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公开(公告)号：CN101352826A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810223239.X
申请日：2008-09-28
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明属于精密光学抛光加工技术领域，特别涉及一种光学元件内凹面抛光方法及装置。待加工工件内凹面下方固定一个和待加工内凹面形状吻合的带有槽路的芯模，工件绕自身回转轴旋转并保持与芯模一个微小间隙，并通过外磁极工具头及内磁极激励线圈对加工区域施加磁场，带有抛光磨料的磁流变液沿槽路流经加工区域时在磁场作用下形成柔性抛光头吸附于内凹面并产生抛光作用。本发明可以实现小曲率半径或具有深腔结构的共形光学元件及其它回转对称高陡度非球面的内凹面抛光，并可以采用计算机控制抛光去除分布，具备抛光面形控制能力，兼有高精度高表面质量的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101352826B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200810223239.X
申请日：2008-09-28
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明属于精密光学抛光加工技术领域，特别涉及一种光学元件内凹面抛光方法及装置。待加工工件内凹面下方固定一个和待加工内凹面形状吻合的带有槽路的芯模，工件绕自身回转轴旋转并保持与芯模一个微小间隙，并通过外磁极工具头及内磁极激励线圈对加工区域施加磁场，带有抛光磨料的磁流变液沿槽路流经加工区域时在磁场作用下形成柔性抛光头吸附于内凹面并产生抛光作用。本发明可以实现小曲率半径或具有深腔结构的共形光学元件及其它回转对称高陡度非球面的内凹面抛光，并可以采用计算机控制抛光去除分布，具备抛光面形控制能力，兼有高精度高表面质量的优点。
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公开(公告)号：CN102229067B
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201110124410.3
申请日：2011-05-13
Applicant: 清华大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本发明所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
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公开(公告)号：CN101559571A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200910079788.9
申请日：2009-03-11
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明属于精密光学抛光加工技术领域，特别涉及一种用于光学元件的磁场辅助柔性旋转刷抛光方法及装置。本发明由一个可高速旋转的铁磁性主轴带动可以循环更新的磁流变液在磁场的作用下，以一定压力吸附在加工表面上，形成一个柔性旋转抛光磨头，在自身转动和工件转动的复合运动形式下，完成对整个内凹面的抛光加工。本发明装置适用于共形光学元件内凹面抛光；本发明方法具有柔性精加工特点，抛光去除特性稳定，可以采用计算机控制抛光去除分布，具备抛光面形控制能力，兼有高精度高表面质量的优点，适用于薄壁高陡度非球面和自由曲面元件抛光。
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公开(公告)号：CN102229067A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN201110124410.3
申请日：2011-05-13
Applicant: 清华大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本发明所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
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公开(公告)号：CN202088036U
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201120153455.9
申请日：2011-05-13
Applicant: 清华大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本实用新型所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
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