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公开(公告)号：CN107706075A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201711095055.5
申请日：2017-11-09
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种多区域探测扫描变像管。所述的变像管中的阴极、栅网、预偏阵列板I、聚焦系统、预偏阵列板II、隔离网、扫描板和荧光屏沿轴向OZ顺序排列。待测信号穿过阴极上的多条狭缝后，与阴极相互作用发射出多条电子束，电子束在预偏阵列板I与预偏阵列板II的共同作用下实现分离，并在聚焦系统和扫描板的共同作用下，实现对电子束的聚焦成像和扫描，获得待测信号的时空信息。由于各条电子束之间分离距离较大，扫描过程中不会相互干扰。这种多区域探测扫描变像管可以对待测目标的多个区域进行同时测量，可以获取等多的有用信息，具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN105750740B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201610255308.X
申请日：2016-04-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/50 , B23K26/064
Abstract: 本发明实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括光源装置、检偏器及反射装置，待处理样品设置在所述检偏器及所述反射装置之间的光传播路径中。所述光源装置输出的预处理激光光束入射到所述检偏器，透过所述检偏器的预处理激光光束入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述反射装置反射后再次入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述检偏器出射。本发明实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。
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公开(公告)号：CN106770128A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710017461.3
申请日：2017-01-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/64
CPC classification number: G01N21/6402
Abstract: 本发明公开了一种快速三维探测光学元件亚表面缺陷的检测装置及检测方法，装置包括水平的样品台和计算机，所述样品台连接高精度三维电动移动平台和压电陶瓷z向平移台，并能分别由二者驱动其运动，所述样品台内设有光学元件的样品；样品台下方设有激光器、图像采集单元，上方设有一共聚焦成像系统。本发明利用一束连续强激光辐照光学元件，元件亚表面缺陷容易受激光激发产生荧光，用高倍率荧光显微成像系统可实现荧光缺陷的二维扫描，获得元件亚表面缺陷的二维分布情况；定位荧光缺陷的位置，利用荧光共聚焦成像系统进行深度扫描，获得光学元件亚表面缺陷的深度分布情况，从而可以实现熔石英元件亚表面缺陷的快速三维测试。
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公开(公告)号：CN105750740A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610255308.X
申请日：2016-04-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/50 , B23K26/064
CPC classification number: B23K26/50 , B23K26/064
Abstract: 本发明实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括光源装置、检偏器及反射装置，待处理样品设置在所述检偏器及所述反射装置之间的光传播路径中。所述光源装置输出的预处理激光光束入射到所述检偏器，透过所述检偏器的预处理激光光束入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述反射装置反射后再次入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述检偏器出射。本发明实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。
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公开(公告)号：CN105717127A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610081864.X
申请日：2016-02-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/88
CPC classification number: G01N21/8806
Abstract: 本发明提供了一种光热弱吸收测试装置及方法，属于光学元件吸收率的测试技术领域，所述光热弱吸收测试装置包括第一光源、第二光源、微调平台及探测器，待测样品放置于所述微调平台上。通过微调平台调节待测样品的位置，使所述第一光源发出的泵浦光经过所述待测样品的中心轴且聚焦到所述待测样品的预设待测点，使所述第二光源发出的探测光也经过所述待测样品的中心轴且聚焦到所述预设待测点，且所述探测光的聚焦光斑面积大于所述泵浦光的聚焦光斑面积，透过所述待测样品的探测光入射至所述探测器。本发明实施例提供的光热弱吸收测试装置及方法有效地实现了对光纤或光纤预制棒等折射率呈轴对称分布的光学结构的光热弱吸收特性的测试。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN205538714U
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201620162935.4
申请日：2016-03-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/88
Abstract: 本实用新型提供了一种光热弱吸收测试系统，应用于光学元件的吸收缺陷测试领域，所述光热弱吸收测试系统包括离轴抛物镜、样品台、探测器、探测光源以及多个泵浦光源，所述多个泵浦光源发出的泵浦光的波长不尽相同；所述多个泵浦光源分别发出的泵浦光经所述离轴抛物镜反射后均聚焦到安装在样品台上的待测样品的预设待测点处，所述探测光源发出的探测光也聚焦到所述待测样品的预设待测点处，透过所述待测样品的探测光进入所述探测器，从而得到所述待测样品对所述多个泵浦光源分别发出的泵浦光的吸收。本实用新型实施例提供的光热弱吸收测试系统有效地实现了多个波长的泵浦激光共同作用时光学材料表面、亚表面及光学膜层的微弱吸收测试。
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公开(公告)号：CN204855406U
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201520629413.6
申请日：2015-08-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本实用新型提供了一种熔石英亚表层微缺陷探测装置，涉及光学器件领域。该熔石英亚表层微缺陷探测装置用于对放置于样品台上的样品进行损伤探测，包括激光器、成像系统、电子倍增电荷耦合元件和显示器，电子倍增电荷耦合元件和成像系统设置于同一直线，当该熔石英亚表层微缺陷探测装置工作时，所述激光器设置于激光能够直接照射至样品的位置，所述电子倍增电荷耦合元件与所述显示器电连接。激光照射到样品后，样品的亚表面缺陷会发出荧光，电子倍增电荷耦合元件接收到的样品发出的荧光图像，并将图像传送给显示器显示，这样，使用者便收集到样品的亚表层微缺陷的荧光图像，对样品的亚表层微缺陷做出判断，避免了对熔石英元件的损坏。
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公开(公告)号：CN206348270U
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201720027309.9
申请日：2017-01-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/64
Abstract: 本实用新型公开了一种快速三维探测光学元件亚表面缺陷的检测装置，装置包括水平的样品台和计算机，所述样品台连接高精度三维电动移动平台和压电陶瓷z向平移台，并能分别由二者驱动其运动，所述样品台内设有光学元件的样品；样品台下方设有激光器、图像采集单元，上方设有一共聚焦成像系统。本实用新型利用一束连续强激光辐照光学元件，元件亚表面缺陷容易受激光激发产生荧光，用高倍率荧光显微成像系统可实现荧光缺陷的二维扫描，获得元件亚表面缺陷的二维分布情况；定位荧光缺陷的位置，利用荧光共聚焦成像系统进行深度扫描，获得光学元件亚表面缺陷的深度分布情况，从而可以实现熔石英元件亚表面缺陷的快速三维测试。
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公开(公告)号：CN208156292U
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201820441013.6
申请日：2018-03-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学元件体散射缺陷探测装置，光学元件为长方体结构，包括多个光束照射面；光学元件体散射缺陷探测装置包括光源、三维平移台、分光单元、照明系统及成像系统，光源用于发出光束L0；三维平移台用于承载和平移光学元件；分光单元用于将光束L0分为两束光束；照明系统用于将两束光束分为多束光束后垂直入射多个光束照射面，以形成多光束交叠照明区域；成像系统用于对多光束交叠照明区域进行成像。本申请提供的光学材料体散射缺陷探测装置可实现对体缺陷多角度照明，从而获得材料体内大部分缺陷的清晰成像，对于判断材料质量具有重要参考价值。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN205520069U
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201620345442.4
申请日：2016-04-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00
Abstract: 本实用新型实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括光源装置、检偏器及反射装置，待处理样品设置在所述检偏器及所述反射装置之间的光传播路径中。所述光源装置输出的预处理激光光束入射到所述检偏器，透过所述检偏器的预处理激光光束入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述反射装置反射后再次入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述检偏器出射。本实用新型实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。
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