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公开(公告)号：CN103645348B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201310642547.7
申请日：2013-12-03
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G01Q60/24
Abstract: 一种微纳米尺度耦合振动高分辨测量方法。该方法基于原子力显微镜AFM成像技术，首先使钝化的AFM探针与扫描器上的光滑样品表面接触，通过高压驱动器驱动扫描器带动样品做X轴方向往复扫描运动，利用光电探测器同步检测AFM探针Z轴方向偏转过程，实现扫描器X轴方向运动引起扫描器Z轴方向耦合振动的微纳米尺度高分辨测量。
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公开(公告)号：CN105140088A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510440961.9
申请日：2015-07-24
Applicant: 北京航空航天大学 , 中国科学院电工研究所
IPC: H01J35/14
Abstract: 本发明公开了大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法，包括聚光镜模块、过渡段模块、可动光阑模块、物镜模块和电子束通道；电子枪发射出的电子束经过聚光镜模块，在由聚光镜模块形成的磁场作用下，形成平行束；经过过渡段模块后，通过移动可动光阑，选择可动光阑上合适的通光孔调节靶面电子束的入射角，改变靶平面处的束流大小和束斑尺寸。该聚焦装置的使用方法，包括步骤一、设置初始条件和性能指标；步骤二、设置物镜模块参数；步骤三、设置聚光镜模块的参数，实现平行工作模式；步骤四、实现电子束束流间的快速切换，在靶面处形成大束流微束斑；优点在于：采用平行模式，无电子束交叉点，降低了电子间库仑力效应。
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公开(公告)号：CN105047509A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510441709.X
申请日：2015-07-24
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: H01J35/14
Abstract: 本发明公开了大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置，包括电子束通道管、聚光镜模块、过渡段模块、物镜模块、可动光阑模块、物镜光阑座和靶；聚光镜模块上端与电子枪连接，下端固连过渡段模块；过渡段模块下端固连物镜模块，物镜模块下端套接物镜光阑座，物镜光阑座内部安装可动光阑。可动光阑模块有2个，末端中心位置分别对称开有半V型孔；当光阑片左右移动，通过控制叠加区域，形成连续不同尺寸孔径的通光孔。电子束通过电子束通道管从上到下依次穿过聚光镜模块、过渡段模块、物镜模块和可动光阑模块，到达靶平面；通过轰击靶产生X射线；优点在于，高精度的可动光阑通光孔尺寸能够实现不同束斑直径的电子束的快速切换。
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公开(公告)号：CN104409304A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410652918.4
申请日：2014-11-17
Applicant: 中国科学院电工研究所
CPC classification number: H01J35/08 , C23C14/16 , C23C14/35 , H01J9/02 , H01J2235/081
Abstract: 一种工业CT机X射线管用透射靶及其制备方法，有钨/铝靶和钨/金刚石靶两种类型。所述的钨-铝靶包括靶面(1)和铝基体(201)；所述的钨-金刚石靶包括靶面(1)、金刚石基体(5)和铝支撑架(202)；所述的靶面(1)为圆形的钨薄膜；所述的铝基体(201)和金刚石基体(5)均为圆形薄片；所述的钨-金刚石靶的铝支撑架(202)的中心开有一个通孔，所述的金刚石基体(5)放置在铝支撑架(202)的中心通孔内，与铝支撑架(202)焊接在一起；所述的靶面(1)采用磁控溅射方法镀在铝基体(201)表面或金刚石基体(5)表面。
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公开(公告)号：CN103645347A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310642439.X
申请日：2013-12-03
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G01Q60/24
Abstract: 一种微纳米尺度动态耦合振动的单点跟踪测量方法。首先使AFM探针在未接触平板扫描器表面的情况下，驱动压电扫描器带动探针以一定频率和幅值进行X方向往复扫描运动，实时记录探针Z方向偏转以获得压电扫描器Z方向振动模态；然后通过自动进针及扫描器微调使探针与平板扫描器表面接触，再控制平板扫描器在X方向与探针同步运动，记录探针Z方向偏转以获得压电扫描器与平板扫描器同步运动振动模态；最后将记录的同步运动振动模态和压电扫描器振动模态相减，即可得平板扫描器某一位置点X方向运动引起的Z方向耦合振动模态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103616621A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201310598638.5
申请日：2013-11-25
Applicant: 中国科学院电工研究所
Abstract: 一种电子枪真空放电检测装置，包括导光系统（5）、CCD成像设备、光电传感模块、信号处理模块和显示模块。所述的导光系统（5）通过极紫外光纤分别与CCD成像设备和光电传感模块连接；所述的光电传感模块与信号处理模块连接；所述的CCD成像设备和信号处理模块分别与显示模块连接。所述的导光系统（5）布置在电子枪所处的真空室壁或真空室前端的高压瓷瓶壁上作为探头。本发明利用电子枪真空放电过程中产生的极紫外光分析电子枪的真空放电强度；CCD成像设备对电子枪真空放电进行曝光成像，对放电部位定位。
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公开(公告)号：CN101549592B
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN200910082584.0
申请日：2009-04-24
Applicant: 中国科学院电工研究所
CPC classification number: B41J11/002 , B41J3/32 , B41M3/16
Abstract: 一种盲文打印装置，包括取纸机构、送纸机构、打印机构、固化光源(8)和卸纸机构。取纸机构、打印机构、固化光源和卸纸机构顺序排列安装在底座(6)上方。底座(6)内装有X方向导轨，送纸机构安装在底座(6)内的X方向导轨内，送纸机构在X方向导轨内运动。送纸机构在取纸机构、打印机构、固化光源(8)和卸纸机构的下方穿梭运动；打印机构固定在底座(6)中部两侧的两根立柱(16)上；固化光源(8)和打印机构的喷胶阀(10)分别位于立柱(16)的两侧。组成卸纸机构的卸纸电磁铁夹子(7)安装在底座(6)的尾端。本发明可使打印和固化同时进行。
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公开(公告)号：CN115166810B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202210786535.0
申请日：2022-07-04
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G01T1/29
Abstract: 本发明涉及电子束测量技术领域，具体涉及一种电子束参数测量装置及电子束参数测量方法。一种电子束参数测量装置，包括：微器件阵列结构多层板，所述多层板上设有多个阵列分布的法拉第杯组件，每个所述法拉第杯组件包括同轴设置的至少两个法拉第杯，至少两个所述法拉第杯贯通设置，电子束经上层所述法拉第杯射入下层所述法拉第杯中，获取每层所述法拉第杯的电子束束流大小，以得到所述电子束的相应参数。本发明提供了一种可快速测量的电子束参数测量装置及电子束参数测量方法。
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公开(公告)号：CN109062268B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201810953777.8
申请日：2018-08-21
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G05D3/20
Abstract: 本发明公开了一种纳米位移台扫描运动控制系统及其实现方法，属于微纳米操控领域。所述系统包括DSP主控制板、X轴信号合成器、Y轴信号合成器以及位置信号反馈单元，所述的DSP主控制板包括DSP芯片和DSP总线接口等，所述的X轴信号合成器和Y轴信号合成器分别包括主DA单元、增益DA单元、平移DA单元、旋转DA单元以及求和运放单元；所述DSP主控制板通过DSP总线接口，为X轴信号合成器发送X轴信号，为Y轴信号合成器发送Y轴信号；同时接收来自所述位置信号反馈单元的X轴反馈信号和Y轴反馈信号。利用本发明可以准确的调整扫描区域平移量，又确保了扫描区域始终使用16位DA输出能力，有效提高了扫描运动分辨力。
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公开(公告)号：CN110055540B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201910495103.2
申请日：2019-06-10
Applicant: 中国科学院电工研究所
Abstract: 本发明提供了一种在钨材料表面制备微纳结构的方法和表面具有微纳结构的钨材料及其应用，属于材料表面微结构技术领域。本发明提供的在钨材料表面制备微纳结构的方法，包括以下步骤：在真空条件下，采用氦离子显微镜在钨材料的表面进行第一离子刻蚀，得到刻蚀微区；在真空条件下，采用氦离子显微镜对所述刻蚀微区进行第二离子刻蚀，在所述刻蚀微区内形成纳米条纹，在钨材料表面得到微纳结构。本发明提供的制备方法在真空条件下操作，不易受污染；氦离子显微镜具有超高精度的多功能的加工能力，采用氦离子显微镜进行制备的微纳结构精确高；能够实现对微纳结构的定量控制；而且工艺简单、成本低。
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