-
公开(公告)号：CN101300195B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200680040977.X
申请日：2006-11-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/32 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328
Abstract: 紫外线照射水处理装置(10)由具有圆筒形侧面部(21)的容器(20)构成，在容器(20)内设置有与侧面部(21)的中心轴(S)平行的多个棒状的紫外线灯(30A)～(30F)。另外，沿着侧面部(21)的内周的切线方向的位置的侧面部(21)的外壁上设有用于使被处理水(W1)流入的被处理水入口管(22)。
-
公开(公告)号：CN101300195A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680040977.X
申请日：2006-11-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/32 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328
Abstract: 紫外线照射水处理装置(10)由具有圆筒形侧面部(21)的容器(20)构成，在容器(20)内设置有与侧面部(21)的中心轴(S)平行的多个棒状的紫外线灯(30A)～(30F)。另外，沿着侧面部(21)的内周的切线方向的位置的侧面部(21)的外壁上设有用于使被处理水(W1)流入的被处理水入口管(22)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101468822A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200810190211.0
申请日：2008-12-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/00
CPC classification number: C02F1/444 , B01D61/18 , B01D61/22 , B01D65/02 , B01D65/027 , B01D2321/00 , B01D2321/04 , C02F1/32 , C02F1/38 , C02F1/5236 , C02F2209/006 , C02F2209/02 , C02F2209/03 , C02F2209/11 , C02F2209/40 , C02F2209/42
Abstract: 公开了一种水处理系统，包括：原水箱(2)；包括过滤膜的过滤膜模块(3)；用于将原水从原水箱供给到过滤膜模块的供给泵(P1)；已过滤水箱(4)，所述已过滤水箱接收和暂时储存被传递通过过滤膜模块的过滤膜的已过滤水；回洗泵(P2)，所述回洗泵使已过滤水从已过滤水箱回流到过滤膜模块；阀(V4，V6)和通道(L3，L6)，所述阀和通道使水流方向在正向和反向之间切换；控制器(9)，所述控制器用于暂停从原水箱到过滤膜模块的原水供给、将阀和通道切换到反向、使回洗泵将已过滤水从已过滤水箱供给到过滤膜模块，从而回洗过滤膜；以及清洗排放物处理装置(5，6，7，8，13，14和15)，所述清洗排放物处理装置处理由过滤膜的回洗产生的回洗排放物并使水返回原水箱。
-
公开(公告)号：CN1495130A
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN03124937.X
申请日：2001-11-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/00 , C02F1/44 , G01N23/223
CPC classification number: B01D61/16 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/22 , B01D2311/04 , C02F1/008 , C02F1/283 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F1/78 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/40 , Y10S210/908 , B01D2311/16
Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入设备，和在活性炭注入部分(4a)的上游侧设置的荧光分析仪(7)和流水流量计(6)。根据荧光分析仪(7)的测定值，活性炭注入率演算装置(8)求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计(6)的测定值，由活性炭注入量控制装置(9)对活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。
-
公开(公告)号：CN1246227C
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN03124937.X
申请日：2001-11-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/00 , C02F1/44 , G01N23/223
CPC classification number: B01D61/16 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/22 , B01D2311/04 , C02F1/008 , C02F1/283 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F1/78 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/40 , Y10S210/908 , B01D2311/16
Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入设备，和在活性炭注入部分(4a)的上游侧设置的荧光分析仪(7)和流水流量计(6)。根据荧光分析仪(7)的测定值，活性炭注入率演算装置(8)求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计(6)的测定值，由活性炭注入量控制装置(9)对活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。
-
公开(公告)号：CN1145590C
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：CN01143365.5
申请日：2001-11-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F9/04 , G01N23/223
CPC classification number: B01D61/16 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/22 , B01D2311/04 , C02F1/008 , C02F1/283 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F1/78 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/40 , Y10S210/908 , B01D2311/16
Abstract: 本发明的目的是提供一种使用荧光分析仪的水处理控制系统，它利用荧光分析仪测定原水或处理水的相对荧光强度，利用由荧光分析仪的测定值，控制处理方法以降低三卤甲烷的生成能力。该使用荧光分析仪的水处理控制系统包括：向被处理水中注入注入剂的注入机构(4a)、测定被处理水相对荧光强度的荧光分析仪(7)、测定被处理水流量的流水流量计(6)、和根据荧光分析仪的测定值，求出降低三卤甲烷生成能力需要注入剂的注入率，利用该注入剂的注入率和流水流量计的流量，控制注入机构的控制装置(9)，其中，注入剂是活性炭、氯、臭氧、凝集剂。
-
公开(公告)号：CN1373095A
公开(公告)日：2002-10-09
申请号：CN01143365.5
申请日：2001-11-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F9/04 , G01N23/223
CPC classification number: B01D61/16 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/22 , B01D2311/04 , C02F1/008 , C02F1/283 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F1/78 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/40 , Y10S210/908 , B01D2311/16
Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分4a的活性炭注入设备,和在活性炭注入部分4a的上游侧设置的荧光分析仪7和流水流量计6。根据荧光分析仪7的测定值,活性炭注入率演算装置8求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计6的测定值,由活性炭注入量控制装置9对活性炭注入部分4a控制活性炭注入量。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.013 seconds)
