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公开(公告)号：CN103561955A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280026553.3
申请日：2012-04-05
申请人： 雅马哈发动机株式会社
CPC分类号： G03F7/70925 , B41F15/36 , B41F35/003 , H05K3/1216 , H05K3/3484
摘要： 一种印刷机，包括：模板；清洁部，在与所述模板的下表面平行的指定方向上相对于该模板相对移动来清洁该模板；模板保持部，保持所述模板，并且能够使该模板绕与该下表面正交的轴旋转；控制部，以在所述模板设置于绕所述轴的指定位置的状态下进行清洁的方式进行控制。
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公开(公告)号：CN101063830B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN200710102969.X
申请日：2007-04-27
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·辛格
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70925 , G21K1/003
摘要： 本发明的一个实施例提供了一种用于清洗表面的方法。所述方法包括，利用污染物释放装置将污染物从待清洗表面上至少部分地释放，以及利用污染物去除装置来捕获已被至少部分地释放的污染物，所述污染物去除装置产生至少一个用于收集已被至少部分地释放的污染物的光阱。本发明的实施例还提供了器件制造方法、用于清洗光学元件表面的方法、清洗组件、清洗装置以及光刻装置。
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公开(公告)号：CN102918630A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201180026454.0
申请日：2011-04-04
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70925
摘要： 清洗方法包括：将清洗用的第1液体供给到接液构件而对接液构件进行清洗；回收供给到接液构件的第1液体；在用第1液体对接液构件进行了清洗之后，将与第1液体不同的第2液体供给到接液构件；回收供给到接液构件的第2液体；以及执行使回收的第2液体中包含的第1液体的浓度成为规定浓度以下的处理。
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公开(公告)号：CN102460678A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201080024275.9
申请日：2010-04-14
申请人： 国际检测解决方案公司
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/67011 , B08B1/001 , B08B1/04 , B24B37/34 , C23C16/0227 , G03F7/70925 , H01L21/67028 , Y10T29/49826
摘要： 本发明涉及晶片制造清洗装置、处理和使用方法。一种用于清洗例如集成芯片制造设备的组件或者与这些组件组合的清洗晶片或衬底。所述清洗衬底可包括具有不同预定表面特征的衬底，所述表面特征诸如一个或多个预定粘合的、非粘性的、静电的部分或突起、凹陷或其它物理部分。所述预定特征可提供与它们一起使用的组件的更有效清洗，诸如在集成芯片制造装置中在集成芯片晶片的地方。清洗衬底可通过真空力、机械力、静电力或其它力被推到清洗位置或其它位置。清洗衬底可被改装以实现各种功能，包括研磨或抛光。清洗衬底可通过新颖的制作方法制成，然后它可与芯片制造装置组合用在新的使用方法中。
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公开(公告)号：CN101529337B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200780037980.0
申请日：2007-09-25
申请人： ASML荷兰有限公司 , 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： D·H·厄姆 , J·H·J·莫尔斯 , B·T·沃尔斯克利基恩 , M·G·H·梅杰里恩克 , T·斯蒂恩
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： 本发明公开了一种用以清洁设备的光学元件的方法，该设备构建成将辐射束投影到衬底的目标部分上，该设备包括按序列设置在辐射束路径上的多个光学元件，其中清洁方法包括：使用比该序列中一个或更多个第一光学元件的累积清洁时间段更短的累积清洁时间段清洁该序列中的一个或更多个第二光学元件，第二光学元件在该设备运行过程中接收一个或更多个相对低的第二辐射剂量，第一光学元件在该设备运行过程中接收一个或更多个第一辐射剂量，第二辐射剂量低于每一个相对高的第一辐射剂量。
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公开(公告)号：CN102156389A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010602289.6
申请日：2007-05-23
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341
摘要： 本发明提供一种维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法，该维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
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公开(公告)号：CN102033435A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010501461.9
申请日：2010-09-30
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： K·T·霍尔柯德 , R·F·德格拉夫 , H·詹森 , M·H·A·里德尔斯 , A·J·范德奈特 , P·J·克拉莫尔 , A·昆吉皮尔 , A·H·J·A·马坦斯 , S·范德格拉夫 , A·V·帕迪瑞
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和操作光刻设备的方法以及一种清洁液体供给系统。清洁液体供给系统可以供给乳化的清洁液体，以清洁浸没式光刻设备。
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公开(公告)号：CN102016723A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980114405.5
申请日：2009-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·斯卡克卡巴拉兹 , V·V·伊万诺夫 , K·N·克什烈夫 , J·H·J·莫尔斯 , L·H·J·斯蒂文斯 , P·S·安提斯弗诺夫 , V·M·克里夫特逊 , L·A·多若克林 , M·范卡朋
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： 一种光刻设备，包括被配置以调节辐射束的照射系统和被配置以支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置被配置以将图案赋予辐射束。所述设备包括图案形成装置清洁系统，所述图案形成装置清洁系统被配置以提供静电力至污染物颗粒，所述污染物颗粒位于图案形成装置上且通过辐射束被施以电荷，以便从图案形成装置移除污染物颗粒。
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公开(公告)号：CN101320221B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200810109204.3
申请日：2008-02-14
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： 哈里·休厄尔 , 路易斯·约翰·马克亚
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341
摘要： 提供了一种浸没式光刻设备，其包括：能量源；投影光学系统；台；包括浸没液体供应装置和浸没液体排出装置的喷头在曝光区域内产生液体流；和清洁装置，所述清洁装置使用清洁气体清洁投影光学系统与浸没液体接触的部分。在实施例中，清洁装置包括向曝光区域提供清洁气体流的气体供应装置和气体排出装置。在实施例中，该设备包括含有剂量传感器和/或紫外光源的台。还提供了一种用于在具有向浸没式光刻系统的曝光区域提供浸没流体的浸没流体喷头的浸没式光刻系统中原地清洁最后的透镜元件的方法。
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公开(公告)号：CN101044593B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200580035594.9
申请日：2005-12-09
申请人： 株式会社尼康
发明人： 木田佳己
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70975
摘要： 提供一种曝光装置、曝光方法及组件制造方法。曝光装置(EX)具备测量装置(60)，该测量装置(60)在与曝光对象之基板(P)不同之物体上形成有液浸区域(LR)之状态下，对液体(LQ)之性质与成分中至少一者进行测量。所提供之曝光装置，可事先判断液体之状态，施以适当的处理，以此，透过液体来高精度进行曝光处理与测量处理。
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