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公开(公告)号：CN201227764Y
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200820086568.X
申请日：2008-05-04
IPC: B24B11/06
Abstract: 一种双盘自转偏心V形槽研磨机，包括机架、安装在机架上的上研磨盘和下研磨盘，所述上研磨盘安装在上研磨盘主轴上，所述上研磨盘主轴连接上研磨盘驱动电机，所述下研磨盘连接下研磨盘驱动电机，所述上研磨盘和下研磨盘上下布置，所述机架包括机体和上支架，所述上支架可转动地安装在机体上端，所述上支架上安装上研磨盘，所述机体上安装下研磨盘，所述下研磨盘上表面开有至少三条以上供放置球坯的V形槽，所述的各条V形槽为同心圆，所述同心圆的圆心与下研磨盘的圆心重合，所述上研磨盘与下研磨盘相互偏心。本实用新型提供一种结构简单、制造成本低，同时具有较高的加工精度和加工效率的双盘自转偏心V形槽研磨机。
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公开(公告)号：CN201115934Y
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200720191702.8
申请日：2007-11-09
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种报警式自动控制滴料器，包括底座、安装在底座上的料筒，所述的料筒通过至少三个弹簧机构连接底座，所述弹簧机构包括上弹簧套筒、下弹簧套筒和压缩弹簧，底部固定安装上弹簧套筒，所述的底座固定安装下弹簧套筒，所述的上弹簧套筒套装在下弹簧套筒上，所述的压缩弹簧安装在上弹簧套筒和下弹簧套筒内，在所述底座上安装报警开关，所述的上弹簧套筒的下端与所述报警开关的触发端配合，所述的报警开关连接报警器。本实用新型提供一种如料筒中容量较少时能够自动报警的报警式自动控制滴料器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN201115932Y
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200720191669.9
申请日：2007-11-20
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B53/12
Abstract: 一种抛光垫修整装置，包括支架板、修整环、直线导轨、往复运动驱动机构、径向移动驱动电机以及旋转驱动电机，所述的两根直线导轨水平安装在支架板的下方，所述的径向移动驱动电机固定在支架板的上方，所述的径向移动驱动电机安装在支架板上，所述的径向移动驱动电机与往复运动驱动机构传动连接，所述往复运动驱动机构可水平滑动地套装在直线导轨上，所述的修整环安装在往复运动驱动机构的下方，所述旋转驱动电机与往复运动驱动机构固定连接，所述旋转电机的输出轴通过传动机构上的拔杆传动联接修整环。本实用新型实现在线修整抛光垫的平面精度、使加工周期缩短、加工后的工件表面具有良好的均匀度。
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公开(公告)号：CN201115929Y
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200720191668.4
申请日：2007-11-20
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种修整可控型超精密抛光机，包括机座、抛光盘、抛光盘驱动电机、测速机构、智能控制平台、修整环、直线导轨、往复运动驱动机构、径向移动驱动电机以及旋转驱动电机，基座上安装支架板，支架板安装基盘保持架，两根直线导轨水平安装在支架板的下方，径向移动驱动电机安装在支架板上，径向移动驱动电机与往复运动驱动机构传动连接，往复运动驱动机构可水平滑动地套装在直线导轨上，修整环安装在往复运动驱动机构的下方，旋转驱动电机与往复运动驱动机构固定连接，旋转驱动电机的输出轴与修整环传动连接，修整环位于抛光盘的基盘覆盖以外区域的上方。本实用新型实现在线修整抛光垫的平面精度、使加工周期缩短、加工后的工件表面具有良好的均匀度。
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公开(公告)号：CN207703678U
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201721579816.X
申请日：2017-11-23
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种抛光液大颗粒在线监测装置，包括光学系统、数据采集与处理系统、系统标定与检验和辅助系统，光学系统包括观察窗口、激光光源、激光发射光路、激光衰减接收光路和激光散射接收光路，实现对抛光液中大颗粒光衰减、光散射信号的光电转换，数据采集与处理系统包括激光衰减、激光散射信号的采集与处理的模拟与数字电路；标定及检验系统利用标准颗粒悬浮液对抛光液大颗粒检测系统进行标定，建立激光衰减、激光散射电信号与标准颗粒已知尺寸之间的关系；辅助系统包括抽样系统、清洗系统和气泡消除系统。本实用新型检测范围大，实时在线检测，对提升高表面完整性的抛光加工的良品率有重要作用，降低生产成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN201455800U
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200920116743.X
申请日：2009-03-27
IPC: B24B37/02
Abstract: 一种高精度球双自转V形槽高效研磨装置，包括机架、安装在机架上的研磨盘装置和载荷加压装置，研磨盘装置包括上研磨盘，上研磨盘上端安装载荷加压装置，高精度球双自转V形槽高效研磨装置还包括下研磨盘内盘和下研磨盘外盘，所述的下研磨盘外盘和下研磨盘内盘以同轴形式布置，所述下研磨盘内盘嵌套在所述下研磨盘外盘内，所述下研磨盘内盘外侧的锥面研磨面和所述下研磨盘外盘内侧的锥形研磨面构成V形槽结构，所述下研磨盘内盘固定安装在机架上，上研磨盘安装在转轴上，所述转轴连接上研磨盘驱动电机，下研磨盘外盘安装在主轴上，主轴连接下研磨盘外盘驱动电机。本实用新型结构简单、加工成本低，同时具有较高的加工精度和加工效率。
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公开(公告)号：CN201058407Y
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200620141192.9
申请日：2006-12-19
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B11/06
Abstract: 一种高精度球双自转研磨盘高效研磨装置，包括设置在机架上的上研磨盘、下研磨外盘、下研磨盘内盘，下研磨盘内盘外侧的锥面研磨面和下研磨盘外盘的内侧的锥形研磨面构成V形槽结构，和上研磨盘一起构成研磨陶瓷球的三个加工接触点；上研磨盘、下研磨外盘、下研磨盘内盘中任选两个部件的驱动轴连接不同的电机，未连接驱动电机的部件连接加工载荷装置。本实用新型能够实现球坯自转轴与公转轴相对方位的调整，实现球坯表面的均匀研磨/抛光，加工精度与加工效率、加工一致性高，同时驱动、传动装置由三个减少至两个，结构简单，加工、装配的精度要求低的研磨装置。
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