公开(公告)号：CN101194187A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200680020396.X

申请日：2006-06-09

Applicant: 日立化成工业株式会社 ,  三菱电机株式会社

Inventor： 冈庭香 ,  阿部浩一 ,  樱井治彰 ,  森川浩昭

IPC: G02B1/11 ,  G09F9/00

CPC classification number: G02B1/113

Abstract: 本发明提供一种防反射膜的形成方法，其具有同时进行在玻璃体表面上形成的包含防反射膜前体的涂膜的烧结处理和所述玻璃体的强化处理的工序。由此，能够以充分低的成本形成防反射膜。

公开(公告)号：CN101132896A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200580048866.9

申请日：2005-05-11

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 森川浩昭 ,  唐木田昇市 ,  河嵜贵文

IPC: B28D5/04 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明提供一种硅块及硅片的制造方法，其为了提供可以制造成在制造太阳能电池时基板损坏少、厚度薄的硅片的硅块，而使用含有磨粒和碱性物质的硅锭切割用浆液，切割硅锭来制造硅块，所述碱性物质的含量相对于所述浆液的液体成分整体的质量至少为3.5质量％；所述浆液含有相对于所述浆液的液体成分中的水分的质量比为0.5以上、5.0以下的有机胺；所述浆液的pH值为12以上，且在65℃以上、95℃以下使用所述浆液。