相位差薄膜整体式偏振片及其制造方法

    公开(公告)号:CN1758078B

    公开(公告)日:2010-05-05

    申请号:CN200510108460.7

    申请日:2005-10-08

    CPC classification number: G02B5/3083 G02F1/133528 G02F1/133634

    Abstract: 本发明的相位差薄膜整体式偏振片,是对在薄膜宽幅方向上具有滞相轴且Nz系数为0.9~1.1的单向性相位差薄膜和在长幅方向上被拉伸且在该方向上具有吸收轴的偏振片进行层叠而成,并使所述相位差薄膜的宽幅方向的滞相轴与所述偏振片的长幅方向的吸收轴为90°±5°。由此,本发明提供一种提高显示装置等的正面对比度和斜向对比度的相位差薄膜整体式偏振片。

    相位差薄膜整体式偏振片及其制造方法

    公开(公告)号:CN1758078A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200510108460.7

    申请日:2005-10-08

    CPC classification number: G02B5/3083 G02F1/133528 G02F1/133634

    Abstract: 本发明的相位差薄膜整体式偏振片,是对在薄膜宽幅方向上具有滞相轴且Nz系数为0.9~1.1的单向性相位差薄膜和在长幅方向上被拉伸且在该方向上具有吸收轴的偏振片进行层叠而成,并使所述相位差薄膜的宽幅方向的滞相轴与所述偏振片的长幅方向的吸收轴为90°±5°。由此,本发明提供一种提高显示装置等的正面对比度和斜向对比度的相位差薄膜整体式偏振片。

    双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体

    公开(公告)号:CN102899630B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201210268890.5

    申请日:2012-07-30

    CPC classification number: C23C14/562 Y10T428/31678

    Abstract: 本发明提供双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体,该成膜方法能够通过利用简单的装置结构适当地实施加热处理等,有效地制造在双面实施了真空成膜的层积体。卷成卷筒状的长基体的第一面作为被成膜面,沿从第一辊室朝向第二辊室的第一方向从第一辊室输出卷筒状的长基体,使沿第一方向输出的基体脱气,在第二成膜室在基体第一面将第二膜材料成膜,在第二辊室将使第二膜材料成膜的基体卷绕成卷筒状,沿从第二辊室朝第一辊室的第二方向从第二辊室输出,在第一成膜室在第二膜材料上将第一膜材料成膜,在第一辊室将在第二膜材料上层积第一膜材料的基体卷绕成卷筒状,将与第一辊室卷绕的基体的第一面相反侧的第二面作为被成膜面,重复上述全部处理。

    导电性薄膜和导电性薄膜卷

    公开(公告)号:CN103177801B

    公开(公告)日:2016-08-03

    申请号:CN201210541208.5

    申请日:2012-12-13

    Abstract: 本发明提供导电性薄膜和导电性薄膜卷。已知具备薄膜基材、形成于其两面上的透明导电体层、和形成于透明导电体层的表面上的金属层的导电性薄膜。卷取这种导电性薄膜形成导电性薄膜卷时,存在邻接的导电性薄膜的金属层之间相互压接的问题。本发明的导电性薄膜(10)具有薄膜基材(11)、层叠于薄膜基材(11)的一个面上的第一透明导电体层(12)、第一金属层(13)、氮化覆膜层(14)、层叠于薄膜基材(11)的另一个面上的第二透明导电体层(15)、第二金属层(16)。氮化覆膜层(14)防止邻接的导电性薄膜(10)的压接。

Patent Agency Ranking