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公开(公告)号：CN104582960A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380043084.0
申请日：2013-09-13
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C08G73/10 , C08J5/18 , C08J2379/08 , B32B27/281
Abstract: 本发明的课题是提供一种具有光透过性高、面内相位差小、并且能够容易地从支持基材剥离的透明聚酰亚胺层的透明聚酰亚胺叠层体。为了解决上述课题，涉及一种含有支持基材、及叠层于所述支持基材上的透明聚酰亚胺层的透明聚酰亚胺叠层体的制造方法，所述方法包括下述工序：a)将含聚酰亚胺前体的溶液涂布于所述支持基材上的工序，所述含聚酰亚胺前体的溶液含有使四羧酸成分及二胺成分反应而成的聚酰亚胺前体与溶剂；以及b)在所述透明聚酰亚胺层的玻璃化转变温度以上，将包含所述含聚酰亚胺前体的溶液的涂膜的聚酰亚胺前体膜进行加热的工序；所述透明聚酰亚胺层的玻璃化转变温度为260℃以上，全光线透过率为80％以上，雾度为5％以下，L*a*b表色系统中的b值的绝对值为5以下，且面内相位差为10nm以下，从所述支持基材剥离所述透明聚酰亚胺层时的剥离强度为0.005kN/m～0.20kN/m。
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公开(公告)号：CN1278464C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN02819066.1
申请日：2002-09-25
Applicant: 三井化学株式会社 , 古河电气工业株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , H01S5/02208 , H01S5/02284 , H01S5/02415 , H01S5/02438 , H01S5/0652 , H01S5/0656 , H01S5/146 , H01S5/34
Abstract: 本发明提供半导体激光元件，其振荡激光的振荡波长稳定、振荡频谱为多模式，具备有由量子阱结构构成的活性层的层结构，且利用返回光的作用产生稳定波长的激光振荡，是其振荡频谱为多模式的Fabry-Perot型半导体激光元件，设每1层阱层的光限制系数为г、1层阱层的厚度为d(nm)时，则г与d之间满足下式：г/d≤1.3×10-3nm-1的关系。
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公开(公告)号：CN117916662A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202280061304.1
申请日：2022-09-12
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 一种防护膜组件，其具备防护膜组件框、防护膜以及粘着层。粘着层的内壁面和外壁面的至少一者满足下述式(1)。式(1)：([A2s]/[A50s])≤0.97。式(1)中，A2s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对粘着层的距表面的深度为第一深度的第一深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第一深度是通过用氩气团簇离子束即溅射离子枪对表面的600μm见方的区域进行累计2秒照射而形成的。A50s表示通过飞行时间型二次离子质谱法对深度为第二深度的第二深部进行分析而得的粘着层的主剂成分所含的部分结构的归一化强度。第二深度是通过用上述溅射离子枪对上述区域进行累计50秒照射而形成的。
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公开(公告)号：CN113917783B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202111214914.4
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN113917783A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111214914.4
申请日：2015-09-17
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：第1框体，该第1框体配置有防护膜；第2框体，该第2框体具有厚部和第2面，并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围，所述厚部包含第1面，所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面，所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面；贯通孔，该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部；以及过滤器，该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面，并覆盖上述贯通孔。
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公开(公告)号：CN107003602B
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN201680003768.1
申请日：2016-01-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 防护膜组件存在如下的问题：在制造过程中由于各种各样的原因而被尘埃等污染，特别是在修整时、对防护膜组件膜进行各种加工时，尘埃等附着的风险高。对此，本发明提供一种使尘埃等的附着减少的EUV用防护膜组件的制造方法。一种防护膜组件的制造方法，其特征在于，在基板上形成防护膜组件膜，修整基板，以及在修整后至少去除基板的一部分。此外，在去除基板的一部分之前，至少去除附着于防护膜组件膜表面的粒子。
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公开(公告)号：CN112154376A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201980031898.X
申请日：2019-06-12
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/673
Abstract: 提供支撑框、在该支撑框上设置有极紫外光光刻用的防护膜的防护膜组件、和支撑框的制造方法、以及使用它们的曝光原版和曝光装置，该支撑框在通气孔上设置有能够容易装卸的过滤器，并能够设置极紫外光光刻用的防护膜。提供的防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。
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公开(公告)号：CN105143310B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201480022641.5
申请日：2014-04-23
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C08G73/10 , B32B15/088 , C08J5/18 , C09D179/08 , G02B1/04 , G03F7/037 , H01B3/30 , H05K1/03
Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有对于碱性水溶液的适度溶解性的嵌段聚酰胺酸酰亚胺、以及使用该嵌段聚酰胺酸酰亚胺所获得的具有高透明性和低热膨胀系数(低CTE)的嵌段聚酰亚胺。本发明的嵌段聚酰亚胺包括：由下述式(1A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段。
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公开(公告)号：CN106796391B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201580046926.7
申请日：2015-09-18
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: G03F1/64 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备：配置有防护膜的第1框体；支持上述第1框体的第2框体；贯通上述第1框体的贯通孔；以及在上述第1框体的配置有上述防护膜的面侧覆盖上述贯通孔的过滤器。上述贯通孔可以贯通上述防护膜，上述过滤器可以配置在上述防护膜上。此外，上述过滤器可以与上述防护膜相邻地配置在上述第1框体上。
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公开(公告)号：CN105189623B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201480019213.7
申请日：2014-04-01
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种将厚度方向的相位差Rth控制在所期望的范围、且透明性高的聚酰亚胺膜、及用于获得该聚酰亚胺膜的聚酰胺酸、清漆。为了解决上述课题，制成一种聚酰亚胺膜，其包含使四羧酸二酐及二胺反应而成的聚酰亚胺，(a)厚度方向的相位差Rth每10μm厚度为‑5nm以上100nm以下，(b)波长为400nm的光线透射率为80％以上，(c)雾度为3％以下，且(d)玻璃化转变温度为250℃以上。
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