压电陶瓷及其制造方法
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113526952A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202110413349.8

    申请日:2021-04-16

    Abstract: 本发明涉及压电陶瓷及其制造方法。提供了压电陶瓷的制造方法、压电陶瓷、压电元件、超声波马达、光学装置、除尘设备、摄像装置、超声波探头、超声波诊断装置和电子装置。提供了不含铅的压电陶瓷及该压电陶瓷的制造方法,该压电陶瓷在工作温度范围内压电常数的温度依赖性低、密度高、机械品质因数高、具有令人满意的压电常数且表面粗糙度小。该压电陶瓷的制造方法的特征在于,包括以1000℃或更高温度对含原材料的成型体进行烧结以获得烧结体;对烧结体进行研磨;以及以800℃或更高且低于1000℃的温度对研磨烧结体进行退火。

    底栅型薄膜晶体管、其制造方法及显示装置

    公开(公告)号:CN102623344B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201210074536.9

    申请日:2007-11-20

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L27/1225

    Abstract: 本发明涉及底栅型薄膜晶体管、其制造方法及显示装置。提供一种底栅型薄膜晶体管的制造方法,其包括:在衬底上形成栅电极;形成第一绝缘膜和氧化物半导体层;对所述第一绝缘膜和所述氧化物半导体层进行构图;在包含氧化气体的气氛中形成第二绝缘膜;以及对所述第二绝缘膜进行构图,以覆盖所述氧化物半导体层的沟道区域的至少一部分。

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