公开(公告)号：CN108780774B

公开(公告)日：2023-04-11

申请号：CN201780017182.5

申请日：2017-05-12

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 山口康介 ,  吉井雄一 ,  佐佐木均 ,  前畑健吾

IPC: H01L21/683 ,  H02N13/00

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与所述第1主面的相反侧的第2主面；及基座板，设置于所述第2主面侧，支撑所述陶瓷电介体基板，其特征为，所述基座板具有调整所述处理对象物的温度的介质通过的第1连通路，所述第1连通路具有上面、侧面及下面，相对于所述第1连通路的高度，在所述上面上的最大高度Sz的偏差之比为1％以下。

公开(公告)号：CN111883473A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN202010630896.7

申请日：2015-12-10

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 穴田和辉 ,  吉井雄一

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：多结晶陶瓷烧结体即陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与第1主面相反侧的第2主面；电极层，设置于陶瓷电介体基板；基座板，设置在第2主面侧而支撑陶瓷电介体基板；及加热器，设置在电极层与基座板之间，其特征为，基座板具有：通孔，贯通基座板；及连通路，使调整处理对象物温度的介质通过，在垂直于第1主面的方向上观察时，加热器中的至少一部分存在于在从最接近通孔的连通路的第1部分观察时的通孔侧。

公开(公告)号：CN109478530A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780044701.7

申请日：2017-07-20

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 山口康介 ,  佐佐木均 ,  前畑健吾 ,  近藤俊平 ,  吉井雄一

IPC: H01L21/683 ,  H02N13/00

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，放置处理对象物；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，加热器板具有：第1、2支撑板；加热器元件，设置在第1支撑板与第2支撑板之间；第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间；及第2树脂层，设置在第2支撑板与加热器元件之间，当在层叠方向上观察时，第1支撑板的第2支撑板侧的面具有：第1区域，重叠于加热器元件；及第2区域，并不重叠于加热器元件，第2区域比第1区域更向第2支撑板侧突出。