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公开(公告)号：CN101413101B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200810209523.1
申请日：2008-11-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明提供一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法。采用电子束物理气相沉积技术，通过电子枪交替蒸发金属和陶瓷靶材来制备的。陶瓷层厚度为1μm，金属层厚度为10～35μm。金属层和陶瓷层的体积分数比即厚度即层厚比为10～35。所用的金属靶材为Ni-20Co-12Cr-4Al(wt％)，陶瓷靶材为含8wt％Y2O3的ZrO2(YSZ)。金属/陶瓷微叠层材料具有大层厚比，因此该材料能在很大程度上保持金属材料的韧性好的特点。同时，叠层结构的存在，限制了金属层中柱状晶的长大，减少了裂纹沿金属晶界扩展的可能性。与单层EB-PVD金属薄板相比，该微叠层材料中的金属层发生脆性沿晶断裂的几率更小，金属层强度更高。
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公开(公告)号：CN100494479C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200710072595.1
申请日：2007-08-02
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种采用磁控溅射沉积制备薄膜的方法，它涉及薄膜的制备方法。它解决了现有溅射出的薄膜面积较磁控靶面积小、均匀性较差和靶材的利用率低的问题。本发明的方法为：一、选用靶材，并将衬底置于旋转加热台上；二、将加热台用真空仓密封，抽真空，通入Ar气，电离清洗；三、启动加热灯组，加热到沉积薄膜所需要的温度并保温；四、向真空仓内通入启辉气体，施加溅射功率，控制气体流量，在衬底上加负偏压，移开挡板，开始向衬底表面镀膜；五、采用两台步进电机分别控制旋转加热台和靶的运行轨迹来控制镀膜；六、待真空仓内温度降至室温时即制得薄膜。本发明改变了现有的只能用大靶才能制备大面积薄膜的现状，膜厚易于控制，而且薄膜的均匀度高。
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公开(公告)号：CN101367434A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200810137251.9
申请日：2008-09-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B64C3/26
Abstract: 本发明提供了一种可以实现大面积变形的蒙皮结构。它是由蒙皮重叠结构网格状编织构成，每个蒙皮重叠结构都紧贴不存在空隙，蒙皮重叠结构的侧面设置有蒙皮收放结构。本发明为了实现大面积的变形，利用编织结构来实现。蒙皮收放结构中使用辊子和蒙皮存储舱，使柔性蒙皮可以卷入和卷出收放结构；蒙皮重叠结构使用多层滑道结构使多层柔性蒙皮可以实现完全重叠为一层；蒙皮单元为柔性薄膜材料，相互重叠的蒙皮尺寸相同；当蒙皮发生表面的几何形状复杂变化时，能够大幅度拉伸或压缩，同时不会出现褶皱和破损现象。
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公开(公告)号：CN101100739A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710072595.1
申请日：2007-08-02
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种采用磁控溅射沉积制备薄膜的方法，它涉及薄膜的制备方法。它解决了现有溅射出的薄膜面积较磁控靶面积小、均匀性较差和靶材的利用率低的问题。本发明的方法为：一，选用靶材，并将衬底置于旋转加热台上；二，将加热台用真空仓密封，抽真空，通入Ar气，电离清洗；三，启动加热灯组，加热到沉积薄膜所需要的温度并保温；四，向真空仓内通入启辉气体，施加溅射功率，控制气体流量，在衬底上加负偏压，移开挡板，开始向衬底表面镀膜；五，采用两台步进电机分别控制旋转加热台和靶的运行轨迹来控制镀膜；六，待真空仓内温度降至室温时即制得薄膜。本发明改变了现有的只能用大靶才能制备大面积薄膜的现状，膜厚易于控制，而且薄膜的均匀度高。
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