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公开(公告)号：CN202334785U
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201120457391.1
申请日：2011-11-17
Applicant: 株式会社V技术
Abstract: 本实用新型涉及一种三维视效偏振膜以及三维图像显示装置，其可进行三维图像显示装置的薄型化，实现制造成本的下降，并且可提高在三维图像显示装置中所显示的三维图像的亮度。所述三维视效偏振膜包括：第一保护膜，用于保护三维图像显示装置的显示面；图案相位差膜，其贴合于第一保护膜，并将由三维图像显示装置的显示板发出的光，分割成用于左眼的偏振光和用于右眼的偏振光；以及偏振膜，其包括直接贴合于图案相位差膜的偏振片、以及保护该偏振片的第二保护膜。
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公开(公告)号：CN111164502A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880063181.9
申请日：2018-11-08
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337
Abstract: 提供一种光照射装置等，不需将照射光线的光照射部倾斜，而可以使膜带生成光对准。本发明的一实施形态之中的光照射装置是包含对膜带照射偏光光线的光照射装置、及多个的运送装置，被设置在对膜带的偏光光线的照射位置的前后，用于运送膜带，其中可以改变多个的运送装置的各运送装置相对于偏光光线的照射方向的位置。
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公开(公告)号：CN105980933B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201580007561.7
申请日：2015-02-26
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F7/7015 , B41J2/447 , B41J2/47 , G03F7/2057 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03G15/04054
Abstract: 在使多个光束的射束之间微小偏转的射束曝光装置中均匀地进行多个光束的微小偏转。射束曝光装置(1)具备：光出射部(2)，从多个光出射位置(2a)射出光束(Lb)；扫描部(3)；聚光光学系统(4)，将光束(Lb)的光斑聚光于被曝光面(Ex)；及微小偏转部(5)，将多个光束(Lb)微小偏转以曝光多个光束(Lb)的射束之间。聚光光学系统(4)具备：第1微透镜阵列(41)，配置在光出射部(2a)与微小偏转部(5)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(41M)；及第2微透镜阵列(42)，配置在微小偏转部(5)与被曝光面(Ex)之间，并具备多个与光出射位置(2a)对应的微透镜(42M)。
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公开(公告)号：CN104412152B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201380034672.8
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/133753 , G02F2001/133757
Abstract: 本发明提供一种光取向曝光方法及光取向曝光装置。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光方法，其将液晶显示元件的各单位图像区域(Pa)分割为多个分割区域(Da1、Da2)，并分别向不同方向对各分割区域(Da1、Da2)的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光方法具有：第1曝光工序，相对于整个单位图像区域(Pa)的被曝光面以倾斜的光照射角度(θ1)照射光；及第2曝光工序，相对于分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)，用以与第1曝光工序中的光照射角度(θ1)不同的角度倾斜的光照射角度(θ2)照射光。第2曝光工序经由与分割区域(Da1、Da2)中的一个区域即第2分割区域(Da2)对应的掩模图案照射光，通过聚光机构(13)对掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的第2分割区域(Da2)。
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公开(公告)号：CN103885247B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410070500.2
申请日：2009-04-02
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788
Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法，其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，包括：将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤；和在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。
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公开(公告)号：CN104395832A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380034909.2
申请日：2013-03-29
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G02F2001/133757 , G03F7/201 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70308 , G03F7/70325 , G03F7/70358
Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。
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公开(公告)号：CN102246100B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN200980150397.X
申请日：2009-11-05
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1335 , G02F1/1339 , G03F1/68
CPC classification number: G02F1/133516 , G02F1/13394 , G02F2001/13396 , G03F7/203 , G03F7/70283
Abstract: 本发明是对涂敷了正性的感光材料的基板进行曝光的光掩模(3)，至少以规定的排列间距在透明基板上形成了如下掩模图案群：第1掩模图案群(16)，其以与基板上的高度不同的两种凸起状图案形成部对应的间隔具有与凸起状图案的横截面积大致相等的面积的第1遮光图案(20)；和第2掩模图案群(17)，其具有与两种凸起状图案形成部中高度较高的凸起状图案形成部对应的规定面积的第2遮光图案(22)、和与高度较低的凸起状图案形成部对应的开口图案(23)。由此，能够将高度不同的多种凸起状图案的顶部形成为大致半球面状。
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公开(公告)号：CN103314328A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201180064668.7
申请日：2011-10-24
Applicant: 株式会社V技术
CPC classification number: G03F7/20 , G03B27/10 , G03F7/70791 , G03F9/00 , Y10S430/146
Abstract: 在膜基材（20）上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜（21）的膜（2）中，在其宽度方向上的两侧缘部的至少一方涂敷有色的烧结材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成侧部涂敷膜（22），通过定位标记形成部（14）照射激光而形成定位标记（2a），使用该定位标记（2a）检测膜曲折，调整掩模（12）的位置。由此，在对膜基材上的曝光图案形成区域形成有曝光材料膜的膜进行连续曝光时，定位标记的形成及形成的定位标记的检测容易，能高精度地校正膜的曲折，能稳定地进行曝光。
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公开(公告)号：CN102947760A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201180029636.3
申请日：2011-05-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F1/42 , G03F7/20 , H01L21/20 , H01L21/268
CPC classification number: G03F1/42 , G03F1/50 , H01L21/0268
Abstract: 本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。
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