-
公开(公告)号：CN106908948A
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201710210514.3
申请日：2017-03-31
Applicant: 西安工业大学
IPC: G02B26/04
CPC classification number: G02B26/04
Abstract: 本发明提供了一种可用于双波长的激光能量衰减装置及方法，解决了多波长激光损伤测试中同一衰减器对不同波长激光能量衰减不同的技术问题。本发明在衰减装置中采用一套或者多套衰减运动执行机构组合形成衰减装置，每个衰减盘上可选取安装多个衰减片，每个衰减片均沉积有用于修正不同波长透射率的光学薄膜。采用532nm和1064nm两个波长的激光束输入，经过本发明的可用于双波长的激光能量衰减装置进行能量衰减，无需更换衰减片及衰减片组合可获得严格一致的衰减率。本发明装置结构简单，使用一套可用于双波长的激光能量衰减装置实现了两套衰减器的功能；衰减精度高，可提高激光损伤阈值测试精度；适用于连续激光和脉冲激光，在工业生产中有广泛应用前景。
-
公开(公告)号：CN104992446A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201510447160.5
申请日：2015-07-27
Applicant: 西安工业大学
CPC classification number: G06T7/0004 , G06T3/4038 , G06T2207/10004 , G06T2207/30164
Abstract: 本发明公开了一种非线性光照自适应的图像拼接方法，该方法为：对摄像机进行标定，通过摄像机对圆柱轴承进行图像采集，对采集得到的圆柱轴承图像展开成平面图像；对所述展开后的平面图像进行中值滤波，对滤波后获得的轴承侧表面图像进行非线性光照自适应的图像拼接，形成一幅完整的而又没有赘余的平面图像。本发明考虑到采集对象光照不均匀的因素，在图像拼接时引入了光照不均补偿因子，这一因子的引入有利于提高图像拼接的质量，还原图像的原始面貌，操作简单，易于理解，运算速度快。
-
公开(公告)号：CN102779711B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201210270460.7
申请日：2012-08-01
Applicant: 西安工业大学
IPC: H01J37/08 , H01J37/147 , H01J37/143
Abstract: 本发明涉及一种用在光学真空镀膜机（离子束辅助沉积设备）或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源，特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是：包括气体放电室，气体放电室的一端设置有绝缘端盖，绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本发明通过一组正交的磁场，对引入磁场中的离子束方向进行控制，通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律，可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小，就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比，本发明的优点是：1、离子源输出的离子束发散角可达180°；2、离子束发散角可以根据实际需要进行调节，可满足不同薄膜沉积过程的需要；3、离子束流密度的均匀性好。
-
公开(公告)号：CN102779711A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201210270460.7
申请日：2012-08-01
Applicant: 西安工业大学
IPC: H01J37/08 , H01J37/147 , H01J37/143
Abstract: 本发明涉及一种用在光学真空镀膜机（离子束辅助沉积设备）或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源，特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是：包括气体放电室，气体放电室的一端设置有绝缘端盖，绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产生单元和磁场扫描单元。本发明通过一组正交的磁场，对引入磁场中的离子束方向进行控制，通过设定X、Y方向电磁线圈的电压变化规律，可以实现离子束的空间扫描。调节电磁线圈的电流大小，就可以实现离子束的空间发散角控制。与现有技术相比，本发明的优点是：1、离子源输出的离子束发散角可达180°；2、离子束发散角可以根据实际需要进行调节，可满足不同薄膜沉积过程的需要；3、离子束流密度的均匀性好。
-
公开(公告)号：CN102226764A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201110083959.2
申请日：2011-04-02
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01N21/63
Abstract: 本发明涉及薄膜或光学元件表面激光损伤的判别方法及其判定装置。现有技术主观性强，工作强度大，测试效率低。本发明提供一种薄膜或光学元件表面激光损伤的判别方法，作用激光对样片进行单脉冲的激光辐照，如果样品表面没有发生损伤，其表面不发生等离子体闪光；如果样品表面发生了损伤，在损伤瞬间会发生强烈的等离子体闪光，分析闪光光谱，如果出现了N、O、H、C以外元素的发光峰，则判定出现损伤，和一种实现上述判别方法的装置，包括激光发生器和测试台，其特征在于：还包括会聚透镜和位于会聚透镜成像面上的光纤探头，光纤探头、光纤光谱仪和计算机依次相接。本发明判别精度高；判别速度快；判别薄膜的种类范围宽；装置结构简单。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116839870A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310789813.2
申请日：2023-06-30
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及薄膜等离子体闪光持续时间的确定方法及装置，该方法通过持续测量薄膜表面等离子体冲击波压强ps随时间的变化，获得薄膜表面等离子体冲击波速度vs随时间的变化，vs由最大值降为零所需的时间，即为薄膜等离子体闪光持续时间。本发明装置包括气压计、声速测量计和操作控制台，以及沿光路依次设置的激光器、衰减器、聚焦系统、分束器和样片台，待测薄膜固定在样片台上，在待测薄膜的表面边缘布设压力传感器。本发明方法和装置可以有效地确定薄膜等离子体闪光持续时间，为提高薄膜元件激光防护性能提供有力的支持。
-
公开(公告)号：CN109186958B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201811095388.2
申请日：2018-09-19
Applicant: 西安工业大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种多光共轴激光损伤阈值测试装置及实现方法。所述测量装置采用4台高能脉冲激光器，分别经对应棱镜转折后进入共轴光学系统，4光束共用一套系统，以及计算机控制处理系统，利用可变间距的正‑负透镜组成扩束系统，对扩束系统的光学间隔进行调整，可实现不同波长激光束的准直扩束；采用步进电机精确控制聚焦透镜的位置，对不同激光波长的焦距进行补偿，从而保证激光传输到测试表面，其光斑的大小及离焦量恒定。该装置实现了测试系统的集成化、自动化、智能化，能够在线、实时、快速、准确判别薄膜损伤，同一测试装置，可以测量多种不同波长的激光损伤阈值。
-
公开(公告)号：CN113203705B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202110365971.6
申请日：2021-04-06
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明为一种可实现光路快速调节测试的双折射式纹影系统及方法，其克服了现有技术中存在无法实现纹影装置快速且精确测试的问题，不仅解决了纹影系统的装置调节问题，并且可以直接使用点光源进行纹影实验测试。本发明包括依次设置的十字线光源，“十”字形标定光线与前置可变光阑适配模块，凸透镜一，凹球面镜一，凹球面镜二，凸透镜二，刀口装置和高速摄像相机；凹球面镜一与凹球面镜二之间设置测试对象。“十”字形标定光线与前置可变光阑适配模块包括前置可变光阑，十字线光源发出的“十”字形光线通过前置可变光阑得到“十”字形标定光线；“十”字形标定光线穿过前置可变光阑得到用于纹影实验的点光源。
-
公开(公告)号：CN106908948B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201710210514.3
申请日：2017-03-31
Applicant: 西安工业大学
IPC: G02B26/04
Abstract: 本发明提供了一种可用于双波长的激光能量衰减装置及方法，解决了多波长激光损伤测试中同一衰减器对不同波长激光能量衰减不同的技术问题。本发明在衰减装置中采用一套或者多套衰减运动执行机构组合形成衰减装置，每个衰减盘上可选取安装多个衰减片，每个衰减片均沉积有用于修正不同波长透射率的光学薄膜。采用532nm和1064nm两个波长的激光束输入，经过本发明的可用于双波长的激光能量衰减装置进行能量衰减，无需更换衰减片及衰减片组合可获得严格一致的衰减率。本发明装置结构简单，使用一套可用于双波长的激光能量衰减装置实现了两套衰减器的功能；衰减精度高，可提高激光损伤阈值测试精度；适用于连续激光和脉冲激光，在工业生产中有广泛应用前景。
-
公开(公告)号：CN113412047B
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202110763037.X
申请日：2021-07-06
Applicant: 西安工业大学
IPC: H05K9/00 , C01B32/186
Abstract: 本发明涉及铜基石墨烯包覆结构及其制备方法，本发明方法通过退火过程对铜基结构的晶体结构和表面成分调控改善，为后续石墨烯包覆提供催化基底，本发明方法以铜基结构作为基底，采用表面生长机制严格控制分解速率和成核密度，将石墨烯立体的包覆于铜基结构表面，完成双面叠加铜基石墨烯包覆结构的制备。本发明包覆结构能够在保持相同光学透过率的条件下提高电磁屏蔽性能，本发明制备的包覆结构表面均匀，具备透明电磁屏蔽功能，并且氧化腐蚀稳定性良好。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
97
records
(took 0.017 seconds)
