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公开(公告)号：CN108069416A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201611019880.2
申请日：2016-11-14
Applicant: 北京大学
IPC: C01B32/186
Abstract: 本发明公开了一种超洁净石墨烯及其制备方法。本发明提供的制备超洁净石墨烯的方法，包括如下步骤：将泡沫铜置于铜基底上方并贴靠后，通入碳源气体和氢气进行化学气相沉积，沉积完毕即在所述铜基底与所述泡沫铜接触的一面得到所述超洁净石墨烯。该制备方法简单，可大规模生产，连续洁净面积达到亚厘米级，能适用于电子学、光学等方面的应用。
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公开(公告)号：CN210572024U
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201921124479.4
申请日：2019-07-16
Abstract: 本实用新型一实施方式提供了一种评估石墨烯洁净度的装置，包括依次排布的预热区、负载区以及成像区；所述预热区包括第一加热器，所述预热区用以对待评估的石墨烯进行预热；所述负载区包括熏蒸部件，所述负载区用以将熏蒸样品负载于所述石墨烯的表面；所述成像区用以为负载有熏蒸样品的所述石墨烯采集图像。本实用新型一实施方式的评估石墨烯洁净度的装置，可实现石墨烯洁净度的无损、快速评估。
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公开(公告)号：CN210388943U
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201921241233.5
申请日：2019-08-02
IPC: B25B11/00
Abstract: 本实用新型提供了一种用于制备单晶化铜箔的载具，包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板以及用于支撑支撑板的板架，板架包括底板和侧板，底板的上表面设有多个限位部，多个支撑板的一端分别连接于多个限位部。多个支撑板的另一端向侧板方向倾斜，且距离侧板最近的支撑板抵接于侧板。多个支撑板层叠设置，且相邻两个支撑板之间设有隔离块，用以限定两个相邻支撑板之间的距离为一设定距离。
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公开(公告)号：CN209238603U
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201821828586.0
申请日：2018-11-07
IPC: B08B7/00
Abstract: 本实用新型提供了一种带形物品清洗装置，清洗装置包括腔室以及至少一滚轮。腔室包括供带形物品进出的进料口以及出料口；至少一滚轮设置在腔室内，每一滚轮的轴线垂直于进料口和出料口的连线，每一滚轮表面设置有吸附剂；其中，在清洗过程中，带形物品与至少一滚轮表面的吸附剂接触。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209242684U
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201821846250.7
申请日：2018-11-09
IPC: C01B32/186
Abstract: 本实用新型提供了一种利用CVD方法生长石墨烯薄膜的载具，用于放置在CVD设备的石英管内。载具包括底座、矩形底板以及多个矩形托板。矩形底板水平地设置在底座上方，且固定连接于底座；多个矩形托板用于承载石墨烯生长衬底，每一矩形托板上表面的四周设置有多个支撑体，石墨烯生长衬底容纳于多个支撑体围成的空间，多个矩形托板可层叠地放置在矩形底板上，相邻两个矩形托板之间用支撑体隔开。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN208440698U
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201820925014.8
申请日：2018-06-14
Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯的清洁装置，包括动力系统和滚轮；所述动力系统包括动力轴；所述滚轮表面设置有吸附剂；所述滚轮能够在所述动力轴的作用下对所述石墨烯的表面进行滚压吸附处理。本实用新型一实施方式的石墨烯的清洁装置，通过具有吸附性的滚轮对石墨烯表面进行滚压处理，可以获得超洁净石墨烯。
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公开(公告)号：CN211311578U
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201921241279.7
申请日：2019-08-02
IPC: C23C16/458 , C23C16/26
Abstract: 本实用新型提供一种用于批量化生长石墨烯薄膜的载具，包括用于承载生长衬底的多个支撑板和用于支撑多个支撑板的板架，板架呈空心方柱结构且其水平设置，板架包括两个相对设置的侧部，两个侧部的相互面对的一面开有多个相互独立的条形槽，两个侧部上的条形槽一一对应，支撑板能够沿着两个对应的条形槽插入板架内。
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公开(公告)号：CN211014834U
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201922398529.4
申请日：2019-12-27
IPC: G02B21/34
Abstract: 本实用新型提供了一种载物台，应用于一显微镜，载物台包括样品托、盖板和导向结构，样品托包括一用于放置样品的工作面，工作面具有多个下凹部，多个下凹部用于容纳多个样品；盖板可拆卸地覆盖于样品托的工作面，盖板包括多个观测孔，多个观测孔与多个下凹部一一对应，每个观测孔的面积小于与其对应的下凹部的面积；导向结构设于样品托和盖板。操作人员在进行样品观测时，一方面避免了样品的脱落，另一方面，由于样品放置于下凹部中而没有额外引入导电胶或其他粘性剂，实现了无损洁净观测。
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公开(公告)号：CN209584367U
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201920153423.5
申请日：2019-01-29
IPC: C23C16/44 , C23C16/458 , C23C16/26
Abstract: 本实用新型提供了一种化学气相沉积装置，用于制备薄膜材料，包括第一腔室、第二腔室、过渡腔室、底盘以及传送机构。第一腔室和第二腔室用于薄膜材料的生长或后处理。过渡腔室通过隔离件分别连通于第一腔室和第二腔室。底盘用于装载生长衬底。传送机构被配置为在第一腔室和过渡腔室之间传送底盘，以及在第二腔室和过渡腔室之间传送底盘。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209442655U
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201920038866.X
申请日：2019-01-09
IPC: C01B32/194
Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯薄膜转移装置，用以将石墨烯薄膜转移至目标基底。石墨烯薄膜转移装置包括壳体、刻蚀与清洗组件以及蠕动组件。壳体包括第一进水口和第一出水口，壳体内部形成真空腔体。刻蚀与清洗组件设于真空腔体内，包括腔室以及限位框。腔室包括第二进水口和第二出水口，分别连通于第一进水口和第一出水口。限位框悬浮于腔室内的液体，限位框形成一限域，石墨烯薄膜设于限域内，目标基底设于腔室的底部。蠕动组件用于控制液体进出的流速。其中，随着液面下移，石墨烯薄膜转移至目标基底。
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