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公开(公告)号：CN116406351A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202180075924.6
申请日：2021-11-19
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C07C59/58
Abstract: 本发明提供一种含氟聚合物，其是通式(I)所表示的单体(I)的含氟聚合物，其中，相对于构成上述含氟聚合物的全部聚合单元，基于单体(I)的聚合单元(I)的含量为40摩尔％以上，重均分子量(Mw)为1.4×104以上。通式(I)：CX2＝CX‑O‑Rf‑A(式中，X独立地为F或CF3，Rf为碳原子数1～40的含氟亚烷基、或者为碳原子数2～100的具有醚键或酮基的含氟亚烷基。A为‑COOM、‑SO3M、‑OSO3M或‑C(CF3)2OM(M为‑H、金属原子、‑NR74、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓，R7为H或有机基团)。)。
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公开(公告)号：CN113667247A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202110947411.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 佐藤洋之 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平
Abstract: 本发明涉及包含含氟聚合物的组合物及其成型体。一种组合物，其特征在于，包含含氟聚合物，包含相对于含氟聚合物为500ppb以上的下述通式(3)所示的化合物，式(3)中，M2为H、金属原子、NR54、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的磷鎓，R5为H或有机基团、可以相同或不同；q为1或2。通式(3)：(H‑(CF2)8‑SO3)qM2。
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公开(公告)号：CN112638957A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980048577.0
申请日：2019-07-23
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 藤本阳平 , 市川贤治 , 佐藤洋之 , 宇佐美亮太 , 难波义典 , 吉田裕俊 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 助川胜通 , 山中拓 , 岸川洋介 , 青山博一 , 米田聪 , 石原寿美 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 新田真之介 , 中野麻里奈
Abstract: 本发明提供一种拉伸性优异的聚四氟乙烯。本发明涉及一种聚四氟乙烯，其特征在于，标准比重为2.175以下，热不稳定指数(TII)为20以上。
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公开(公告)号：CN111836835A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN201980015419.5
申请日：2019-03-01
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 难波义典 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 吉田裕俊 , 佐藤洋之 , 加藤丈人 , 伊藤剑吾 , 石原寿美 , 东昌弘 , 米田聪 , 青山博一 , 助川胜通 , 岸川洋介 , 平良隆博 , 奥井千亚纪 , 山中拓
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其包括下述工序：在包含聚合单元(1)的聚合物(1)的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，上述聚合单元(1)基于下述通式(1)所示的单体。CX2＝CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)(式中，X相同或不同，为‑H或‑F，Y为‑H、‑F、烷基或含氟烷基，Z相同或不同，为‑H、‑F、烷基或氟代烷基。Rf是碳原子数为1～40的含氟亚烷基或碳原子数为2～100的具有醚键的含子基氟的、‑亚N吡R烷啶74基鎓、具。或A有者为或具‑不C有O具或O有M不取、具‑代S有O基取3M的代或咪基‑唑O的S鎓磷O3、鎓M具，(有RM7或为为不‑HH具或、有金有属取机原代基团。其中，X、Y和Z中的至少一者包含氟原子。))。
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公开(公告)号：CN111801359A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN201980017164.6
申请日：2019-03-07
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 吉田裕俊 , 加藤丈人 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 东昌弘 , 米田聪 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 细川萌 , 中野麻里奈 , 田中勇次 , 岸川洋介 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 佐藤洋之
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够减少杂质含量的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其特征在于，包括下述聚合工序：在表面活性剂的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，上述表面活性剂为羧酸型的含烃表面活性剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109790102A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059652.4
申请日：2017-09-29
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C07C69/716 , B01F17/10 , B01F17/18 , B01F17/20 , B01F17/22 , B01F17/36 , C07C69/34 , C07C235/12 , C07C305/10 , C09K3/00
CPC classification number: C07C69/34 , C07C69/716 , C07C235/12 , C07C305/10 , C09K3/00
Abstract: 本发明提供新型含烃羧酸、含烃磺酸、含烃硫酸酯或它们的盐、表面活性剂。一种化合物，其特征在于，其由通式(1)所表示。通式(1)：CR1R2R4-CR3R5-X-A(式中，R1～R5表示H或一价取代基，其中，R1和R3中的至少一者表示通式：-Y-R6所表示的基团，R2和R5中的至少一者表示通式：-X-A所表示的基团或者通式：-Y-R6所表示的基团。A在其各出现中相同或不同，为-COOM、-SO3M或-OSO3M。)。
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公开(公告)号：CN109790100A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059614.9
申请日：2017-09-29
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C07C59/185 , B01F17/00 , C09K3/00
CPC classification number: B01F17/00 , C07C59/185 , C09K3/00
Abstract: 本发明提供具有2个以上羰基的新型羧酸盐或磺酸盐以及表面活性剂。一种化合物，其特征在于，其由式：R1-C(＝O)-R2-C(＝O)-R3-A所表示。(式中，R1是碳原子数为1以上的直链状或支链状的烷基或者碳原子数为3以上的环状烷基，与碳原子键合的氢原子未被取代或者被羟基或包含酯键的1价有机基团所取代，在碳原子数为2以上的情况下包含或不包含羰基，在碳原子数为3以上的情况下可以包含1价或2价杂环、也可以卷成环。R2和R3独立地为单键或2价连结基团。R1、R2和R3的碳原子数合计为5以上。A为-COOX或-SO3X(X为H、金属原子、NR44、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓或者具有或不具有取代基的磷鎓，R4为H或有机基团，可以相同或不同)。R1、R2和R3中，任意二者可以相互键合形成环。)。
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公开(公告)号：CN100477319C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN03822304.X
申请日：2003-09-18
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: H01L51/00
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L51/0012 , Y10T428/24917 , Y10T428/24926
Abstract: 通过本发明可以得到在交替线形图案表面上具有功能性化合物层的各向异性材料，交替线形图案表面中，一方的线含有含氟化合物，另一方的线含有非含氟化合物。使用具有特定结构的含氟化合物作为表面处理剂制造图案表面，以此图案表面用作模板，通过涂布功能性化合物溶液的工序，可以制造纳米～微米级的功能性化合物的结构体。以至少一个区域经含氟化合物表面处理的图案表面作为模板，能提高功能性化合物的特性。
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公开(公告)号：CN101203572A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200680022697.6
申请日：2006-06-22
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08L101/00 , C08L101/04 , C08K9/04
Abstract: 本发明涉及表面改性纳米填料和高分子复合材料。本发明涉及的高分子复合材料具有优异的耐热性、机械物理性能、物质透过屏蔽性、阻燃性、导电性等。此外，本发明的表面改性纳米填料是可用于这样的高分子复合材料的新型表面改性纳米填料。本发明的高分子复合材料含有纳米填料、含氟化合物和聚合物。含氟化合物键合在纳米填料表面。表面键合有含氟化合物的纳米填料被混合、分散在聚合物中。
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公开(公告)号：CN1398271A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN01804796.3
申请日：2001-04-03
Applicant: 大金工业株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , Y10S430/106 , Y10S430/108
Abstract: 提供一种对真空紫外区(157nm)能量射线(射线)透明性高、具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物，以及使用它作光刻胶用的含氟基础聚合物，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。由式：－(M1)－(M2)－(A)(式中，M1是具有酸解离性或酸分解性官能团的结构单元，M2是含氟丙烯酸酯结构单元，A是来源于其他能共聚单体的结构单元)表示的，其中含有1～99摩尔％结构单元M1，1～99摩尔％结构单元M2及0～98摩尔％结构单元A，M1/M2为1～99/99～1摩尔％且数均分子量为1,000～1,000,000的含氟聚合物，或者含有该聚合物等带酸反应性基团的含氟聚合物的、适于光刻胶用含氟基础聚合物用材料，使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物。
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