一种在公自转磁流变抛光中实现回转供液与回收的装置

    公开(公告)号:CN102501146A

    公开(公告)日:2012-06-20

    申请号:CN201110456996.3

    申请日:2011-12-30

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种在公自转磁流变抛光中实现回转供液与回收的装置,包括外壳、公转底座、轴承座、自转轴、抛光轮、循环系统和其他必要的辅助装置,其特征在于:循环系统中包括第一注液通道、第二注液通道、第一抽液通道、第二抽液通道、注液环形凹槽、抽液环形凹槽和密封圈。储液罐中的磁流变抛光液通过外壳上的第一注液通道进入注液环形凹槽和第二注液通道,被注液嘴加注到抛光轮上。被收集器回收的磁流变抛光液通过第一抽液通道和抽液环形凹槽进入外壳上的第二抽液通道并最终返回储液罐。该装置能够解决现有公自转磁流变抛光技术中磁流变抛光液在循环过程中易沉积和运行不流畅的现象,以及无法通过泵的运转实现自动清洗管路的问题。

    一种汽车转向系统
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101791992B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200910244249.6

    申请日:2009-12-30

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 一种汽车转向系统,包括转向操纵机构、转向器以及左右两个转向传动机构。转向器包括一对锥齿轮和一对非圆齿轮,通过非圆齿轮的啮合,实现左右前轮转角的合理分配,使得在理想情况下汽车的转向满足阿克曼条件。转向传动机构包括一对小锥齿轮和RF+DOJ万向节总成,通过RF+DOJ万向节总成在车轮上下跳动时的自由伸缩,避免了转向传动机构与悬架导向机构的干涉。本发明在理想情况下能实现汽车的转向满足阿克曼条件,避免汽车转向时路面对汽车行驶的附加阻力和轮胎过快磨损;并能避免转向传动机构与悬架导向装置之间的运动干涉,使得车轮上下跳动时不会引起额外的转向轮转角补偿或方向盘转角补偿。

    用于光学元件的磁场辅助柔性旋转刷抛光方法及装置

    公开(公告)号:CN101559571A

    公开(公告)日:2009-10-21

    申请号:CN200910079788.9

    申请日:2009-03-11

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于精密光学抛光加工技术领域,特别涉及一种用于光学元件的磁场辅助柔性旋转刷抛光方法及装置。本发明由一个可高速旋转的铁磁性主轴带动可以循环更新的磁流变液在磁场的作用下,以一定压力吸附在加工表面上,形成一个柔性旋转抛光磨头,在自身转动和工件转动的复合运动形式下,完成对整个内凹面的抛光加工。本发明装置适用于共形光学元件内凹面抛光;本发明方法具有柔性精加工特点,抛光去除特性稳定,可以采用计算机控制抛光去除分布,具备抛光面形控制能力,兼有高精度高表面质量的优点,适用于薄壁高陡度非球面和自由曲面元件抛光。

    可控温抛光工具
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100427271C

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200410030782.X

    申请日:2004-04-09

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了属于精密曲面加工工具领域的一种可控温抛光工具。该抛光工具的圆盘形的传热基板和抛光头基底之间的绝缘层中间平铺微型温控继电器及加热器。抛光胶粘附在传热基板的外表面上。该抛光胶的表面形状与被抛光面相同。本发明解决了现有计算机控制小抛光头抛光中的抛光胶层温度不可控、面形吻合度差、抛光去除量不稳定的缺点问题,能够提供更高效率的抛光加工需要,并能够实现对抛光胶层面形吻合度的有效控制。本发明适用于抛光各种尺寸和形状的光学镜面。

    电磁方式磁流变抛光头
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1216723C

    公开(公告)日:2005-08-31

    申请号:CN03153996.3

    申请日:2003-08-22

    Applicant: 清华大学

    Inventor: 冯之敬 王飞 张云

    Abstract: 电磁方式磁流变抛光头,属于精密曲面加工工具领域。为了解决现有磁流变抛光中的加工参数不灵活,抛光去除量不容易控制的缺点,本发明公开了一种电磁方式磁流变抛光头,包括电磁轮架、隔磁环、电磁线圈、导磁盘和轮芯,其特征在于:所述抛光头为圆盘形,所述隔磁环两侧有台阶,通过过盈配合安装在电磁轮架和导磁盘的外缘;所述电磁轮架和导磁盘与轮芯通过过盈配合安装在一起;所述的电磁线圈为盘状线圈,位于电磁轮架和导磁盘形成的空腔之中;所述轮芯和外接自转轴之间通过键联接。本发明解决了现有技术中的问题,能够提供更灵活的抛光加工需要,并能够实现对抛光加工的有效控制。

    可控温抛光工具
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1562571A

    公开(公告)日:2005-01-12

    申请号:CN200410030782.X

    申请日:2004-04-09

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了属于精密曲面加工工具领域的一种可控温抛光工具。该抛光工具为圆盘形,在传热基板和抛光头基底之间的绝缘层中间平铺微型温控继电器及加热器。抛光胶粘附在传热基板的外表面上。该抛光胶的表面形状与被抛光面相同。本发明解决了现有计算机控制小抛光头抛光中的抛光胶层温度不可控、面形吻合度差、抛光去除量不稳定的缺点问题,能够提供更高效率的抛光加工需要,并能够实现对抛光胶层面形吻合度的有效控制。本发明适用于抛光各种尺寸和形状的光学镜面。

    斜交轴组合球形研磨抛光工具

    公开(公告)号:CN1071620C

    公开(公告)日:2001-09-26

    申请号:CN98101740.1

    申请日:1998-04-29

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属精密曲面加工技术领域。本发明采用斜交轴行星运动机构。工具头的表面为球面的一部分,其球心位于主轴和斜交轴的交点。工具头在绕斜交轴自转的同时,绕主轴公转,二轴之间的斜交角为5°≤Φ≤90°。优化选择工具头的自转和公转速度及其速比,以及斜交角大小,就可以改变抛光线速度和抛光纹路,同时得到较高的抛光速率和较低的表面粗糙度,从而使得自由曲面研磨抛光更为简便和有效。

    一种用于自由曲面光学透镜三维型面测量的方法

    公开(公告)号:CN1280294A

    公开(公告)日:2001-01-17

    申请号:CN00123470.6

    申请日:2000-08-18

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及一种用于自由曲面光学透镜三维型面测量的方法,首先组成光学成像系统,使平行光源产生平行光束,该平行光束将刻绘于图像输入板上的点阵图像投射到待测自由曲面光学透镜上,形成入射光线矢量阵;测量图像输入板上各点与图像输出板上对应点以及待测自由曲面光学透镜上折射点在坐标系中的空间位置,即可计算出待测曲面的空间点阵。本发明测量精度和测量效率高,适用范围广,系统成本低。

    中凹或中凸廓形超硬磨粒砂轮的修整方法

    公开(公告)号:CN1055885C

    公开(公告)日:2000-08-30

    申请号:CN94115572.2

    申请日:1994-09-16

    Applicant: 清华大学

    Inventor: 冯之敬 金之垣

    Abstract: 本发明用于磨削中凸或中凹零件时将砂轮修整成相应的中凹或中凸廓形,属精密机械加工技术领域。该方法是:被修整砂轮自旋转,修整器砂轮一边自旋转,一边沿垂直于被修整砂轮轴线的方向往复送进作修整运动,并逐次向被修整砂轮进给,修整器砂轮轴线相对于其送进方向的垂直方向偏斜α角,α角与被修整砂轮得到的廓形具有一定量关系。本发明用简单的旋转和直线运动构成曲线廓形的修整运动,实现了砂轮曲线廓形的修整。

    斜交轴组合球形研磨抛光工具

    公开(公告)号:CN1194196A

    公开(公告)日:1998-09-30

    申请号:CN98101740.1

    申请日:1998-04-29

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属精密曲面加工技术领域。本发明采用斜交轴行星运动机构。工具头的表面为球面的一部分,其球心位于主轴和斜交轴的交点。工具头在绕斜交轴自转的同时,绕主轴公转,二轴之间的斜交角为5°≤Φ≤90°。优化选择工具头的自转和公转速度及其速比,以及斜交角大小,就可以改变抛光线速度和抛光纹路,同时得到较高的抛光速率和较低的表面粗糙度,从而使得自由曲面研磨抛光更为简便和有效。

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