溶剂纯化用石墨烯薄膜及其制造方法、溶剂纯化系统

    公开(公告)号:CN107106996A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201580070499.6

    申请日:2015-08-12

    Inventor: 李承炫 金锡主

    Abstract: 本发明涉及溶剂纯化用石墨烯薄膜及其制造方法、溶剂纯化系统。本发明的溶剂纯化用石墨烯薄膜由多个石墨烯板状薄片层叠而成,层叠的多个成对石墨烯板状薄片中的至少一对石墨烯板状薄片包含连接层与层之间的物理键或者化学键,其制造方法包括:分散液形成步骤,将氧化石墨烯分散于蒸馏水,形成氧化石墨烯分散液;分散液约束步骤,将氧化石墨烯分散液约束在一对基板之间;水热反应及热还原步骤,向基板之间的所述氧化石墨烯分散液施加热和压力,进行水热反应,以使氧化石墨烯热还原并使石墨烯与石墨烯相互粘接。根据本发明,通过亲油性的表面特性和微细孔,能够实现根据极性的亲水‑亲油成分分离以及尺寸排阻分离,因此能够在精细化工领域中使用。

    薄膜前驱体化合物、使用其的薄膜形成方法及由此制备的半导体基板

    公开(公告)号:CN119325525A

    公开(公告)日:2025-01-17

    申请号:CN202380045577.1

    申请日:2023-06-07

    Inventor: 南知贤 郑在善

    Abstract: 本发明涉及一种使用薄膜前驱体化合物的薄膜形成方法、由此制备的半导体基板及半导体器件,根据本发明,提供一种薄膜前驱体化合物、使用其的薄膜形成方法及由此制备的半导体基板,其使用由规定的化学式2表示的薄膜前驱体化合物,具有以下的效果:沉积速度非常快,在注入至薄膜沉积腔室时易于处理,尤其,由于具有显著的热稳定性而纯度非常高且台阶覆盖性优异,进而,抑制副反应,从而降低薄膜生长率,即便在具有复杂结构的基板上形成薄膜时,也能够大幅提高台阶覆盖性(step coverage)及薄膜的厚度均匀性,并提高薄膜的密度,从而大幅提高薄膜的电特性。

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