公开(公告)号：CN104423159A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201410284151.4

申请日：2014-06-23

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  元东勋 ,  辛明晔 ,  田桓承

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20

CPC classification number: G02B1/04 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明涉及用于滤色片的光敏树脂组合物和使用其制备的滤色片。该光敏树脂组合物包含含有由式1表示的染料的着色剂。在式1中，Z1至Z16和M1与在本发明的具体实施方式中的相同，用式2至式5中的一种取代Z1至Z16中的1至8个，其中，X和M2与本发明的具体实施方式中的相同，并且Y、k和W与在本发明的具体实施方式中的相同。所述组合物具有高亮度、高对比度以及优异的耐热性。

公开(公告)号：CN103885291A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201310306404.9

申请日：2013-07-19

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 崔玄武 ,  李昌珉 ,  金智惠 ,  安景源 ,  柳娥凛 ,  任宰范 ,  田桓承 ,  郑周昊

IPC: G03F7/032 ,  G03F7/004 ,  G02B1/04

CPC classification number: G03F7/0007 ,  G03F7/032 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明公开一种光敏树脂组合物以及使用其的光阻挡层。该光敏树脂组合物，包含（A）粘合剂树脂，包括包含由以下化学式1表示的重复单元的cardo基树脂；（B）可光致聚合单体，（C）光致聚合引发剂，（D）着色剂和（E）溶剂。[化学式1]在上面的化学式1中，各取代基与在具体实施方式中所限定的相同。

公开(公告)号：CN103869619A

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN201310516929.5

申请日：2013-10-28

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 柳娥凜 ,  金智慧 ,  安暻源 ,  任宰范 ,  田桓承 ,  郑周昊 ,  崔玄武

IPC: G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08L33/08 ,  C08K5/0025 ,  C08L33/04 ,  C08L2312/06

Abstract: 本发明公开了光敏树脂组合物和使用其的黑色间隔体，该光敏树脂组合物包含（A）在范围为从100至150℃的温度下具有一小时半衰期的热固化引发剂；（B）光聚合引发剂；（C）粘合剂树脂；（D）光聚合性化合物；（E）着色剂；和（F）溶剂。

公开(公告)号：CN102540725B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201110374325.2

申请日：2011-11-22

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 赵显龙 ,  郑闵鞠 ,  郑知英 ,  李种和 ,  俞龙植 ,  李廷宇 ,  田桓承 ,  金洙荣 ,  金永虎 ,  金宰贤 ,  朴秀敏

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  H01L23/29

CPC classification number: G03F7/0233 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明公开了一种正性光敏树脂组合物，所述正性光敏树脂组合物包括(A)包含由下列化学式1表示的重复单元的聚苯并噁唑前体；(B)光敏重氮醌化合物；(C)硅烷化合物；(D)酚化合物；和(E)溶剂。在上述化学式1中，各个取代基与说明书中所限定的相同。本发明的正性光敏树脂组合物具有高感光度、高分辨率、良好的图案形成性能和优异的残留物除去性能。[化学式1]

公开(公告)号：CN101641390B

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN200780052470.0

申请日：2007-12-31

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  鱼东善 ,  吴昌一 ,  尹敬皓 ,  邢敬熙 ,  李镇国 ,  金钟涉 ,  田桓承 ,  南伊纳 ,  纳塔利娅·托克列娃

IPC: C08G61/12

CPC classification number: G03F7/091

Abstract: 本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合于光刻，提供了良好的光学和机械性能，并且表现出高蚀刻选择性。此外，该硬掩模组合物可以容易地通过旋涂(spin-on)施加技术而施用。有利地，该硬掩模组合物可用于短波长光刻并具有最小的残留酸含量。

公开(公告)号：CN102559206A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110219968.X

申请日：2011-07-28

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 董远锡 ,  李范珍 ,  郭泰亨 ,  朴曜徹 ,  徐孝主 ,  田桓承 ,  崔原皓

IPC: C09K19/56 ,  G02F1/1337

CPC classification number: C09K19/56 ,  G02F1/133723

Abstract: 一种液晶取向剂，包括第一聚合物，所述第一聚合物包括含以下化学通式1所示的重复单元的聚酰胺酸、含以下化学通式2所示的重复单元的聚酰亚胺或它们的组合。本发明还提供了使用所述液晶取向剂制备的液晶取向膜和包括所述液晶取向膜的液晶显示器。

公开(公告)号：CN102109763A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN201010597687.3

申请日：2010-12-20

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李廷宇 ,  俞龙植 ,  赵显龙 ,  郑知英 ,  郑斗瑛 ,  李种和 ,  郑闵鞠 ,  车明焕 ,  田桓承

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0755

Abstract: 本申请披露的内容涉及一种正性光敏树脂组合物，包括(A)选自聚苯并噁唑前体、聚酰胺酸、或它们的组合的树脂前体；(B)沸点从约210℃到约400℃范围且极性从约1D到约4D范围的溶解控制剂；(C)产酸剂；(D)硅烷基化合物；以及(E)溶剂。聚苯并噁唑前体包括由化学式1表示的重复单元，或由化学式1和2表示的两种重复单元，并且在至少一端具有热可聚合官能团。聚酰胺酸包括化学式50和51的重复单元。在化学式1和化学式2中，每个取代基与说明书中定义的相同。在化学式50和51中，每个取代基与说明书中定义的相同。

公开(公告)号：CN101681096A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200780053206.9

申请日：2007-12-31

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 尹敬皓 ,  金钟涉 ,  鱼东善 ,  田桓承 ,  吴昌一 ,  金旼秀 ,  李镇国

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/091 ,  Y10S438/952

Abstract: 本发明提供了一种具有抗反射性质的硬质掩模组合物。该硬质掩模组合物适合用于光刻且提供了优异的光学性质和机械性质。此外，该硬质掩模组合物容易通过旋涂施用技术来施加。特别地，该组合物对于干蚀刻具高度抗性。因此，该组合物可用于提供一种能够以高纵横比被图案化的多层薄膜。本发明进一步提供了一种使用该组合物形成图案的方法。

公开(公告)号：CN105229532B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201380075787.1

申请日：2013-11-05

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金民兼 ,  权孝英 ,  李俊昊 ,  田桓承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂底层组合物、图案形成方法及含有图案的半导体集成电路装置，抗蚀剂底层组合物包括化合物与溶剂，所述化合物包含由下列化学式1表示的部分。[化学式1]在上述化学式1中，A1至A3、X1、X2、L1、L2、Z以及m与说明书中所定义的相同。所述抗蚀剂底层组合物可提升光学性质、抗蚀刻性以及抗化学性。

公开(公告)号：CN104698755B

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201410211435.0

申请日：2014-05-19

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权孝英 ,  南宫烂 ,  姜真熙 ,  李范珍 ,  田桓承

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016

CPC classification number: G03F7/0233

Abstract: 本发明公开了正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜及使用其的显示装置。所述正性光敏树脂组合物包括：(A)包含由以下化学式1表示的重复单元的碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；以及(C)溶剂，[化学式1]在以上化学式1中，各取代基与在具体实施方式中定义的相同。