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公开(公告)号：CN110849815B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN201911213585.4
申请日：2019-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种预测光学元件表面激光损伤性能的方法和系统，通过选取标准光学元件；获取所述标准光学元件的吸收性缺陷分布特性，得到不同吸收水平的缺陷密度；获取损伤性能；损伤性能包括损伤阈值和损伤密度；采用Spearman相关性分析法，确定标准光学元件的不同吸收水平的缺陷密度中与损伤性能相关性最高的缺陷密度，得到各所述损伤性能对应的缺陷密度，并建立损伤性能与其对应的缺陷密度之间的关联曲线，作为标准曲线；获取待检测光学元件的缺陷密度，根据所述标准曲线，确定所述待检测光学元件的损伤性能。本发明提供的预测光学元件表面激光损伤性能的方法和系统，能够在不损坏光学元件的基础上，提高光学元件损伤性能的评估准确性。
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公开(公告)号：CN114689179A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202011611910.5
申请日：2020-12-30
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01J5/10 , G01J3/02 , G01J3/28 , H01L31/101 , H01L27/14
Abstract: 本发明公开了一种表面等离激元超材料热释电高光谱成像系统。该系统包括面阵探测器，数据处理器和显示器。核心部件面阵探测器的像元包括热释电探测层、金属层、介质隔离层、二维材料层、离子凝胶层和电极；金属层设置在热释电探测层上方，介质隔离层设置在金属层上方，二维材料层设置在介质隔离层上方，二维材料层上方涂覆有离子凝胶层，电极的栅极设置在离子凝胶层上方，源极和漏极分别设置在离子凝胶层两侧，源极和漏极均与离子凝胶层接触，源极与第一外接电源的正极连接，栅极与第二外接电源的正极连接，漏极分别与第一外接电源的负极和第二外接电源的负极连接。本发明通过调节第一外接电源的电压和/或第二外接电源的电压能够实现高光谱成像。
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公开(公告)号：CN110398802B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201910706805.0
申请日：2019-08-01
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种光纤制作方法，该方法包括：确定纤芯初始折射率；根据纤芯初始折射率确定初始纤芯折射率结构分布函数；根据初始纤芯折射率结构分布函数确定初始纤芯结构电磁传输模场功率径向分布函数，并确定伸缩镜像函数；通过伸缩镜像函数对初始纤芯折射率结构分布函数进行修正；根据所述修正后的纤芯折射率结构分布函数确定修正后的纤芯结构电磁传输模场功率径向分布函数；判断修正后的纤芯结构电磁传输模场功率径向分布函数是否达到设计标准；如果没有达到标准，则更新伸缩镜像函数，继续对修正后的纤芯折射率结构分布函数进行修正，直到达到设计标准。本发明提供的光纤制作方法避免高功率传输时导致的自聚焦效应，进一步降低了光纤损伤。
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公开(公告)号：CN108710163B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201810436156.2
申请日：2018-05-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/10 , G02B1/14 , C09D129/04
Abstract: 一种熔石英表面镀聚乙烯醇涂层、制备方法以及应用，本发明属于光学材料制备技术领域，包括：用孔径为0.15‑0.30μm的PVDF过滤头对质量百分比为0.5％‑5％的聚乙烯醇水溶液进行过滤，最后冷却待用；通过旋涂或提拉镀膜的方式将所述聚乙烯醇镀制在表面整洁的熔石英基片后表面，干燥后得到聚乙烯醇涂层。这种聚乙烯醇涂层能够将最高电场强度的分布从熔石英后表面转移到涂层上，从而降低熔石英后表面的电场强度，其在紫外波段的激光损伤阈值提高10‑20％。这种方法工艺简单，条件温和，易于控制，成本低廉，环境友好，在光学材料领域具有良好的应用前景。
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公开(公告)号：CN110398802A
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201910706805.0
申请日：2019-08-01
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种光纤制作方法，该方法包括：确定纤芯初始折射率；根据纤芯初始折射率确定初始纤芯折射率结构分布函数；根据初始纤芯折射率结构分布函数确定初始纤芯结构电磁传输模场功率径向分布函数，并确定伸缩镜像函数；通过伸缩镜像函数对初始纤芯折射率结构分布函数进行修正；根据所述修正后的纤芯折射率结构分布函数确定修正后的纤芯结构电磁传输模场功率径向分布函数；判断修正后的纤芯结构电磁传输模场功率径向分布函数是否达到设计标准；如果没有达到标准，则更新伸缩镜像函数，继续对修正后的纤芯折射率结构分布函数进行修正，直到达到设计标准。本发明提供的光纤制作方法避免高功率传输时导致的自聚焦效应，进一步降低了光纤损伤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105738374B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201610255112.0
申请日：2016-04-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种光学元件吸收缺陷损伤特性的测试系统及方法，属于光学元件吸收缺陷的损伤特性测试领域。所述光学元件吸收缺陷损伤特性的测试系统包括光热弱吸收测试装置、损伤测试光源以及损伤监测显微镜。所述光热弱吸收测试装置用于测试待测光学元件的吸收缺陷对泵浦光的吸收值。所述损伤测试光源用于发出损伤测试激光作用于所述待测光学元件的所述吸收缺陷处。所述损伤监测显微镜用于获取所述待测光学元件的所述吸收缺陷在所述损伤测试激光的作用下的损伤特性。因此，本发明可以有效地实现对待测光学元件吸收缺陷的损伤性能的表征，进而获得待测光学元件的吸收缺陷的吸收水平与损伤特性的定量关系。
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公开(公告)号：CN105481259B
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201510892890.6
申请日：2015-12-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种提升熔石英光学元件损伤阈值的后处理方法，该方法首先利用荧光共焦显微技术检测熔石英光学元件亚表面缺陷分布的范围与尺度，然后通过KHz和MHz频率的多频超声波交替复用辅助化学腐蚀技术，针对不同深度分布的亚表面缺陷刻蚀不同的深度，针对不同尺度的亚表面缺陷采用不同的频率，逐层次的剥离亚表面缺陷层，以达到提升损伤阈值的目的。本发明对于光学元件具有全局处理能力，经过氢氟酸腐蚀处理以后抛光沉积层全部去除，暴露了亚表面损伤层中的划痕，且划痕尖锐的新貌得以很好的钝化，引入多频超声波/兆声波辅助可以作用不同尺度的划痕钝化，防止刻蚀反应副产物再沉积，提高工艺稳定性，可以极大的稳定的提升熔石英光学元件的损伤阈值。
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公开(公告)号：CN109110729A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201811019444.4
申请日：2018-09-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明提供了一种微纳结构的制备方法，包括以下步骤：在金属基板单面部分覆盖玻璃片，得到基体；在基体覆盖有玻璃片的一面进行等离子体刻蚀，得到微纳结构；所述等离子体刻蚀用气体包括含氟气体和Ar。本发明提供的微纳结构制备方法简单，由本发明实施例可知，本发明提供的方法制备得到的微纳结构形貌较好。
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公开(公告)号：CN105665921B
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201610256778.8
申请日：2016-04-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00
Abstract: 本发明实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置。第一反射装置的反射面与第二反射装置的反射面相互平行，待处理样品设置在第一反射装置的反射面与第二反射装置的反射面之间。第一反射装置与第二反射装置组成反射腔，激光光源发出的激光光束进入反射腔后，经反射腔多次反射后对待处理样品的多个预设处理点进行辐照，用以对待处理样品进行预处理。本发明实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。
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公开(公告)号：CN105738374A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201610255112.0
申请日：2016-04-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种光学元件吸收缺陷损伤特性的测试系统及方法，属于光学元件吸收缺陷的损伤特性测试领域。所述光学元件吸收缺陷损伤特性的测试系统包括光热弱吸收测试装置、损伤测试光源以及损伤监测显微镜。所述光热弱吸收测试装置用于测试待测光学元件的吸收缺陷对泵浦光的吸收值。所述损伤测试光源用于发出损伤测试激光作用于所述待测光学元件的所述吸收缺陷处。所述损伤监测显微镜用于获取所述待测光学元件的所述吸收缺陷在所述损伤测试激光的作用下的损伤特性。因此，本发明可以有效地实现对待测光学元件吸收缺陷的损伤性能的表征，进而获得待测光学元件的吸收缺陷的吸收水平与损伤特性的定量关系。
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