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公开(公告)号:CN100427271C
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200410030782.X
申请日:2004-04-09
Applicant: 清华大学
IPC: B24D17/00
Abstract: 本发明公开了属于精密曲面加工工具领域的一种可控温抛光工具。该抛光工具的圆盘形的传热基板和抛光头基底之间的绝缘层中间平铺微型温控继电器及加热器。抛光胶粘附在传热基板的外表面上。该抛光胶的表面形状与被抛光面相同。本发明解决了现有计算机控制小抛光头抛光中的抛光胶层温度不可控、面形吻合度差、抛光去除量不稳定的缺点问题,能够提供更高效率的抛光加工需要,并能够实现对抛光胶层面形吻合度的有效控制。本发明适用于抛光各种尺寸和形状的光学镜面。
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公开(公告)号:CN1562571A
公开(公告)日:2005-01-12
申请号:CN200410030782.X
申请日:2004-04-09
Applicant: 清华大学
IPC: B24D17/00
Abstract: 本发明公开了属于精密曲面加工工具领域的一种可控温抛光工具。该抛光工具为圆盘形,在传热基板和抛光头基底之间的绝缘层中间平铺微型温控继电器及加热器。抛光胶粘附在传热基板的外表面上。该抛光胶的表面形状与被抛光面相同。本发明解决了现有计算机控制小抛光头抛光中的抛光胶层温度不可控、面形吻合度差、抛光去除量不稳定的缺点问题,能够提供更高效率的抛光加工需要,并能够实现对抛光胶层面形吻合度的有效控制。本发明适用于抛光各种尺寸和形状的光学镜面。
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