一种超导磁体的绕制方法
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116646170A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310772657.9

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本发明公开了一种超导磁体的绕制方法,涉及超导磁体技术领域,包括以下步骤:(1)准备无金属保护层的REBCO带材;(2)准备一根金属管,并加热金属管;(3)使得REBCO带材的银层与金属管连接在一起;(4)夹紧REBCO带材的基带和缓冲层,转动金属管,在金属管上绕制形成第一线圈;(5)当第一线圈缠绕到设定的匝数后,停止转动金属管;并截断REBCO带材;(6)重复步骤(3)‑(5)在金属管上缠绕得到第二线圈;(7)在第一线圈和第二线圈的周向外侧面镀银;(8)对第一线圈和第二线圈进行氧化退火热处理。本发明大幅降低了超导磁体绕制形成的超导磁体的体积和外径,绕制得到的超导磁体的结构更加紧凑,且能够产生更高的磁场强度。

    多层YBCO超导带材制备装置及制备方法

    公开(公告)号:CN114156014A

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN202111629228.3

    申请日:2021-12-28

    Abstract: 本发明公开一种多层YBCO超导带材制备装置及制备方法,涉及超导带材制备领域,本发明提供的多层YBCO超导带材制备装置及制备方法均将两个超导带材缠绕于柱体上,并通过将两个超导带材旋紧于柱体上,实现两个超导带体之间预紧力的施加。如此设置,该多层YBCO超导带材制备装置及制备方法能够制备的带材长度更长,且超导带体长度无需与装置长度一致,灵活性大大提高。

    一种第二代高温超导线的连接方法及一种连接超导线

    公开(公告)号:CN113593767A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202010365158.4

    申请日:2020-04-30

    Abstract: 本发明提供了一种第二代高温超导线的连接方法及一种连接超导线,属于超导电工技术领域。本发明通过高温热处理连接第二代高温超导线的银层,以此完整地将超导层从缓冲层上剥离。剥离后裸露的超导层一面可用于超导层的直接连接形成超导接头,而与其另一面相连的银层即可作为快速的氧扩散通道。其次,对于剥离后获得的超导线连接体,可利用金属基带、缓冲层或较厚的银带为银层和超导层提供支撑或隔离,保证了接头的机械性能。最后,对于采用银带剥离超导层可使得制备的接头表面为银,氧可直接透过银层表面进入超导层,极大地缩短接头的氧化退火时间,提高超导接头的制备效率。

    一种动态沉积第二代高温超导带材的装置和方法

    公开(公告)号:CN113130134A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN202110381404.X

    申请日:2021-04-09

    Abstract: 本发明提供了一种动态沉积第二代高温超导带材的装置和方法,涉及镀膜工艺装备技术领域。本发明提供的装置包括动态卷绕系统和真空热处理炉;所述动态卷绕系统包括放卷装置、缠绕骨架和前驱液槽;所述放卷装置和缠绕骨架均连接有伺服电机;所述真空热处理炉包括真空炉腔和转动装置;所述真空炉腔的外壁设置有控温热电偶、进气口、抽气口、冷却水进口和冷却水出口,所述真空炉腔的内壁设置有加热线圈;所述转动装置的中心轴贯穿真空炉腔的中心。利用本发明提供的装置动态沉积第二代高温超导带材,通过化学溶液法连续浸涂和高温热处理能够制备出百米级的第二代高温超导带材,且得到的第二代高温超导带材表面平整、致密,电学性能良好。

    一种单层石墨烯的制备方法

    公开(公告)号:CN109095461A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201811346246.9

    申请日:2018-11-13

    Abstract: 本发明提供了一种单层石墨烯的制备方法,该单层石墨烯是由SiC衬底在充满惰性气体的气压动态平衡环境下加热热解制得,具体包括如下步骤:取SiC衬底预处理后放入坩埚;将坩埚置于真空室,抽真空后充入惰性气体,将坩埚感应加热促使SiC衬底升温至热解温度并保温;调整气压,控制真空室中的惰性气体保持气压动态平衡,使SiC衬底进行热解;热解完成后降至室温,恢复常压,取出单层石墨烯。本发明提供的制备方法简单可控,提高了生产效率,有望进行批量化生产,该方法能够制备2~4英寸的大尺寸单层石墨烯,所得单层石墨烯的层数可控,面积较大,且晶格缺陷极少,可以满足高质量单层石墨烯的市场需求。

    一种制备六角螺旋形貌碲化铋热电薄膜的方法

    公开(公告)号:CN106498354B

    公开(公告)日:2018-09-25

    申请号:CN201610829115.0

    申请日:2016-09-18

    Abstract: 一种制备六角螺旋形貌碲化铋热电薄膜的方法,采用磁控溅射法制备碲化铋热电薄膜。首先清洗磁控溅射设备腔体,再安装碲化铋(Bi2Te3)合金靶以及碲(Te)单质靶,然后把清洗过的石英玻璃衬底固定在基底上;调整碲化铋合金靶与石英玻璃衬底之间的距离为100mm~120mm,调整碲单质靶与石英玻璃衬底之间的距离为130mm~140mm,抽真空至5×10‑4Pa~7.5×10‑4Pa;再对石英玻璃衬底加热至300℃~400℃,通入氩气(Ar),在工作气压为0.3Pa~0.5Pa的条件分别打开直流源和射频源,设置直流源功率为18W,射频源功率为18W~20W,然后通过共溅射开始镀膜;最后将溅射的薄膜在250℃~350℃下退火处理,形成具有六角螺旋形貌的碲化铋热电薄膜。

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