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公开(公告)号：CN102346269A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201110352070.X
申请日：2011-11-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素为光栅结构，该光栅结构包括基底、介质光栅以及金属层，所述金属层全覆盖于介质光栅上，该金属层的厚度小于所述介质光栅槽宽的一半，所述介质光栅的厚度与所述光栅结构滤光颜色的补色光相对应。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有较高的光能利用率，同时具有低的角度敏感性和利于制作等特点。
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公开(公告)号：CN101546003B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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公开(公告)号：CN101850680A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN201010180251.4
申请日：2010-05-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有动态立体效果的安全薄膜，具有微透镜阵列层、基材层、微图文层；微图文层内包括至少6个微图文；在使用状态下，所述微图文层位于微透镜阵列的焦面附近，其特征在于：微透镜阵列层内的各微透镜的中心坐标在微透镜阵列层内随机分布，微透镜阵列层内的微透镜与微图文层内的微图文一一对应设置。本发明利用莫尔放大和微透镜技术，实现了许多独特的视觉效果，减少了工艺流程，除了紫外压印以外，还可在PET、PMMA、PC等有机薄膜材料上直接制作，具有很高的性能。
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公开(公告)号：CN100580544C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN110119071A
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201810117030.9
申请日：2018-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种干涉光刻系统，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统，第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统，锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单，制作成本低，能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106646691B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201611125124.8
申请日：2016-12-09
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法，其包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比，可以实现任意形状的菲涅尔器件；且尺寸不受限制，通过拼版等工艺，可以做大尺寸的菲涅尔器件；且该方法降低了成本。
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公开(公告)号：CN108931851A
公开(公告)日：2018-12-04
申请号：CN201710388885.0
申请日：2017-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B60K35/00 , G02B27/01 , G02B27/0101 , B60K2370/334
Abstract: 一种抬头显示系统，包括纳米成像膜、挡风玻璃和投影装置，纳米成像膜包括多个像素，每个像素内设有纳米衍射光栅，纳米成像膜设置在挡风玻璃上，投影装置设置在纳米成像膜的焦距内，投影装置可将图像光投影到纳米成像膜上，纳米成像膜的各像素通过纳米衍射光栅反射衍射光，并将衍射光在纳米成像膜的前端汇聚成视点。本发明的抬头显示系统能够承接虚像，具有成像功能，简化了投影系统，并且成本低。本发明还涉及一种汽车。
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公开(公告)号：CN108790150A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN104009124B
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201410265681.4
申请日：2014-06-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H01L31/18 , H01L31/0224
CPC classification number: H01L31/022433 , H01L31/02168 , H01L31/022425 , H01L31/1864 , Y02E10/50
Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池超精细电极转移薄膜、制备方法及其应用方法，所述电极转移薄膜从下至上依次包括衬底、离型层、树脂层及热熔胶层，所述树脂层中形成有电极沟槽，电极沟槽中形成有电极。本发明通过卷对卷纳米压印的方式，在透明薄膜上连续制备出超精细导电电极，电极线宽2μm‑50μm，典型线宽10μm‑30μm。直接将热熔胶层的超精细电极与太阳能电池贴合，剥离衬底材料，高温烧结，热熔胶层材料挥发而电极保留，电极整体性地转移下来，不存在局部转移不佳的问题，具有可靠、高效、便于应用的优点。由于这种超精细电极线宽比用通常丝网印刷线宽至少小一倍，使得导电浆料使用量降低，同时，这种电极对太阳能电池遮光面积减少，有利于转换效率提高。
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公开(公告)号：CN107908086A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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