透明导电膜及其制造方法、元件、透明导电基板及其器件

    公开(公告)号:CN102763174B

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201180009897.9

    申请日:2011-02-15

    Abstract: 本发明提供:通过低成本且简便的涂布法,特别是在低于300℃的低温加热来形成的兼备良好透明性、高导电性、且膜强度优良的透明导电膜,及其制造方法,即:在基板上形成含有有机金属化合物的涂布膜的涂布工序;从上述涂布膜干燥形成干燥涂布膜的干燥工序;对上述干燥涂布膜一边加热一边照射能量线以形成无机膜的加热并照射能量线的工序;根据需要,经由加热还原工序的各工序而形成透明导电膜;上述加热并照射能量线的工序为:将上述干燥涂布膜在露点温度-10℃以下的含氧气氛下一边加热至低于300℃的加热温度一边照射能量线,通过除去干燥涂布膜中所含的有机成分以形成致密地填充有以金属氧化物作为主成分的导电性氧化物微粒的导电性氧化物微粒层。

    镍膜形成用涂布液与镍膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN101194041B

    公开(公告)日:2010-12-15

    申请号:CN200680020587.6

    申请日:2006-06-16

    CPC classification number: C23C18/08 H05K3/105

    Abstract: 本发明目的在于提供适用于采用涂布法,尤其是喷墨印刷法形成兼具优异的导电性和成膜性(表面平坦性)的镍膜的镍膜形成用涂布液,使用该涂布液的镍膜及其制造方法。通过制成含有甲酸镍和沸点在180℃以上低于300℃的范围的胺系溶剂作为主溶剂的镍膜形成用涂布液,可得到适用于喷墨印刷的镍膜形成用涂布液,涂布该镍膜形成用涂布液,干燥,在惰性环境气氛或还原性环境气氛下在200℃以上的温度进行烧成,可得到低电阻且膜强度(粘着力)好的均匀且平坦的镍膜。

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