公开(公告)号：CN105164848A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201480024428.8

申请日：2014-10-30

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 瓶子克 ,  加纳正史 ,  野上光秀 ,  小川浩

IPC: H01M10/0585 ,  H01M2/02 ,  H01M2/06 ,  H01M2/08 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0565

CPC classification number: H01M10/0585 ,  H01M2/021 ,  H01M2/0287 ,  H01M2/06 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0565

Abstract: 本发明提供一种锂离子二次电池，其特征在于，具备将具有端子接头的电极板和半固体或固体状的电解质层交替叠层而成的叠层体、和内部收容有该叠层体且使端子接头的一部分突出而密封的片状的外装材料，在所述外装材料上，与所述叠层体的端缘的至少一部分邻接地设有密封所述叠层体的叠层体邻接密封部。

公开(公告)号：CN102791777B

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN201180012728.0

申请日：2011-02-28

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 中野良宪 ,  野上光秀 ,  川崎真一 ,  佐藤崇 ,  松崎纯一

IPC: C08J7/00 ,  G02B1/12 ,  G02B5/30 ,  H05H1/24

CPC classification number: B29D11/00634 ,  G02B5/3033 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/485

Abstract: 本发明提供一种膜表面处理装置，在将聚合性单体作为反应成分而对偏振板用保护膜等被处理膜进行等离子体处理时，能够防止电极等的污垢且提高粘接性等处理效果。在第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。使电极(11、12)旋转，从电极(11)向电极(12)输送被处理膜(9)。使反应气体喷嘴(31)沿着第一辊电极(11)的周向从电极(11、12)间的放电空间(14)向电极旋转方向的上游侧离开，且以与第一辊电极(11)对置的方式配置。优选在第一辊电极(11)上覆盖遮蔽构件(40)。从喷嘴(31)吹出含有聚合性单体的反应气体。在第一、第二辊电极(11、12)彼此之间的被处理膜(9)的折返部分(9a)的内侧配置有放电生成气体喷嘴(21)。从放电生成气体喷嘴(21)向放电空间(14)吹出不含有聚合性单体的放电生成气体。

公开(公告)号：CN102812073A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201180015223.X

申请日：2011-03-23

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 佐藤崇 ,  野上光秀 ,  中野良宪 ,  川崎真一

IPC: C08J7/00

CPC classification number: B29C59/14

Abstract: 本发明提供膜表面处理装置，在使含有反应成分的反应气体活化而对被处理膜进行表面处理时能够使反应成分充分反应，并防止在电极上附着污垢。在主处理部(10)的第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。通过辊电极(11、12)的旋转使被处理膜(9)从电极(11)向电极(12)输送。从喷嘴(23)向比电极(11、12)间的主放电空间(19)靠输送方向的上游侧的位置或放电空间(19)内的膜(19)上喷出反应气体。在比主处理部(10)靠输送方向的下游的位置设置再活化部(30)。优选，使再活化部(30)的后段电极(31)与第二辊电极(12)对置，将第二辊电极(12)兼用作再活化部(30)的另一方的后段电极。从气体供给部(33)向电极(31、12)之间供给不含有反应成分的放电生成气体。

公开(公告)号：CN102459353A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080028415.X

申请日：2010-06-25

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 中野良宪 ,  屋良卓也 ,  野上光秀 ,  川崎真一 ,  松崎纯一 ,  长谷川平

IPC: C08F2/00 ,  C08J7/18 ,  G02B1/12 ,  G02B5/30

CPC classification number: C08J7/18 ,  G02B5/3033

Abstract: 本发明提供一种膜表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。可靠地提高难胶粘性树脂膜的胶粘性。将应与易胶粘性树脂膜(12)胶粘的难胶粘性树脂膜(11)配置于大气压附近的处理空间(22)。将含有丙烯酸等第1聚合性单体蒸气的气体通过第1供给路(36)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。将含有HEMA等第2聚合性单体蒸气的气体不与上述第1聚合性单体混合地通过第2供给路(46)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。通过大气压附近的等离子使上述第1及第2聚合性单体活化，与难胶粘性树脂膜11反应。

公开(公告)号：CN101145508A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710169240.4

申请日：2004-03-04

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 野上光秀 ,  宫本荣司

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/205 ,  H01L21/285 ,  H01L21/31 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/67 ,  C23C16/513 ,  C23C16/509 ,  C23F4/00 ,  H01J37/32 ,  H05H1/00

CPC classification number: H01L21/3065 ,  C23C16/5093 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32724

Abstract: 一种等离子加工装置和方法，其中吹送部件(152)设置有吹风口(Ia’)，该吹风口的尺寸小到不允许吹送的气流被直接地吹送到晶片W的部分上，该晶片W的部分比晶片W的外边缘更位于晶片的中心侧并且不进行等离子加工。吸入件(151)设置有与吹送部件(152)相联的吸入口(81A)。吸入口(81A)靠近吹风口(Ia’)设置并形成相对于吹送气流大致在相反方向上取向的抽吸气流。

公开(公告)号：CN101124663A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200580023196.5

申请日：2005-07-08

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 野上光秀 ,  长谷川平 ,  功刀俊介

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  C23F4/00

Abstract: 一种用于处理基板的外周的方法和装置，在用于从基板的外周部去除不需要的膜时能够避免对基板中心部分的损坏。作为吸热装置的冷却介质室(4)形成在台(10)内，且诸如水的冷却介质填充到其中。晶片(90)被支撑在台(10)的支撑表面(10a)上。晶片(90)的外周部通过加热器(20)被加热，且用于去除不需要的膜的反应性气体从反应性气体出口(30b)供到晶片的被加热部分。另一方面，晶片(90)的在所述外周部的内侧的部分内的热量通过吸热装置吸收。