该凹口、槽道或台阶的侧表面和该一个表面之间的第一倒角。对该凹口、槽道或台阶的侧表面和底表面进行镜面抛光，且对该第一倒角进行镜面抛光。

公开(公告)号：CN102328265A

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN201110259674.X

申请日：2011-06-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 冈藤大雄 ,  竹内正树 ,  山崎裕之

IPC: B24B29/02 ,  G03F1/14 ,  G03F1/00

CPC classification number: B24B7/241 ,  B24B7/228 ,  B24B19/03 ,  C03C15/02

Abstract: 本发明涉及用于制造电子级合成石英玻璃衬底的方法。具体地，通过机加工合成石英玻璃衬底以形成凹槽、沟道或台阶，和通过旋转抛光工具的加工部抛光凹槽、沟道或台阶的底和侧表面至镜面光洁度，同时在独立的恒定压力下保持加工部与底和侧表面接触，制造电子级合成石英玻璃衬底。

公开(公告)号：CN102314102A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110255499.7

申请日：2011-06-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松井晴信 ,  长谷川良平 ,  竹内正树

IPC: G03F1/38 ,  G03F7/42

CPC classification number: G03F7/168 ,  B32B38/10 ,  G03F1/14 ,  G03F1/60 ,  G03F7/422 ,  H01L21/00 ,  Y10T156/1116

Abstract: 通过以下方法处理一种具有抗蚀剂膜涂覆于其上的合成石英玻璃基板：将该基板浸入含萜烯的溶剂中直到抗蚀剂膜剥离，并用水冲洗该基板。

公开(公告)号：CN101821058A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200980100696.2

申请日：2009-05-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 原田大实 ,  竹内正树 ,  柴野由纪夫 ,  上田修平 ,  渡部厚

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C03C19/00 ,  B24B1/00 ,  B24B37/00 ,  B24B37/0056 ,  C03C15/02 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1454 ,  C09K3/1463 ,  C09K13/02 ,  C09K13/06

Abstract: 本发明公开了合成石英玻璃基板用抛光剂，其特征在于含有胶体二氧化硅等的胶体溶液，和聚羧酸系聚合物、酸性氨基酸、酚类或糖胺聚糖，所述胶体溶液具有20-50质量％的胶体浓度。

公开(公告)号：CN101430499A

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200810188750.0

申请日：2008-07-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 森川护 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  B65D81/02 ,  B65D81/30 ,  B65D85/48 ,  B65D85/30

CPC classification number: H01L21/67359 ,  H01L21/67393 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1314

Abstract: 一种用于容纳形成光掩模的合成石英玻璃衬底的存储容器，其包括面向玻璃衬底的前和后表面的内壁，和提供在容器内壁上用于收纳用以吸附来自容器的释气成分的吸附剂的贮存器。比率A/B在1.0－120m2/cm2范围内，设A是吸附剂的BET比表面积(m2/g)乘以吸附剂总重量(g)的乘积(m2)，和B是玻璃衬底前和后表面的总面积(cm2)。