音响传感器
    51.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101690264B

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:CN200880023767.9

    申请日:2008-01-30

    CPC classification number: H04R19/04 H04R19/005 H04R31/00

    Abstract: 一种音响传感器,使感应音压的振动电极板(24)与相对电极板(25)相对,构成电容式音响传感器。在相对电极板(25)上开设用于使振动通过的音响孔。在相对电极板(25)上开设的音响孔由开口面积比较小的多个音响孔(31)和开口面积比较大的一个音响孔(36)构成,音响孔(31)、(36)以等间隔配置成晶格状。在将膜片(28)的宽度设为L时,开口面积比较大的音响孔(36)设置在相对电极板(25)上的以与膜片(28)的中心相对的位置为中心的半径r=L/4的圆形区域a的内部。

    声音传感器及其制造方法
    53.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102238461A

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN201110094292.6

    申请日:2011-04-15

    CPC classification number: H04R19/005 H04R19/04

    Abstract: 本发明提供一种声音传感器,不使梁部的强度及隔膜的支承强度降低,而能够加长梁部的未由锚件固定的部分的长度。在硅基板(32)的上面,在由多晶硅构成的第一牺牲层(48)的延伸部(48a)上经由由氧化硅膜构成的第二牺牲层(47)形成有由多晶硅构成的隔膜(33)的梁部(36a)。延伸部(48a)形成在梁部(36a)的除前端部之外的区域下。从设于硅基板(32)的背室(35)蚀刻除去延伸部(48a),在梁部(36a)的下面的除前端部之外的区域形成空洞部(50)后,进一步蚀刻除去第二牺牲层(47)。此时,在梁部(36a)的前端部下面残留第二牺牲层(47)作为锚件(37)。

    静电电容式振动传感器
    54.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102124755A

    公开(公告)日:2011-07-13

    申请号:CN200980131929.5

    申请日:2009-02-20

    Abstract: 本发明提供一种静电电容式振动传感器。在硅基板(32)上形成贯通其表面背面的贯通孔等空洞部(36)。振动电极板(34)将空洞部(36)的上面侧的开口覆盖而配置在硅基板(32)的上表面。固定电极板(35)与振动电极板(34)隔开微小间隙而将振动电极板(34)的上方覆盖,周边部固定在硅基板(32)的上表面。固定电极板(35)通过侧壁部支承隔着空间与硅基板(32)的上表面相对的部分,所述侧壁部设置在不隔着空间而固定在硅基板(32)上表面的部分的内缘,固定电极板(35)的侧壁部的外表面被Au、Cr、Pt等金属构成的加强膜(44)覆盖。

    静电电容式振动传感器
    57.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101785325A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200980100206.9

    申请日:2009-02-18

    CPC classification number: H04R19/005 H04R2201/003

    Abstract: 一种静电电容式振动传感器。在硅基板(32)上贯通表面及背面而形成有贯通孔(37)。覆盖贯通孔(37)而在硅基板(32)的上表面形成振动电极板(34),在振动电极板(34)之上隔着气隙(35)而形成固定电板(36)。在固定电极板(36)中与振动电极板(34)相对的区域,在该区域内的外周部设有音响孔(43b),其比在该区域内的外周部以外设置的音响孔(43a)的开口面积小。这些音响孔(43a、43b)无论其开口面积大小如何,都以一定的间距有规则地排列。

    麦克风的制造方法
    58.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101422053A

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200780013260.0

    申请日:2007-02-23

    Abstract: 本发明涉及一种麦克风的制造方法。使牺牲层(36)从药液投入口(31)露出,利用从药液投入口(31)导入的蚀刻剂将牺牲层(36)和牺牲层(35)蚀刻除去。由于在除去了牺牲层(35)后的痕迹的蚀刻窗口(34)使Si衬底(22)的表面露出,因此,在蚀刻窗口(34)的下方对Si衬底(22)进行结晶各向异性蚀刻并产生空腔(23)。与此相对,由于在蚀刻除去了牺牲层(36)的空间,Si衬底(22)的表面由保护膜(32)覆盖,因此,Si衬底(22)未被蚀刻而在此形成通风孔(26)。可通过来自表面侧的蚀刻在半导体衬底形成空腔。另外,能够很容易制造声阻大的通风孔。

Patent Agency Ranking