公开(公告)号：CN119002174A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202410572064.2

申请日：2024-05-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴庆熏 ,  文炯朗 ,  朴时均 ,  郭泽秀 ,  宋明洙 ,  李东炯 ,  范泰源 ,  宋东训

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/32

Abstract: 提供一种形成图案的方法，所述方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物以形成抗蚀剂层；沿着衬底的边缘涂布用于移除边缘珠粒的组合物；实行干燥和热处理；以及进行曝光和显影以形成抗蚀剂图案，其中在涂布用于移除边缘珠粒的组合物之后，在从衬底的边缘朝向衬底的中心约1mm到约30mm的区域中，抗蚀剂层的最大隆起高度小于或等于约300nm。

公开(公告)号：CN118963076A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202410593379.5

申请日：2024-05-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郭泽秀 ,  朴时均 ,  文炯朗 ,  扈锺必 ,  朴庆熏 ,  宋明洙 ,  裵鎭希 ,  金旼秀 ,  韩承 ,  金兑镐 ,  朴景铃

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/16

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂移除边珠的组合物以及一种包括使用所述组合物来移除边珠的步骤的形成图案的方法及形成图案的系统。所述用于移除边珠的组合物包括：添加剂，包含选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的至少一者；羧酸类化合物；以及有机溶剂，其中选自磷酸、亚磷酸类化合物和次亚磷酸类化合物中的所述至少一者对羧酸类化合物的混合重量比为约9:1到约1.2:1。

公开(公告)号：CN117795049A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280055024.X

申请日：2022-07-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文炯朗 ,  李旻映 ,  许伦旼 ,  具滋旼 ,  李东炯 ,  韩多顺 ,  金旼秀 ,  金宰贤

IPC: C11D7/26 ,  C11D7/36 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  G03F7/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

Abstract: 提供一种用于从含金属抗蚀剂中去除边珠的组成物以及一种形成图案的方法，所述方法包括使用所述组成物来去除边珠的步骤，且所述组成物包括有机溶剂以及具有大于或等于30平方埃的AlogP3的化合物。

公开(公告)号：CN105492540B

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201480048288.8

申请日：2014-05-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 张胜宇 ,  文炯朗 ,  禹昌秀 ,  李雨晋 ,  田桓承 ,  韩东一

IPC: C08L83/04 ,  C08G77/04 ,  C08G77/08 ,  H01L23/29

CPC classification number: C08G77/08 ,  C08G77/12 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08K5/56 ,  C08L83/00 ,  C08L83/06 ,  H01L51/5256

Abstract: 本发明涉及一种用于密封有机发光二极管的组合物，包含：(A)含有不饱和基团的有机聚硅氧烷；(B)含有化学式1的不饱和基团和环氧基的有机聚硅氧烷；(C)含有Si‑H基团的有机硅酮化合物；和(D)化学式15的铂催化剂，并且涉及使用其制造的有机发光二极管显示装置。