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公开(公告)号：CN104834043A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510064078.4
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
CPC classification number: G02B5/3058 , G02B27/286 , G02F1/133788
Abstract: 本发明提供一种偏振器、偏振光照射装置及偏光轴方向调整方法，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。
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公开(公告)号：CN102656520B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201080056557.7
申请日：2010-11-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/7035 , G03F7/70358 , G03F7/70433 , G03F7/70533
Abstract: 本发明涉及一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的第一及第二曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，该曝光方法具有：将与各曝光图案对应的第一及第二掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于光掩模的第一掩模图案组的对被曝光体的第一曝光区域的曝光结束时，使光掩模移动规定距离而从第一掩模图案组切换成第二掩模图案组的阶段；通过第二掩模图案组执行对被曝光体的第二曝光区域的曝光的阶段，其中，控制光掩模的移动速度，以使第一及第二掩模图案组的切换时的被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103081060A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180042029.0
申请日：2011-07-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/027 , G02B3/00 , G03F9/00
CPC classification number: G03F1/42 , G02B3/0056 , G02B3/0068 , G03F1/38 , G03F9/7038 , G03F9/7096
Abstract: 本发明提供一种能够防止异物进入到微透镜阵列与基板之间并且能够防止由于基板的异常接近和上述异物导致对微透镜造成伤痕的曝光装置和光学构件。在透明基板（1）的上方配置有形成了多个微透镜（3a）的微透镜阵列（3），该微透镜阵列（3）在其端面（6）与掩模（4）接合。在掩模（4），在微透镜阵列（3）的两侧接合有对准标记台（12），在该对准标记台（12）的与基板（1）的相向面形成有对准标记（11）。对准标记台（12）与基板（1）之间的间隔小于微透镜阵列（3）与基板（1）的间隔。
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公开(公告)号：CN102656520A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080056557.7
申请日：2010-11-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/7035 , G03F7/70358 , G03F7/70433 , G03F7/70533
Abstract: 本发明涉及一种曝光方法，将被曝光体沿着一方向以恒定速度搬运，并同时在沿着该被曝光体的搬运方向以规定间隔配置的第一及第二曝光区域的每一个上形成不同的曝光图案，该曝光方法具有：将与各曝光图案对应的第一及第二掩模图案组沿着被曝光体的搬运方向以规定间隔排列而形成光掩模，在基于光掩模的第一掩模图案组的对被曝光体的第一曝光区域的曝光结束时，使光掩模移动规定距离而从第一掩模图案组切换成第二掩模图案组的阶段；通过第二掩模图案组执行对被曝光体的第二曝光区域的曝光的阶段，其中，控制光掩模的移动速度，以使第一及第二掩模图案组的切换时的被曝光体的移动距离比光掩模的移动距离长。
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公开(公告)号：CN207164464U
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201590001086.8
申请日：2015-12-16
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/13 , G02F1/1337 , H01L21/027
CPC classification number: G02F1/13 , G02F1/1337 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本实用新型提供一种曝光装置(1)，该曝光装置(1)的光照射部(10)设置于载置曝光对象物(W)的工作台(21)的上方，且设置为能够装卸棒状的光源(11)，关于该光照射部(10)，在曝光时将光照射部(10)配置为光源(11)的长边方向与曝光对象物(W)的扫描方向正交，且在更换光源(11)时使光照射部(10)从曝光时的位置旋转大致45度以上。由此，能够有效利用曝光装置(1)外的空间。
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公开(公告)号：CN204650013U
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201520088043.X
申请日：2015-02-06
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02B5/30 , G02B27/28 , G02F1/1337
Abstract: 本实用新型提供一种偏振器及偏振光照射装置，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。
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公开(公告)号：CN203720500U
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201420086932.8
申请日：2014-02-27
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30
Abstract: 本实用新型提供一种光取向用偏振照射装置，其即使长期使用也可抑制线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化，且耐久性高。本实用新型的光取向用偏振照射装置(1)，其沿着形成取向膜的基板(W)的宽度方向延伸设置光照射部(2)，一边沿着与基板(W)的宽度方向交叉的扫描方向(S)扫描基板(W)或光照射部(2)，一边向基板(W)上照射特定波长的偏振光，所述光照射部(2)具备光源(20)、特定波长选择滤波器(21)以及线栅偏振器(22)，其中，光照射部(2)具备包覆线栅偏振器(22)的导电体栅格(22B)的防氧化膜(22C)，且具备对线栅偏振器(22)进行冷却的空冷装置(23)。
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