公开(公告)号：CN1495130A

公开(公告)日：2004-05-12

申请号：CN03124937.X

申请日：2001-11-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 村山清一 ,  黑川太 ,  金子政雄 ,  居安巨太郎 ,  田口健二 ,  久保贵惠 ,  环省二郎 ,  平本昭 ,  林巧 ,  海贺信好

IPC: C02F1/00 ,  C02F1/44 ,  G01N23/223

CPC classification number: B01D61/16 ,  B01D61/145 ,  B01D61/147 ,  B01D61/22 ,  B01D2311/04 ,  C02F1/008 ,  C02F1/283 ,  C02F1/44 ,  C02F1/444 ,  C02F1/52 ,  C02F1/76 ,  C02F1/78 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/40 ,  Y10S210/908 ,  B01D2311/16

Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入设备，和在活性炭注入部分(4a)的上游侧设置的荧光分析仪(7)和流水流量计(6)。根据荧光分析仪(7)的测定值，活性炭注入率演算装置(8)求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计(6)的测定值，由活性炭注入量控制装置(9)对活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。

公开(公告)号：CN1246227C

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN03124937.X

申请日：2001-11-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 村山清一 ,  黑川太 ,  金子政雄 ,  居安巨太郎 ,  田口健二 ,  久保贵惠 ,  环省二郎 ,  平本昭 ,  林巧 ,  海贺信好

IPC: C02F1/00 ,  C02F1/44 ,  G01N23/223

CPC classification number: B01D61/16 ,  B01D61/145 ,  B01D61/147 ,  B01D61/22 ,  B01D2311/04 ,  C02F1/008 ,  C02F1/283 ,  C02F1/44 ,  C02F1/444 ,  C02F1/52 ,  C02F1/76 ,  C02F1/78 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/40 ,  Y10S210/908 ,  B01D2311/16

Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入设备，和在活性炭注入部分(4a)的上游侧设置的荧光分析仪(7)和流水流量计(6)。根据荧光分析仪(7)的测定值，活性炭注入率演算装置(8)求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计(6)的测定值，由活性炭注入量控制装置(9)对活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。

公开(公告)号：CN1145590C

公开(公告)日：2004-04-14

申请号：CN01143365.5

申请日：2001-11-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 村山清一 ,  黑川太 ,  金子政雄 ,  居安巨太郎 ,  田口健二 ,  久保贵惠 ,  环省二郎 ,  平本昭 ,  林巧 ,  海贺信好

IPC: C02F9/04 ,  G01N23/223

CPC classification number: B01D61/16 ,  B01D61/145 ,  B01D61/147 ,  B01D61/22 ,  B01D2311/04 ,  C02F1/008 ,  C02F1/283 ,  C02F1/44 ,  C02F1/444 ,  C02F1/52 ,  C02F1/76 ,  C02F1/78 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/40 ,  Y10S210/908 ,  B01D2311/16

Abstract: 本发明的目的是提供一种使用荧光分析仪的水处理控制系统，它利用荧光分析仪测定原水或处理水的相对荧光强度，利用由荧光分析仪的测定值，控制处理方法以降低三卤甲烷的生成能力。该使用荧光分析仪的水处理控制系统包括：向被处理水中注入注入剂的注入机构(4a)、测定被处理水相对荧光强度的荧光分析仪(7)、测定被处理水流量的流水流量计(6)、和根据荧光分析仪的测定值，求出降低三卤甲烷生成能力需要注入剂的注入率，利用该注入剂的注入率和流水流量计的流量，控制注入机构的控制装置(9)，其中，注入剂是活性炭、氯、臭氧、凝集剂。

公开(公告)号：CN1373095A

公开(公告)日：2002-10-09

申请号：CN01143365.5

申请日：2001-11-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 村山清一 ,  黑川太 ,  金子政雄 ,  居安巨太郎 ,  田口健二 ,  久保贵惠 ,  环省二郎 ,  平本昭 ,  林巧 ,  海贺信好

IPC: C02F9/04 ,  G01N23/223

CPC classification number: B01D61/16 ,  B01D61/145 ,  B01D61/147 ,  B01D61/22 ,  B01D2311/04 ,  C02F1/008 ,  C02F1/283 ,  C02F1/44 ,  C02F1/444 ,  C02F1/52 ,  C02F1/76 ,  C02F1/78 ,  C02F2209/001 ,  C02F2209/003 ,  C02F2209/40 ,  Y10S210/908 ,  B01D2311/16

Abstract: 使用荧光分析仪的水处理控制系统包括具有活性炭注入部分4a的活性炭注入设备,和在活性炭注入部分4a的上游侧设置的荧光分析仪7和流水流量计6。根据荧光分析仪7的测定值,活性炭注入率演算装置8求出降低三卤甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根据该活性炭注入率和流水流量计6的测定值,由活性炭注入量控制装置9对活性炭注入部分4a控制活性炭注入量。