一种耐高温抗热震SiC/B4C复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN105175028A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510638190.4

    申请日:2015-09-29

    Abstract: 本发明涉及一种耐高温抗热震SiC/B4C复合涂层及其制备方法,复合涂层包括:沉积于基底材料上的SiC涂层、和沉积于SiC涂层外表面的B4C涂层。本发明将SiC/B4C两种相涂层结合,有效克服了单层SiC涂层氧化生成的SiO2低温下挥发性差,无法完全封填涂层本身存在裂纹的缺点,同时B4C低温下氧化下生成的B2O3具有良好的流动性,有效的阻挡了氧的入侵,当氧从外入侵到SiC内层时,由于此时材料表面温度已升高,SiO2具有良好流动性,可以有效封填裂纹。

    一种二维纳米硼碳氮半导体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN110668457B

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN201911047283.4

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明涉及一种二维纳米硼碳氮半导体材料的制备方法,所述二维硼碳氮纳米材料的片状直径为1~50μm,层数为1~10层;所述二维纳米硼碳氮半导体材料的制备方法包括:(1)将硼源、固体碳源和纳米氧化铁催化剂加入溶剂中并混合得到混合浆料;所述硼源选自固体硼源或/和液体硼源,优选为无定形硼粉、硼酸三甲酯、硼砂中的至少一种;所述固体碳源选自石墨、石墨烯、活性炭中的至少一种;(2)将所得混合浆料涂敷在衬底表面并烘干,置于压力2~40atm的氮气气氛中、在800~1400℃下热处理0.5~20小时,得到所述二维纳米硼碳氮半导体材料。

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