镀液和镀覆方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103103584A

    公开(公告)日:2013-05-15

    申请号:CN201210558532.8

    申请日:2012-10-24

    CPC classification number: C25D3/38

    Abstract: 镀液和镀覆方法。本发明提供了在导电层表面上沉积铜的铜镀液,其含有整平剂,该整平剂是一种或多种特定吡啶化合物与一种与多种含环氧基团的化合物的反应产物。上述镀液在一定的电解质浓度范围内在基板表面上沉积的基本上平面的铜层。另外,本发明还提供了使用上述铜镀液镀铜层的方法。提供了一种铜电镀液,所述铜电镀液包括:铜离子源;电解质;以及整平剂,其中整平剂包含如化学式(I)的吡啶化合物与含环氧基团的化合物的反应产物。

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