T型分支波导
    41.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102789024B

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201110129324.1

    申请日:2011-05-18

    Abstract: 一种T型分支波导,利用SOI基二维平板柱状光子晶体的自准直效应实现输入光信号的180°分束传播,属于半导体光学技术领域,包括SOI衬底、在SOI衬底顶层硅刻蚀形成的硅柱区域以及将硅柱区域与外部光纤或其他器件连接的SOI条形波导。其中:硅柱区域中,刻蚀形成的硅柱呈长方晶格排列在SOI顶层硅上,硅柱的深度为SOI顶层硅的厚度,SOI条形波导为T型分支波导的输入波导,且距离硅柱区域与所述SOI条形波导平行的两边界均有一距离。该T型分支波导对于入射光束角度极不敏感,分束区的长度可以控制在10μm以内,极大缩短总体器件长度,结构更为紧凑;同时,其具有较大的制备容差和更灵活的设计。

    锗悬浮膜式二维光子晶体微腔及制备方法

    公开(公告)号:CN102590936B

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:CN201110004002.4

    申请日:2011-01-10

    Abstract: 本发明提供一种锗悬浮膜式二维光子晶体微腔,包括:具有埋氧层、且表层为锗悬浮膜层的半导体基底,其中,所述锗悬浮膜层包含光子晶体微腔,所述光子晶体微腔由周期性排列的孔体构成、但部分区域缺失孔体。此外,本发明还提供了该锗悬浮膜式二维光子晶体微腔的制备方法,即先在半导体基底的锗薄膜层中掺杂以形成n型重掺杂层,随后,对重掺杂层进行微机械加工以便在部分区域形成光子晶体微腔,最后,对整片器件进行湿法腐蚀,其中,可通过控制腐蚀时间以控制侧向腐蚀的程度,从而去除光子晶体微腔下的埋氧层实现悬浮膜。本发明的优点在于:能够通过调节悬浮的锗薄膜的应变从而实现锗向直接带隙的转变,并通过光子晶体微腔的增强作用实现发光效率的提高。

    基于异质集成和垂直光耦合的硅基InGaAsPIN光电探测器

    公开(公告)号:CN102779892A

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201110120147.0

    申请日:2011-05-10

    Abstract: 本发明公开了一种基于异质集成和垂直光耦合的硅基InGaAsPIN光电探测器,包括:SOI衬底;制作于SOI衬底顶层硅中的垂直耦合光栅;覆盖于垂直耦合光栅上的BCB键合层;位于BCB键合层之上的抗反射层;位于抗反射层之上的第一导电型磷化铟层;位于第一导电型磷化铟层之上的本征铟镓砷层;以及位于本征铟镓砷层之上的第二导电型磷化铟层;其中,垂直耦合光栅通过刻蚀SOI衬底的顶层硅制成,刻蚀深度为70-110nm;光栅周期为600-680nm;抗反射层的折射率介于BCB键合层与第一导电型磷化铟层之间。本发明的硅基InGaAsPIN光电探测器采用粘合性键合工艺将InP/InGaAs/InP叠堆材料层粘合于刻蚀在SOI衬底上的光栅上,使光与InP/InGaAs/InP层实现垂直耦合,为硅基InGaAs光电探测器的具体应用提供合适的设计及优化方案。

    一种90°光混频器及制作方法

    公开(公告)号:CN115166991B

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202110359487.2

    申请日:2021-04-02

    Abstract: 本发明提供一种90°光混频器及制作方法,该90°光混频器包括Si3N4MMI耦合器,该Si3N4MMI耦合器使用氮化硅作为波导的芯层材料,二氧化硅作为波导的包层材料,基于氮化硅材料制成的Si3N4MMI耦合器制作工艺简单,与集成器件、CMOS工艺兼容。该Si3N4MMI耦合器的四个输出波导输出的光功率保持一致,且四个输出波导输出光束的相位误差在‑5°~5°范围内,四个输出波导的总透射率大于0.9时,对应的带宽为68nm,覆盖了波长范围在1530nm‑1565nm之间的C波段,具有较高的实用价值。

    基于氮化硅光子晶体的光分路器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113359233B

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202110459989.2

    申请日:2021-04-27

    Abstract: 本发明提供一种基于氮化硅光子晶体的光分路器及其制备方法,该光分路器包括:自下而上依次设置的硅层、氧化硅层及氮化硅波导层;氮化硅波导层的中间部分形成有二维氮化硅光子晶体波导,两端分别形成有光栅发射器;二维氮化硅光子晶体波导包括一列沿氮化硅波导层长度方向呈周期性排布的圆形凹槽及中间部分氮化硅波导层;光栅发射器为半圆环形的同心环绕光栅且具有两个半圆环形镂空孔。采用氮化硅材料可应用的带宽大,且两个半圆环形镂空孔设计的氮化硅光栅光学损耗小,光出射效率高;另外,光分束器可实现对片外光波的收集同时对光波传输、分光形成片外出射光;最后,制备方法与CMOS工艺良好兼容,工艺简单,易于规模化生产。

    一种基于非厄米耦合原理的光电子条码系统

    公开(公告)号:CN112200289B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202011284812.5

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本发明涉及一种基于非厄米耦合原理的光电子条码系统,所述条码识别装置包括衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有若干根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,且相邻的硅导线之间距离相等,每根硅导线两端均引出导线与电位测量计相连,所述电位测量计与处理器相连;所述衬底中部设置有用于供激光器发出激光通过的通孔,所述激光器相对于所述衬底固定;所述激光器发出的激光照射在条码上后反射到硅导线上时,硅导线与衬底之间发生近场耦效应,并使得硅导线与衬底形成的谐振器产生振幅完全抑制,所述处理器根据硅导线中电位值为最小值的两根硅导线的位置信息计算出激光反射点的所在的位置。本发明能够为微纳米器件提供条码标识。

    一种基于逆向设计的掺杂型热光移相器

    公开(公告)号:CN118759738A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202410913212.2

    申请日:2024-07-09

    Abstract: 本发明涉及一种基于逆向设计的掺杂型热光移相器,包括:衬底;绝缘埋层,位于所述衬底的上表面;覆盖层,位于所述绝缘埋层的上表面;顶层硅波导,形成在所述覆盖层内部,并位于所述绝缘埋层的上表面;加热器,形成在所述覆盖层内部,并位于所述顶层硅波导的两侧,并与所述顶层硅波导的两侧贴合;所述加热器两端引出用于与电极相连的导线。本发明能够保证相移效率。

    一种带有非厄米耦合角度检测纠正装置的微位移机构

    公开(公告)号:CN112240748B

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202011284773.9

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本发明涉及一种带有非厄米耦合角度检测纠正装置的微位移机构,其中刚性底板的上表面固定有衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有两组完全相同的硅导线组,所述硅导线组包括若干根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,且相邻的硅导线之间距离相等;所述硅导线垂直于所述刚性底板的前后面;所述刚性上板的下表面设置有散射光源;所述散射光源发出的激光照射硅导线组上时,所述硅导线与衬底之间发生近场耦效应,并使得硅导线组中的一根硅导线完全抑制。本发明能够同步检测与纠正平行四边形柔性铰链构机构刚性上板在F力作用下沿x轴方向产生的位移误差以及刚性上板绕y轴的寄生转角误差。

    一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118244519A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410408713.5

    申请日:2024-04-07

    Abstract: 本发明涉及一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法,所述电光调制器在光传播方向上设有单个周期波导,所述波导中央设置有脊波导,所述脊波导在光传播方向上设有第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2);所述第一轻掺杂区(1)的左斜PN结与第二轻掺杂区(2)的右斜PN结在第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2)的交界面形成一个三维PN结。本发明通过构造等比例X交叉型的三维掺杂结构,实现了高效调制的硅基耗尽型调制器;这种调制器旨在提高调制效率和带宽,同时降低功耗,从而为大规模数据传输提供低功耗的解决方案,具有良好的市场应用前景。

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