紫外线水处理装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102398958B

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201110272017.9

    申请日:2011-09-14

    CPC classification number: C02F1/325 C02F2201/3227 C02F2201/324 C02F2303/04

    Abstract: 本发明提供紫外线水处理装置。具备紫外线照射单元、将被处理水导入到紫外线照射单元的水入口管和使照射了紫外线的被处理水从紫外线照射单元流出的水出口管。紫外线照射单元具备具有相互对置设置的第1及第2开口的周围壁的中空护罩。在护罩内设有紫外线照射设备,分别具备紫外线灯和保护套筒且相互平行地设置1个或1个以上,对通过中空护罩而流动的被处理水照射紫外线。在中空护罩内设有保护套筒清扫设备,具备清扫各保护套筒表面的清扫工具和驱动机构。水入口管与第1开口直接流体连通,使被处理水流入中空护罩。水出口管与第2开口直接流体连通,使照射了紫外线的被处理水从中空护罩流出。入口管及出口管的中心轴分别与中空护罩的中心轴交叉。

    水处理系统
    27.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101164914B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN200710152915.4

    申请日:2005-04-22

    Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化,进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水,排出已处理的处理水的处理槽;将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置;测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段;使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率,根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系,算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段;按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率,控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。

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