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公开(公告)号:CN1936082A
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN200610030924.1
申请日:2006-09-07
Applicant: 复旦大学
CPC classification number: Y02E60/368
Abstract: 本发明属于化工技术领域,具体涉及一种具有光电活性的碳掺杂纳米二氧化钛薄膜的制备方法。该方法以碳化钛为原料,经过阳极氧化制备得碳掺杂纳米二氧化钛薄膜,其中输入电压为10~20V,氧化时间为1~3小时,在通电过程中,表面的碳化钛被氧化形成含C的TiO2薄膜。本发明方法制备的含C的TiO2薄膜具有多孔的纳米结构,并具有典型的n型半导体的特征,具有高的光电活性,可在太阳能电池、光分解水制氢等方面具有应用前景。
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公开(公告)号:CN1191592C
公开(公告)日:2005-03-02
申请号:CN00115362.5
申请日:2000-04-11
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明涉及一种新的透明导电薄膜及其制备方法。该薄膜以氧化铟为主氧化物,以六价元素钼或钨为掺杂元素。制备时,在玻璃基板上先镀一层氧化铟作为防扩散阻挡层,然后掺杂,控制掺杂元素的掺入量,制得透明导电薄膜氧化铟钼(钨)。该薄膜具有良好的导电性能,制备工艺也简单。
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公开(公告)号:CN201144278Y
公开(公告)日:2008-11-05
申请号:CN200720075387.2
申请日:2007-10-11
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本实用新型属于反应直流磁控溅射技术领域,具体为一种用于反应直流磁控溅射的锌钼金属镶嵌靶。在靶以直径为60mm,厚度为2-3mm锌金属圆靶为基础,在其磁溅射区内均匀对称的分布有6-24个直径为0.8-2.0mm小孔,小孔内镶嵌有直径为0.8-2.0mm的钼丝。钼/锌的原子比为0.5at%-12.5at%。使用本实用新型的溅射靶制备得到的多晶掺钼氧化锌薄膜具有低电阻和可见光范围高光学透明性的特性,而且工艺稳定性好,易于工业化生产。
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