气囊抛光装置
    71.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217475579U

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202220959265.4

    申请日:2022-04-24

    Abstract: 本实用新型揭示了一种气囊抛光装置,包括:基座、中空主轴、抛光头、以及用于驱动所述中空主轴旋转的驱动电机;所述中空主轴和所述驱动电机均安装于所述基座上,所述抛光头包括气囊和轴端连接头,所述轴端连接头具有一连通所述中空主轴和所述气囊的气流管道;其中,所述基座上还安装有力位补偿器,所述力位补偿器用于与工业机器人连接以控制所述抛光头的抛光接触力。本实用新型提供的气囊抛光装置,通过力位补偿器的设置来控制抛光接触力,可以将不精确的“气流化力”转化成精确的力控进给控制,从而实现对抛光接触力的精准控制。

    一种简易的真空测温系统
    73.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204718703U

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201520431474.1

    申请日:2015-06-19

    Abstract: 本实用新型公开了一种简易的真空测温系统,包括真空电传输密封结构、用于真空腔体电流传输的导线、用于测量真空腔体内温度的热电阻、用于转换由温度变化导致热电阻阻值的变化所产生的信号且能显示测量温度的智能PID温控仪、为智能PID温控仪提供电源的电源线及安全插头;所述的导线穿过真空电传输密封结构,导线的一端与热电阻相连,导线的另一端连接智能PID温控仪。本实用新型提供了一种简易的真空测温系统,它能适用于结构复杂的真空腔体内部的温度测量,能够在-200℃~+200℃范围内任一点进行温度测量,适用范围广,且加工安装容易,成本低。

    多点接触模式下的大面积摩擦诱导微米级加工装置

    公开(公告)号:CN202671196U

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201220331439.9

    申请日:2012-07-10

    Abstract: 一种多点接触模式下的大面积摩擦诱导微米级加工装置,由基座、加工平台驱动装置、加载机构和数据采集及控制系统组成,其中:加工平台驱动装置由水平二维电控平移台、手动三维位移台和“L”型的样品台主成;加载机构的构成则是:基座上表面的电动角位移台,力敏型的悬臂梁的固定端固定于电动角位移台的水平工作面上,探针阵列固定于悬臂梁自由端端部的下表面;激光位移传感器位于悬臂梁自由端端部的正上方;水平二维电控平移台、电动角位移台、激光位移传感器均与数据采集及控制系统电连接。该装置的并且加工尺寸大,加工效率高;载荷控制精确、分布均匀,加工出的结构均匀、一致。

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