光记录媒体及其制造方法
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1187741C

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN01121751.0

    申请日:2001-07-06

    CPC classification number: G11B7/24085 G11B7/00745 G11B7/261

    Abstract: 本发明公开了一种光记录媒体,此记录媒体于支承基体(2)上交替地存在凸条部(3)与凹条部(4)和将相邻凸条部互连的横断凸部。此横断凸部在两相邻凸条部间中央附近呈最窄的平面形状。支承基体由具有形成凸和凹条部与预制坑各自母型图案的抗蚀剂层的光盘原盘制造。用一束曝光光束间歇地照射抗蚀剂层。以照射区作为凹或凸条部的母型图案,以照射中止区作为预制坑的母型图案。对于在支承基体中设有纹道和/或将纹间表面用作记录磁道且设有预制坑的光记录媒体,使其支承基体易于制造且易使记录高密度化。

    光记录方法、光记录装置及光记录介质

    公开(公告)号:CN1496561A

    公开(公告)日:2004-05-12

    申请号:CN02806470.4

    申请日:2002-02-14

    CPC classification number: G11B7/126 G11B7/006 G11B7/0062

    Abstract: 本发明的目的是减小在向能够进行高密度记录的光记录介质以多个线速度进行记录时的重放信号的失真。本发明的光记录方法是在多个线速度或连续变化的线速度下进行记录的方法,调制记录光的记录波形具有直流部分和记录脉冲部分,设直流部分的强度为Pbi,设上升沿脉冲的强度为Pw,设在以线速度VL进行记录时的Pw及Pbi分别为PwL及PbiL,设以比VL快并且满足1.1≤VH/VL的线速度VH进行记录时的Pw及Pbi分别为PwH及PbiH时,在满足PbiH/PbiL<1,(PbiH/PwH)/(PbiL/PwL)<1的条件下,进行记录。由此,能够在广线速度范围内的记录中减小重放信号的失真。

    光记录方法和光记录媒体
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1348172A

    公开(公告)日:2002-05-08

    申请号:CN01108883.4

    申请日:2001-10-10

    CPC classification number: G11B7/24085 G11B7/00454 G11B7/006

    Abstract: 一种在盘状光记录媒体的记录层上形成非晶态记录标记的方法,其中:当最短信号长度为SL,与上述最短信号对应的最短记录标记中,最大宽度为Mw,Ew=0.1Mw,前端侧的宽度为Ew的位置为有效前端,后端侧的宽度为Ew的位置为有效后端,有效前端与有效后端的距离为有效长度ML,有效前端到后端侧的宽度开始减少的位置的距离为WL时,以从上述光记录媒体的内周侧到外周侧,WL/ML呈分段地或连续地减小的方式形成最短记录标记。

    光记录媒体及其制造方法
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1337691A

    公开(公告)日:2002-02-27

    申请号:CN01121751.0

    申请日:2001-07-06

    CPC classification number: G11B7/24085 G11B7/00745 G11B7/261

    Abstract: 对于在支承基体中设有纹道和/或纹间表面用作记录磁道且设有预制坑的光记录媒体,使其支承基体易于制造且易使记录高密度化。于支承基体2上交替存在凸条部3与凹条部4和将相邻凸条部互连的横断凸部。此横断凸部在中央附近呈最窄的平面形状。支承基体由具有形成凸和凹条部与预制坑各自母型图案的抗蚀剂层的光盘原盘制造。用一束曝光光束间歇地照射抗蚀剂层。以照射区作为凹或凸条部的母型图案,以照射中止区作为预制坑的母型图案。

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